[实用新型]UV减黏保护膜有效

专利信息
申请号: 201220529793.2 申请日: 2012-10-16
公开(公告)号: CN202847016U 公开(公告)日: 2013-04-03
发明(设计)人: 黄启华;陈俊发;李攸轩 申请(专利权)人: 山太士股份有限公司
主分类号: B32B17/10 分类号: B32B17/10;B32B27/08;B32B27/20;B32B29/06;B32B7/06
代理公司: 北京科龙寰宇知识产权代理有限责任公司 11139 代理人: 孙皓晨
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: uv 保护膜
【说明书】:

技术领域

实用新型涉及一种玻璃蚀刻工艺中作为保护本体的保护胶带领域,特别涉及一种在蚀刻工艺中,贴覆于一玻璃基材的一表面以达到保护不需蚀刻部位及增强玻璃强度的UV减黏保护膜。

背景技术

按,一般玻璃基材在制造过程中,特别是针对如:一、边缘蚀刻制程:其通常是应用于经过裂片后对其边缘进行二次强化来增加强度;二、单面蚀刻制程,用以减薄玻璃基材的厚度,而针对其单面进行蚀刻。

于上述两种蚀刻制程中,为保护其表面于蚀刻过程中不致受到伤害,大多会使用如:利用静电作吸附的静电胶片,或者是具有黏性的胶膜等,吸附或贴覆于该玻璃基材的表面,而利用该静电胶片及该胶膜的材质达到保护其表面的效果。

然而,对静电膜片而言,由于仅靠静电进行吸附,其附着效果并不佳,因此,经常有在蚀刻过程中发生脱落而无法发挥其保护效果。反观,具有黏性的该胶膜,是于一表面上涂布有一胶体,并藉由该胶体发挥黏性后而贴覆于该玻璃基材的表面,由于该胶体的黏性并不会在蚀刻过程中脱落,相对地,当蚀刻制程完毕后也不容易被去除,不仅容易造成残胶问题,甚至还有可能在使用于大面积的该玻璃基材时,因撕除不当而造成该玻璃基材的破裂,以上两种保护方式在实际操作时因有不同的缺点,而影响到使用时的保护效果,故有必要加以改良。

实用新型内容

有鉴于此,本实用新型的目的,旨在提供一种UV减黏保护膜,由具有耐酸碱腐蚀特性,且经过紫外光照射后会硬化的一保护胶体,经涂布于一载体后而制成,据而利用该保护胶体完全覆盖于一玻璃基材的一表面,而在蚀刻制程中能够保护该表面不受到伤害。并且,该保护胶体经过紫外线照射后硬化,而能轻易地与该玻璃基材分离,以彻底避免该玻璃基材于加工过程或加工完毕后受到损伤,大幅提升成品的质量。

本实用新型的次一目的,旨在提供一种UV减黏保护膜,于该载体的周缘设有至少一凸片,以作为分离时的拿持用途,以提升使用时的便利性。

为达上述目的,本实用新型UV减黏保护膜,以贴覆于一玻璃基材的一表面,作为制程的一保护手段,其包括:一载体,是对应该玻璃基材形状而制成的一薄片结构体;及一保护胶体,涂布于该载体的至少一面,且其覆盖率介于60%~99%,该保护胶体为耐酸碱腐蚀的UV胶,该保护胶体连同该载体一并完全贴覆于该玻璃基材的一面,而利用该保护胶体防酸碱腐蚀,该保护胶体经紫外光照射后会硬化而与该玻璃基材可轻易分离。其中,该载体的周缘设有至少一凸片,其对应操作者的手指形状而制成,以便操作者拿持,而在紫外光照射后便于取下。

于一实施例中,本实用新型的该UV减黏保护膜,更具有一离型纸,该离型纸贴覆于该保护胶体的一面,且不会与该保护胶体相黏合。

其中,该载体的透光率介于30%至95%,且该载体选自如聚乙烯对苯二甲酸酯(polyethylenet erephthalate,PET)、聚萘二甲酸乙二酯(Polyethylene naphthalate,PEN)、聚醚砜(Polyether sulfone,PES)、聚酰亚胺(Polyimide,PI)及其混合物的塑料聚合物等其中的一种。

并且,该保护胶体能够吸收紫外光波长范围为200~420nm,且该保护胶体为透明或有颜色而便于操作者检验该玻璃基材表面情况;于一实施例中,该保护胶体的涂布厚度介于0.001mm~0.1mm。

附图说明

图1为本实用新型较佳实施例的立体分解图;

图2为本实用新型较佳实施例的立体外观图;

图3为本实用新型较佳实施例使用时的剖视图;

图4为本实用新型较佳实施例另一种实施态样。

附图标记说明:1-UV减黏保护膜;11-载体;111-凸片;12-保护胶体;13-离型纸;2-玻璃基材。

具体实施方式

为使本领域技术人员能清楚了解本实用新型的内容,下面仅结合说明书附图详细说明,敬请参阅。

请参阅图1、图2、图3,为本实用新型较佳实施例的立体分解图、立体外观图及其使用时的剖视图。如图中所示,本实用新型的UV减黏保护膜1供贴覆于一玻璃基材2的一表面,作为制程的一保护手段,该UV减黏保护膜1包括一载体11、一保护胶体12及一离型纸或离型膜13。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于山太士股份有限公司,未经山太士股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201220529793.2/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top