[实用新型]X射线显微成像系统

说明书

技术领域

本实用新型涉及显微CT扫描成像技术领域，尤其是涉及一种X射线显微成像系统。

背景技术

X射线具有波长短、分辨率高和穿透深度大等优点，其无损成像能力为科研观察和工业检测提供了技术手段。使用X射线作为探测手段的X射线三维成像显微镜是计算机技术与放射学相结合所产生的新的成像技术。利用不同角度的透视投影成像，结合计算机三维数字成像构造技术，构建出待测物体的三维立体透射成像模型，以图像的形式清晰准确直观的展现被检测物体内部结构特征，提供详尽的图像信息。

传统的X射线成像系统存在一定的不足之处，往往满足大视场的要求但分辨率较低，分辨率满足要求时视场又比较小，一台成像仪器大视场与高分辨率两者难以同时满足，从而限制了成像系统或成像仪器的应用。

实用新型内容

本实用新型旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。为此，本实用新型的目的在于提出一种可兼顾大视场和高分辨率成像要求的X射线显微成像系统。

根据本实用新型的X射线显微成像系统，包括:用于发射X射线的射线源，所述射线源可沿纵向移动；用于承载待测样品的样品台；探测器，所述探测器和所述射线源在纵向上位于所述样品台的两侧，所述探测器包括横向相邻的大视场探测器和高分辨率探测器，所述探测器被构造成可分别沿横向和纵向移动以使所述射线源发射出的X射线穿透所述待测样品后投射至所述大视场探测器和高分辨率探测器中的其中一个上；控制器，所述控制器用于控制所述射线源和所述探测器的移动；和计算机，所述计算机分别与所述控制器和所述探测器相连以分别向所述控制器发出控制指令及对待测样品进行图像数据采集。

根据本实用新型的X射线显微成像系统，通过设置大视场探测器和高分辨率探测器，并根据实际所需成像要求在二者之间灵活切换，同时满足了大视场和高分辨率的成像要求，解决了两种成像难以兼顾的问题，从而更好地获取待测样品的内部结构特征、密度、有无缺陷以及缺陷的大小和位置等信息，更加详尽地了解待测样品的特性以满足不同的使用要求。

另外，根据本实用新型的X射线显微成像系统，还可以具有如下附加技术特征：

所述X射线显微成像系统还包括：射线源变焦平台，所述射线源设在所述射线源变焦平台上，所述射线源变焦平台与所述控制器相连以被控制沿纵向移动。通过设置射线源变焦平台，实现了射线源沿成像方向的移动，即可通过改变射线源到样品在成像方向上的距离以获得不同的成像放大倍数。

具体地，所述射线源变焦平台包括：第一底座，所述第一底座上形成有两个第一导轨槽，所述两个第一导轨槽沿横向彼此间隔开；第一移动平台，所述第一移动平台的底部设有两个沿横向彼此间隔开的第一导轨，所述两个第一导轨分别一一对应地配合在所述两个第一导轨槽内。

所述X射线显微成像系统，还包括：探测器变焦平台，所述探测器变焦平台与所述控制器相连以被控制沿纵向移动；探测器切换平台，所述探测器切换平台设在所述探测器变焦平台上，所述探测器切换平台与所述控制器相连以可被控制沿横向移动，其中所述大视场探测器和所述高分辨率探测器沿横向并排设在所述探测器切换平台上。

具体地，所述探测器变焦平台包括：第二底座，所述第二底座上形成有两个第二导轨槽，所述两个第二导轨槽沿横向彼此间隔开；第二移动平台，所述第二移动平台的底部设有两个沿横向彼此间隔开的第二导轨，所述两个第二导轨分别一一对应地配合在所述两个第二导轨槽内。通过设置探测器变焦平台，实现了探测器沿成像方向的移动，即可通过改变探测器到样品在成像方向上的距离以获得不同的成像放大倍数。

具体地，所述探测器切换平台包括：两个第三导轨，所述两个第三导轨设在所述第二移动平台的上表面上且沿纵向彼此间隔开；第三移动平台，所述第三移动平台的底部设有两个第三导轨槽，其中所述两个第三导轨分别一一对应地配合在所述两个第三导轨槽内。通过设置探测器切换平台，在对样品内部结构进行探测时，可按照实际情况在大视场探测器和高分辨率探测器之间切换，满足不同样品的不同成像要求。

通过设置射线源变焦平台、探测器变焦平台和探测器切换平台，一方面实现了大视场探测器和高分辨率探测器之间的切换，满足不同待测样品高分辨率和大视场的成像要求，另一方面，当在成像时视场范围或分辨率超过某个探测器的工作范围时，可随时根据实际需要通过对各个平台的组合调节来改变放大倍数，以更好地获取待测样品图像信息，方便计算机重构样品的三维图像以更好地了解待测样品的内部结构特征。

可选地，所述样品台包括转台和三维定位部，所述三维定位部设在所述转台上且所述待测样品放置在所述三维定位部上。