[发明专利]用于液晶显示设备的阵列基板及其制造方法

权利要求书

1.一种用于液晶显示设备的阵列基板，所述阵列基板包括：

在绝缘基板上且具有开口的第一绝缘膜图案；

在包括开口的第一绝缘膜图案上的第一光屏蔽膜图案；

在包括第一光屏蔽膜图案的绝缘基板的整个表面上方的栅极绝缘膜；

在栅极绝缘膜顶部上且与第一光屏蔽膜图案交叠的有源层；

在栅极绝缘膜顶部上以与有源层分开的像素电极；

在有源层顶部上的源极和漏极，所述漏极与源极分开且直接连接到像素电极；

在包括源极和漏极的绝缘基板的整个表面上方的钝化膜；

在钝化膜顶部上且与第一光屏蔽膜图案交叠的第二绝缘膜图案；

在第二绝缘膜图案上的第二光屏蔽膜图案；和

在钝化膜顶部上且与像素电极交叠的多个被划分的公共电极。

2.如权利要求1所述的阵列基板，其中所述第一和第二光屏蔽膜图案由不透明金属材料制成。

3.如权利要求1所述的阵列基板，其中所述第一和第二光屏蔽膜图案与有源层、源极和漏极交叠。

4.如权利要求1所述的阵列基板，其中所述第一和第二光屏蔽膜图案的面积大于所述有源层、源极和漏极的面积，所述第一光屏蔽膜图案的面积大于所述第二光屏蔽膜图案的面积。

5.如权利要求1所述的阵列基板，其中所述第一光屏蔽膜图案用作栅极。

6.如权利要求1所述的阵列基板，其中在所述第一光屏蔽膜图案和栅极绝缘膜之间形成有绝缘膜和栅极。

7.如权利要求1所述的阵列基板，其中所述第一和第二绝缘膜图案由有机绝缘材料制成，所述有机绝缘材料选自由光可溶的栅极绝缘体（光SGI）和光丙烯（PAC）构成的组。

8.一种用于液晶显示设备的阵列基板的制造方法，所述方法包括步骤：

在绝缘基板上形成具有开口的第一绝缘膜图案；

在包括开口的第一绝缘膜图案上形成第一光屏蔽膜图案；

在包括第一光屏蔽膜图案的绝缘基板的整个表面上方形成栅极绝缘膜；

在栅极绝缘膜顶部上形成有源层以与第一光屏蔽膜图案交叠；

在栅极绝缘膜顶部上形成像素电极以与有源层分开；

在有源层顶部上形成源极和漏极，所述漏极与源极分开且直接连接到像素电极；

在包括源极和漏极的绝缘基板的整个表面上方形成钝化膜；

在钝化膜顶部上形成第二绝缘膜图案以与第一光屏蔽膜图案交叠；

在第二绝缘膜图案上形成第二光屏蔽膜图案；和

在钝化膜顶部上形成多个被划分的公共电极以与像素电极交叠。

9.如权利要求8所述的方法，其中所述第一和第二光屏蔽膜图案由不透明金属材料制成。

10.如权利要求8所述的方法，其中所述第一和第二光屏蔽膜图案与有源层、源极和漏极交叠。

11.如权利要求8所述的方法，其中所述第一和第二光屏蔽膜图案的面积大于有源层、源极和漏极的面积，所述第一光屏蔽膜图案的面积大于所述第二光屏蔽膜图案的面积。

12.如权利要求8所述的方法，其中所述第一光屏蔽膜图案用作栅极。

13.如权利要求8所述的方法，其中在所述第一光屏蔽膜图案和栅极绝缘膜之间形成有绝缘膜和栅极。

14.如权利要求9所述的方法，其中所述第一和第二绝缘膜图案由有机绝缘材料制成，所述有机绝缘材料选自由光可溶的栅极绝缘体（光SGI）和光丙烯（PAC）构成的组。

15.一种用于液晶显示设备的阵列基板，所述阵列基板包括：

在绝缘基板上的第一光屏蔽膜图案；

在包括第一光屏蔽膜图案的绝缘基板的整个表面上方的栅极绝缘膜；

在栅极绝缘膜顶部上且与第一光屏蔽膜图案交叠的有源层；

在栅极绝缘膜顶部上以与有源层分开的像素电极；

在有源层顶部上的源极和漏极，所述漏极与源极分开且直接连接到像素电极；

在包括源极和漏极的绝缘基板的整个表面上方的钝化膜；

在钝化膜顶部上且与第一光屏蔽膜图案交叠的绝缘膜图案；

在绝缘膜图案上的第二光屏蔽膜图案；和

在钝化膜顶部上且与像素电极交叠的多个被划分的公共电极。