[发明专利]非周期阵列天线设计方法有效

专利信息
申请号: 201310704401.0 申请日: 2013-12-19
公开(公告)号: CN103646144B 公开(公告)日: 2017-03-08
发明(设计)人: 陈蕾;张天龄;余剑峰;王超;史小卫 申请(专利权)人: 西安电子科技大学
主分类号: G06F17/50 分类号: G06F17/50;H01Q21/00
代理公司: 北京同立钧成知识产权代理有限公司11205 代理人: 刘芳
地址: 710071 陕*** 国省代码: 陕西;61
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摘要:
搜索关键词: 周期 阵列 天线 设计 方法
【权利要求书】:

1.一种非周期阵列天线设计方法,其特征在于,包括:

建立非周期阵列天线单元模型组,所述非周期阵列天线单元模型组用于作为非周期阵列天线中天线单元的模板组合,所述非周期阵列天线单元模型组中包括至少两个天线单元模型,其中每个天线单元模型与相邻的天线单元模型的间距均不同,并且每个天线单元模型的方向图和有源电压驻波比均满足设计要求;

建立初始非周期阵列天线模型,所述初始非周期阵列天线模型中包括至少三个天线单元;

对所述初始非周期阵列天线模型依次循环使用优化算法综合优化、根据优化结果更新所述非周期阵列天线模型并使用所述非周期阵列天线单元模型组中的天线单元模型更新天线单元、全波分析处理,当在一次循环处理过程中使用所述优化算法得到的方向图和使用全波分析得到的方向图误差不超过预设阈值时,得到非周期阵列天线的设计结果。

2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述建立非周期阵列天线单元模型组,所述非周期阵列天线单元模型组用于作为非周期阵列天线中天线单元的模板组合,所述非周期阵列天线单元模型组中包括至少两个天线单元模型,其中每个天线单元模型与相邻的始天线单元模型的间距均不同,并且每个天线单元模型的方向图和有源电压驻波比均满足设计要求,包括:

步骤A:建立初始天线单元模型,所述初始天线单元模型的方向图和电压驻波比满足设计要求;

步骤B:建立初始非周期阵列天线单元模型组,所述初始非周期阵列天线单元模型组中包括至少两个初始天线单元模型,其中每个初始天线单元模型与相邻的初始天线单元模型的间距均不同;

步骤C:调整所述初始非周期阵列天线单元模型组中天线单元模型的模型参数,使所述初始非周期阵列天线单元模型组中每一天线单元模型的有源电压驻波比均满足设计要求,得到所述非周期阵列天线单元模型组;

所述建立初始非周期阵列天线模型,所述初始非周期阵列天线模型中包括至少三个天线单元,包括:

步骤D:建立所述初始非周期阵列天线模型,所述初始非周期阵列天线模型中包括至少三个由所述初始天线单元模型组成的天线单元;

所述对所述初始非周期阵列天线模型依次循环使用优化算法综合优化、根据优化结果更新所述非周期阵列天线模型并使用所述非周期阵列天线单元模型组中的天线单元模型更新天线单元、全波分析处理,当在一次循环处理过程中使用所述优化算法得到的方向图和使用全波分析得到的方向图误差不超过预设阈值时,得到非周期阵列天线的设计结果,包括:

步骤E:使用优化算法对所述初始非周期阵列天线模型中天线单元的间距进行综合优化,得到优化后的非周期阵列天线模型,以使所述优化后的非周期阵列天线模型的方向图满足设计要求;

步骤F:根据所述优化后的非周期阵列天线模型中天线单元与相邻的天线单元的间距,将所述优化后的非周期阵列天线模型中的每一天线单元替换为所述非周期阵列天线单元模型组中的天线单元模型,得到更新后的非周期阵列天线模型;

步骤G:对所述更新后的非周期阵列天线模型进行全波分析,若所述全波分析得到的方向图与所述优化算法得到的方向图误差超过预设阈值,则再次对所述更新后的非周期阵列天线模型依次进行所述步骤E、步骤F和步骤G的处理,直到所述全波分析得到的方向图与所述优化算法得到的方向图误差不超过预设阈值;

步骤H:将所述更新后的非周期阵列天线模型作为非周期阵列天线设计结果。

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