[发明专利]一种絮核装置

说明书

技术领域

本发明涉及水处理净化过程中增强絮凝效果的一种絮核装置。 

背景技术

完成絮凝过程的絮凝池(一般常称反应池)，在净水处理中占有重要的位置地位。天然水中的悬浮物质及胶体物质的粒径非常细小，为了去除这些物质，通常借助于混凝的手段，即在原水中加入适当的混凝剂，经过充分混和，使胶体稳定性破坏（脱稳）并与混凝剂水解后的聚合物相吸附，使颗粒具有絮凝性能。而絮凝池的目的就是创造合适的水力条件使这种具有絮凝性能的颗粒在相互接触中聚集，以形成较大的絮凝体。理想的絮凝池，池内水流速度应由大到小逐渐变化，G值（速度梯度）也逐渐减小。 

目前，常规工艺是加药进行混合后进入絮凝池，常用的絮凝池有隔板式、折板式、栅条（网格）式、机械搅拌、穿孔旋流式、波形板式等形式。这些形式的絮凝池均为间歇变速，G值在隔板或折板处均会有突变，无法实现G值连续递减，而絮体在水中是一种连续长大的过程，从而对已形成的絮体产生破坏。 

为了克服上述缺陷，公告号为CN202440355U的中国实用新型专利公开了一种絮凝装置，包括含有絮凝腔的壳体，壳体的下段为下锥式圆台体，上段为圆筒体，下锥式圆台体的底部有进水管，底端部有排污口，圆筒体的上部有出水管；絮凝腔内设置由若干层带有通孔的分配板组成的组合式碟形絮凝构件，组合式碟形絮凝构件的若干分配板包括斜状通孔分配板和竖状通孔分配板。壳体的下锥式圆台体部分的特点是：在水流方向上圆锥面积逐渐增大，过水面积逐渐增加，水流流速由大到小连续变速，速度梯度逐步降低，能加强絮凝晶核间的碰撞几率，创造较优的水力条件；组合式碟形絮凝构件的分配板可不断改变水流方向并增加颗粒碰撞次数或机率。上述絮凝装置中，水流穿过每层孔板时水流速产生突变，不利于絮体的成长；絮凝腔不仅包括壳体的下锥式圆台体部分，还包括壳体的圆筒体部分，在壳体的圆筒部分内的流体速度不发生变化，絮凝反应过程中的G值并非连续递减，这样的絮凝反应过程并非理想的絮凝反应过程，絮凝效果并非最佳；另外，上述絮凝腔中的组合式碟形絮凝构件结构复杂，加工成本高。 

发明内容

本发明的主要目的是提供一种絮核效果好、絮核速度快，且絮核体由小变大是一种连续过程的絮核装置。 

本发明提供的絮核装置，包括空心的上大下小的台体、与台体上端相连的上筒体和与台体下端相连的下筒体；下筒体连接有进水管和排污管；上筒体连接有出水管；台体和下筒体的连接处内部设置有格栅；台体内部填装有填料；台体的上截面积F1与下截面积F2之比为3:1～4:1，台体的高度H为2.5～3.5 。 

上述技术方案的絮核装置，对台体的尺寸进行特定设计，有如下优点：1、絮核反应仅发生在台体部分，水流通过装置时，从下至上，任一截面流速都不相同，任一截面阻力也不相同，同时任一截面G值也不相同，从下至上G值呈连续变化，更符合絮体在水中是一种连续长大的过程，使絮凝反应更接近理想状态；2、水流通过装置时，呈不规则、无序流动便于絮体相互碰撞，加速絮体的长大；3、将反应絮凝时间缩短至10分钟以内，比常规设计要快5～20分钟；4、不会破坏絮核体，还增加了絮核体的密实度，以便后续工序快速沉淀。 

进一步的，本发明提供的絮核装置，其格栅的过水面积控制在台体下截面积的0.6～0.8倍之间。这种设计使水流速度得到控制，保证过流速度跟下筒体的速度之间有个平滑的过度，不至于引起突变。 

更好的，本发明提供的絮核装置，其出水管的管口在水位以下。 

进一步的，本发明提供的絮核装置，其下圆筒的下端装有检修人孔。 

上述设计使絮核装置结构更合理，使用更方便。 

更优的，本发明提供的絮核装置，其台体、上筒体和下筒体的横截面为圆形、正方形、长方形或椭圆形。 

更好的，本发明提供的絮核装置，其台体、上筒体或下筒体的材料为钢材、钢筋混凝、土或塑料。 

上述技术方案的絮核装置，台体、上筒体和下筒体的结构和材料可以有更多的选择，适用性强。 

更好的，本发明提供的絮核装置，其内部的填料包括鲍尔环、拉西环、海尔环或阶梯环。 

上述技术方案的絮核装置，采用鲍尔环、拉西环、海尔环或阶梯环作为填充材料，成本低，制造方便。 

进一步的，本发明提供的絮核装置，其填料的装填方式为乱堆或堆砌。 

上述技术方案的絮核装置，填料的装填方式可以是无固定规律的乱堆砌，也可以有一定规律的堆砌，操作简单，生产效率高。 

较优的，本发明提供的絮核装置，其填料的材料为陶瓷、不锈钢或塑料。