[发明专利]具有抗沾黏膜层的乐器无效
申请号: | 201210595587.6 | 申请日: | 2012-12-28 |
公开(公告)号: | CN103915084A | 公开(公告)日: | 2014-07-09 |
发明(设计)人: | 高于迦;庄道良;吴政谚;林昭宪;黄建龙 | 申请(专利权)人: | 财团法人金属工业研究发展中心 |
主分类号: | G10D9/00 | 分类号: | G10D9/00 |
代理公司: | 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 11019 | 代理人: | 寿宁;张华辉 |
地址: | 中国台湾高雄*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 具有 黏膜 乐器 | ||
技术领域
本发明是有关于一种乐器,特别是指一种具有抗沾黏膜层的乐器。
背景技术
习知吹奏类的乐器于演奏过程中,演奏者的嘴部直接接触乐器的吹嘴进行演奏,通常演奏者于演奏过程中残留唾液于吹嘴的内部及外部,而乐器的吹嘴进行清洗时,清洗时虽然可清除残留于吹嘴的唾液,但清洗时所产生的液体容易残留于吹嘴的内部,导致吹嘴的内部产生锈蚀的问题,所以每次清洗必须仔细清除残留于吹嘴的液体,增加清洗乐器的不便性,进而降低清洗乐器的次数。在乐器无法经常清洗下,导致演奏者每次演奏后残留于吹嘴的唾液难以清洗,而且唾液内具有大量的细菌,导致繁衍大量的细菌于吹嘴上,进而使演奏者于每次演奏时接触大量的细菌,以影响演奏者的健康。
有鉴于上述问题,本发明提供一种具有抗沾黏膜层的乐器,其使乐器易于清洗,以清除使用者的唾液残留于乐器上,且使清洗液体不会附着于乐器,以避免乐器产生锈蚀的问题。
发明内容
本发明的目的,在于提供一种具有抗沾黏膜层的乐器,其于乐器上设有抗沾黏膜层,并使乐器易于清洗,以清除使用者的唾液残留于乐器上,且使清洗液体不会附着于乐器,以避免乐器产生锈蚀的问题。
本发明提供一种具有抗沾黏膜层的乐器,其包含:一乐器本体;以及一抗沾黏膜层,其设置于该乐器本体上。
本发明所述的具有抗沾黏膜层的乐器中,其中一液体与该抗沾黏膜层的接触角大于100度。
本发明所述的具有抗沾黏膜层的乐器中,其中该抗沾黏膜层的材料为铬金属氧化物、钛金属氧化物、铬金属氮化物、钛金属氮化物及类钻碳中的任意一种。
本发明所述的具有抗沾黏膜层的乐器中,其中该抗沾黏膜层的材料更包含:
多个抗菌微粒,其参杂于该抗沾黏膜层,该些抗菌微粒于该抗沾黏膜层的重量百分比介于1%与20%之间。
本发明所述的具有抗沾黏膜层的乐器中,其中该些抗菌微粒的材料为银、铜、钴、镍、铁、铝及锌中的任意一种。
本发明所述的具有抗沾黏膜层的乐器中,其中该乐器本体具有一吹嘴部,该吹嘴部具有至少一外表面及至少一内表面,该抗沾黏膜层设置于该外表面或该内表面,或者该抗沾黏膜层设置于该外表面及该内表面。
本发明所述的具有抗沾黏膜层的乐器中,其中该乐器本体具有至少一外表面及至少一内表面,该抗沾黏膜层设置于该外表面或该内表面,或者该抗沾黏膜层设置于该外表面及该内表面。
本发明还提供了一种具有抗沾黏膜层的乐器的制造方法,其包含:
提供一乐器本体及至少一靶源于一真空腔体上;
离子化至少一靶源,并产生多个离子;
通入一反应气体至该真空腔体;以及
混合该反应气体与该些离子,并形成一抗沾黏膜层于该乐器本体上。
本发明所述的具有抗沾黏膜层的乐器的制造方法中,其中该靶源包含一第一靶源,该第一靶源为一铬金属靶源、一钛金属靶源或一石墨靶,离子化该靶源所产生的该些离子包含多个第一离子,该些第一离子为铬离子、钛离子或碳离子。
本发明所述的具有抗沾黏膜层的乐器的制造方法中,其中该靶源更包含一第二靶源,该第二靶源为一银金属靶源、一铜金属靶源、一钴金属靶源、一镍金属靶源、一铁金属靶源、一铝金属靶源或一锌金属靶源,离子化该靶源所产生的该些离子更包含多个第二离子,该些第二离子为银离子、铜离子、钴离子、镍离子、铁离子、铝离子或锌离子。
本发明所述的具有抗沾黏膜层的乐器的制造方法中,其中离子化该靶源并产生该些离子的步骤更包含利用一程控该些第一离子及该些第二离子的百分比,该些第一离子相对于该些第一离子与该些第二离子总和的重量百分比介于80%与99%之间,该些第二离子相对于该些第一离子与该些第二离子总和的重量百分比介于1%与20%之间。
本发明所述的具有抗沾黏膜层的乐器的制造方法中,其中该反应气体为一氮气或一氧气。
实施本发明产生的有益效果是:本发明有关于一种具有抗沾黏膜层的乐器,其使乐器容易清洗,以清除残留于乐器上的唾液或其它脏污,而清洗液体不附着于乐器,并防止乐器因清洗而产生锈蚀。
进一步地,本发明的抗沾黏膜层更参杂有抗菌微粒,使抗沾黏膜层具有抗菌效果,并抑制残留于乐器上的唾液或其它脏污所含的细菌于乐器繁衍。
附图说明
图1为本发明的第一实施例的乐器的示意图;
图2为本发明的图1的A区域的放大图;
图3为本发明的第一实施例的乐器的制造流程图;
图4为本发明的第一实施例的乐器的制造设备的示意图;
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于财团法人金属工业研究发展中心,未经财团法人金属工业研究发展中心许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201210595587.6/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。