[实用新型]一种分体便器本体通水路施釉循环系统

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种分体便器本体通水路施釉循环系统。

背景技术

目前，在现有陶瓷企业中，对陶瓷坯体进行施釉可以增强坯体的强度，使其光滑致密，对陶瓷座便器也不例外，一般采用负压机构将带有釉药的媒介物通过便器通水路完成对便器通水路的施釉，对人员的技术能力要求高，而且容易导致施釉釉药厚度不均匀。

实用新型内容

本实用新型要解决的技术问题是：基于对分体便器本体通水路进行施釉存在的施釉不均匀的问题，提供一种可简单操作就能完成对分体便器本体通水路施釉的循环系统。

本实用新型为解决技术问题提供的技术方案：

一种分体便器本体通水路施釉循环系统，包括：

两个密封机构，所述两个密封机构设置在便器本体上方，其中一个与所述便器本体的内腔开口选择性的密封连接，另一个与所述便器本体的进水孔选择性的密封连接；

两个上压气缸，其中一个上压气缸设置在所述其中一个密封机构的上方，与所述其中一个密封机构连接，驱动所述其中一个密封机构沿竖直方向做往复运动，另一个上压气缸设置在所述另一个密封机构的上方，与所述另一个密封机构连接，驱动所述另一个密封机构沿竖直方向做往复运动；

工作台，其以可旋转的方式设置，所述工作台上开设有与所述便器本体的出水口选择性连通的第二开口，且所述第二开口上设置有第一电磁阀；

釉药罐，其通过一釉药输送管道通过一泵选择性的连通至所述第二开口；

釉药回收罐，其通过一釉药回收管道选择性的连通至所述第二开口，且所述釉药回收罐还连接至一抽真空装置。

优选的是，所述其中一个密封机构为密封盖体，其外周具有与所述便器本体的内腔开口相配的橡胶圈，且所述密封盖体的下方设置有液位检测机构。

优选的是，所述另一个密封机构为密封塞。

优选的是，所述工作台设置在一支架上，且以可相对所述支架旋转的方式设置，一电机连接至所述工作台，驱动所述工作台旋转。

优选的是，所述电机输出轴通过轴连器连接至齿轮减速器的输入轴，而所述齿轮减速器的输出轴通过轴连器连接至所述工作台。

优选的是，所述釉药罐设置在所述釉药回收罐的下方，且所述釉药回收罐通过第二回收管道连通至所述釉药灌，所述第二回收管道上设有一阀门。

优选的是，所述釉药输送管道上设有第二电磁阀，所述釉药回收管道上设置有第三电磁阀。

优选的是，所述的分体便器本体通水路施釉循环系统还包括控制装置，其与所述电机、所述第一电磁阀、第二电磁阀和第三电磁阀以及所述上压气缸有信号连接。由于电机、电磁阀属于强电设备，若要通过控制器控制它们必须有继电器或是其他的驱动模块驱动它们才能正常工作。

优选的是，所述控制装置设有通讯口，与计算机通讯连接。计算机通过所述通讯口将所述控制装置要运行的程序送到控制器，控制装置按程序驱动相应设备执行相应的动作。

本实用新型很好的结合了人力资源和计算机资源，通过两种资源的配合使对分体便器本体通水路的施釉操作更加方便，而且达到施釉釉药厚度均匀的有益效果，提高了排污性能，同时采用了釉药回收装置，节约了釉药资源。

附图说明

图1为本实用新型分体便器本体通水路施釉循环系统的结构示意图。

具体实施方式

下面结合附图对本实用新型做进一步的详细说明，以令本领域技术人员参照说明书文字能够据以实施。

如图1所示，本实用新型提供一种分体便器本体通水路施釉循环系统，包括：两个密封机构、旋转工作台3、通釉系统和控制装置16。

两个密封机构均设置在便器本体的上方，一个为密封塞15，通过一个上压气缸1与便器本体的进水孔4可选择的密封连接，另一个密封机构为密封盖体6，通过另外一个上压气缸1与便器内腔开口5可选择的密封连接。其中上压气缸通过控制装置控制可以沿竖直方向做往复运动，一开始密封机构位于便器本体的上方，当施釉完成时，密封机构才在上压气缸的作用下往下运动，使便器本体的进水孔和内腔开口密封。

旋转工作台水平设置在一支架上，用于托住所要通釉的便器本体，它通过一电机控制其旋转，电机通过第一继电器来控制启闭，所述旋转工作台设有与所述便器本体通水路的出水口选择性连通的第二开口，第二开口处设置有第一电磁阀10，当其阀门打开时，第二开口与便器本体通水路的出水口连通，可以对通水路通釉，当通釉完成时关闭阀门。

通釉系统主要包括釉药罐2、釉药回收罐17，釉药罐设置在釉药回收罐的下方。