[发明专利]提升消光比的装置在审
申请号: | 201310516672.3 | 申请日: | 2013-10-28 |
公开(公告)号: | CN104579472A | 公开(公告)日: | 2015-04-29 |
发明(设计)人: | 温运生 | 申请(专利权)人: | 华为技术有限公司 |
主分类号: | H04B10/25 | 分类号: | H04B10/25;H04B10/075;G02B6/26 |
代理公司: | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人: | 刘芳 |
地址: | 518129 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 提升 装置 | ||
1.一种提升消光比的装置,包括直接调制激光器DML、隔离器和光纤,其特征在于,还包括依次设置的第一滤波片、透镜、第二滤波片以及光电二极管组件;所述隔离器设置在所述DML和所述第一滤波片之间;所述透镜设置在所述光纤和所述第二滤波片之间;
其中,所述第一滤波片用于提升所述DML输出的光信号的消光比;
所述透镜用于使所述光信号与所述透镜中心光轴形成夹角,以使所述第二滤波片将所述光信号反射至所述光纤进行传输;
所述第二滤波片用于对所述光信号进行上下行分光;
所述光电二极管组件包括第一光电二极管和第二光电二极管;其中:
所述第一光电二极管用于检测下行光信号的状态并反馈给所述DML;所述第二光电二极管用于对上行光信号进行光电转换。
2.根据权利要求1所述的装置,其特征在于,所述光信号与所述透镜中心光轴的夹角小于10°。
3.根据权利要求2所述的装置,其特征在于:
所述DML偏移所述透镜中心光轴的距离为:h=f*sin(θ);
其中,h表示所述DML偏移所述透镜中心光轴的距离,f表示所述透镜的焦距,θ表示所述光信号与所述透镜中心光轴的夹角。
4.根据权利要求1所述的装置,其特征在于,所述下行光信号的状态包括下行光信号的强度、幅度以及相位。
5.根据权利要求1-4任一所述的装置,其特征在于,所述第一滤波片以及所述第二滤波片均为波分复用WDM滤波片。
6.根据权利要求5所述的装置,其特征在于,所述第二滤波片对上行光信号进行透射;所述第二滤波片对大于95%的下行光信号进行反射,对小于等于5%的所述下行光信号进行透射以使所述第一光电二极管对所述下行光信号的状态进行检测。
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