[实用新型]一种自适应型双包层涂覆装置有效

专利信息
申请号: 201220302327.0 申请日: 2012-06-27
公开(公告)号: CN203021456U 公开(公告)日: 2013-06-26
发明(设计)人: 苑立波;王霞光 申请(专利权)人: 无锡万润光子技术有限公司
主分类号: C03C25/12 分类号: C03C25/12
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 214131 江苏省无锡市*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 自适应 包层 装置
【说明书】:

(一)技术领域

本实用新型涉及一种自适应型双包层涂覆装置,用于小型光纤拉丝塔或者类似的细丝拉丝过程中的外表涂覆。属于光纤技术领域。 

(二)背景技术

石英玻璃光纤在制作的过程中玻璃基体不可避免地存在微小的不均匀性、高温熔融骤冷拉丝使表面形成应力分布不均匀、及环境尘埃、机械损伤等致使光纤表面产生一些微裂纹。由于光纤存在这些缺陷,因此可导致光纤在生产过程中出现低强度断裂。这些缺陷大致可分为内部缺陷和表面缺陷,内部缺陷主要预制棒中夹杂的气泡和杂质。表面缺陷主要形式是微裂纹和微尘沾污,它与预制棒表面损伤,拉丝炉和环境的洁净度,涂覆质量等因素有密切关系。光纤涂层的作用是保护光纤表面不会受到机械损伤和潮气的影响并保持其原有的强度,若涂层太薄或偏心就会失去机械保护的作用。涂层的同心度在拉丝过程中容易变化,因此在拉丝过程中涂层的均匀性对光纤强度和质量有较大的影响。 

涂覆过程中,另一个影响光纤强度的因素是涂层中的气泡。气泡的产生主要是因为拉丝中,光纤在模具中位置发生偏移,使得涂料形成的半月型液面发生倾斜,角度较小侧受到压力增加,气体容易被光纤带入涂层中。涂层中的气泡,降低了涂层和涂层之间以及涂层和裸光纤之间的结合力。并且气泡的存在增加了涂层在受到拉力情况下,产生裂纹的可能性,最终导致光纤强度降低。为了克服拉丝过程中这些随机变换对涂覆层均匀性的影响,专利号为200920236041.5的实用新型专利公开了一种用于光纤涂覆的对称进料涂覆模座,该模座体内的模具安装腔连通的内涂供料管道和外涂供料管道,内涂供料管道和外涂供料管道在模座体上为双边对称设置,因此可以对模具安装腔内的光纤进行双边涂覆,使得进料速度稳定,涂覆均匀,提高光纤质量。专利号为200820033875.1的实用新型专利公开了一种光纤涂覆进料系统。该系统由涂料桶储存罐、缓冲桶、涂杯组成,在涂料桶储存罐内放置有涂料桶,储存罐盖上装有进气管道,并延伸到涂料桶内,进气管道上装有电磁阀;缓冲桶盖子上装有电感式液位传感器、缓冲桶 盖正顶部装有进气管道,涂料桶储存罐与缓冲桶之间,用进料管连接,分别插入到两桶的底部;缓冲桶与涂杯之间用出料管连接。该涂覆进料系统结构简单,没有增设电气元件,对涂料返料现场能起有效的抑制作用。 

与上述在先技术不同,本实用新型针对光纤拉丝过程中,光纤在模具中位置发生难以预计的随机偏移而导致涂覆层偏心和不均匀等问题,采用了自适应型万向转动框架和双涂覆杯的有机组合。该万向转动框架由两个圆环组合而成,并用正交顶针式转轴彼此连接,在拉制过程中光纤在模具中位置发生随机偏移变化时,该装置能够实现自动的调节,使得涂覆层的均匀性得到保证。该装置能够克服双包层涂覆偏心的问题,有助于高了光纤拉制质量。 

(三)发明内容

本实用新型的目的在于提供一种自适应型双包层涂覆装置,该装置可以克服在拉制过程中,光纤在模具中位置发生随机偏移导致双包层涂覆偏心的问题,完成自动的调节。 

本实用新型的目的是这样实现的: 

由可在平面上进行二维调节的定位调节装置1、带有万向自适应转动框架2、内涂覆料杯3、外涂覆料杯4和可以更换的内涂覆丝孔帽5及外涂覆丝孔帽6组成。光纤7穿过内涂层料杯3后,受内涂覆丝孔帽5的限制,使得涂覆层均匀的控制在内涂覆丝孔帽的直径范围内。涂有内涂层的光纤进一步穿过外涂覆料杯4后,受外涂覆丝孔帽6的限制,使得涂覆层均匀的涂覆在内涂层外且丝径控制在外涂覆丝孔帽的直径范围内。内涂覆料杯3、外涂覆料杯4都配有可更换的内涂覆丝孔帽5及外涂覆丝孔帽6,这些可更换的涂覆丝孔帽的丝径可依据所需内涂覆层厚度和外涂覆层厚度进行选取与更换。 

本实用新型的其主要技术特征为,所述的装置中采用了自适应型万向转动框架和双涂覆杯的有机组合。该万向转动框架由两个圆环组合而成,并用正交顶针式转轴彼此连接,在拉制过程中光纤在模具中位置发生随机偏移变化时,该装置能够实现自动的调节,使得涂覆层的均匀性得到保证。 

与现有技术相比,本实用新型的优点为:该装置由于使用了自适应型万向转动框架,这就使得在拉制过程中,当光纤在模具中位置发生随机偏移变化时,该 装置能够实现自动的调节,从而保证涂覆层的均匀性。有效的提高了光纤拉丝的质量。 

(四)附图说明

图1是对自适应型双包层涂覆装置实施整体二维位置调节装置的结构示意图;其中1是平面上进行二维调节的定位调节件,11和12为实现二维正交位置微调节的顶丝。 

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