[发明专利]电子束帽盖杀菌装置

说明书

技术领域

本发明涉及对由输送单元输送的帽盖照射电子束来杀菌的电子束帽盖杀菌装置。

背景技术

已知通过电子束照射装置对由输送单元连续输送的帽盖照射电子束来杀菌的帽盖杀菌装置。在这种电子束的帽盖杀菌装置中，作为向电子束照射单元供给帽盖的输送单元，通常使用向下方倾斜地配置的帽盖滑槽（cap chute）（例如参照专利文献1）。在该专利文献1的构成中，由星形轮将帽盖一个一个地分离并送出，使帽盖在倾斜的帽盖滑槽内滚动并落下，并在该滚动的区间照射电子束。

此外，在专利文献2所记载的发明中，使帽盖与倾斜的立式输送通路的一面接触而与另一面非接触，从而使帽盖通过摩擦接触而旋转移动，在该立式输送通路的规定的范围内设置电子束照射单元，从其照射窗对旋转移动的帽盖照射电子束来进行灭菌处理。在该专利文献2的构成中，在立式输送通路的下端配置星形轮作为帽盖排出单元，从立式输送通路的出口间歇地进行排出。

在先技术文献

专利文献

专利文献1：日本特表2011-520713号公报

专利文献2：日本特开2010-285197号公报

发明内容

发明所要解决的问题

在上述专利文献1的构成中，在帽盖滑槽中的帽盖滚动的区间照射电子束。但是，在帽盖在帽盖滑槽内自由滚动的区间中，帽盖由于重力而加速，因此为了确保杀菌所需的照射时间，必须延长照射距离，这样会产生电子束照射装置变大的问题。

此外，在专利文献2所记载的发明中，在比电子束的照射范围更靠下游侧配置星形轮，通过该星形轮排出帽盖。通过这种构成，在照射电子束的范围内，帽盖处于彼此接触的状态。因此，由于帽盖彼此的摩擦力而难以旋转，由此会产生对帽盖的周面部的电子束的照射不均匀的问题。

解决问题的方法

本发明是为了解决上述课题而完成的，本发明的电子束帽盖杀菌装置，在连续地输送帽盖的期间照射电子束，来对帽盖的内侧和外侧杀菌，其特征在于，具备内部被维持在正压的腔室、用于使帽盖通过该腔室内的输送路径、以及对通过该输送路径输送的帽盖照射电子束的电子束照射单元，所述输送路径由向下方倾斜地配置并将帽盖以内侧朝向侧方的方式输送的帽盖滑槽构成，在该帽盖滑槽中形成有在限制帽盖的移动的同时进行输送的限制输送区间、以及与该限制输送区间连续并使帽盖在向下方旋转的同时隔开间隔被输送的自由输送区间，在所述限制输送区间，设置有与帽盖的外周面抵接而以比自由输送区间中的输送速度慢的速度输送帽盖的移送单元，并且在所述自由输送区间，在电子束照射单元照射电子束的侧方的相反侧，设置有使电子束照射单元照射的电子束向被输送的帽盖偏转的偏转单元，在限制输送区间及自由输送区间，所述电子束照射单元从输送的帽盖的内侧所面向的侧方照射电子束。

此外，第二发明的特征在于，在上述第一发明中，所述限制输送区间由圆弧状的导杆构成，并且所述自由输送区间由直线状的导杆构成，在所述限制输送区间设置有旋转式移送单元，该旋转式移送单元在外周部形成有与帽盖的抵接部。

并且，第三发明的特征在于，在上述第一或第二发明中，所述偏转单元由沿着所述帽盖滑槽隔开间隔配置的多个磁铁构成。

发明效果

本发明的电子束帽盖杀菌装置，输送帽盖的输送路径由向下方倾斜的帽盖滑槽构成，在由该帽盖滑槽输送的帽盖的电子束照射范围内形成有在限制帽盖的移动的同时进行输送的限制输送区间，以及与该限制输送区间连续并使帽盖在向下方旋转的同时隔开间隔被输送的自由输送区间，因此通过抑制照射范围内的帽盖的输送速度来缩短照射距离，从而能够实现电子束照射装置的小型化、杀菌装置整体的小型化。此外，通过变更限制输送区间的输送速度，能够容易地进行杀菌时间的调整。此外，通过使限制输送区间的输送速度比自由输送区间的输送速度慢，从而在自由输送区间中也能够隔开间隔地输送帽盖，因此对帽盖的侧面部也能够得到稳定的杀菌效果。并且，在电子束照射单元照射电子束的帽盖的相反侧，设置有使电子束向帽盖偏转的偏转单元，因此能够将电子束照射单元仅配置在输送路径的一侧，能够减少电子束照射单元的数量。

附图说明

图1是电子束帽盖杀菌装置的沿着帽盖输送路径的纵截面图。（实施例1）

图2是电子束照射范围内的、与输送路径正交的方向的截面图。

附图标记：

2   腔室

4   帽盖

4a  帽盖的外侧（顶面）

4b  帽盖的内侧（开口部）