[发明专利]一种新型仿石材料地漏面板无效

专利信息
申请号: 201210553338.0 申请日: 2012-12-19
公开(公告)号: CN103880324A 公开(公告)日: 2014-06-25
发明(设计)人: 柴聚军 申请(专利权)人: 柴聚军
主分类号: C04B26/02 分类号: C04B26/02
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 056200 河北省邯郸市峰*** 国省代码: 河北;13
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摘要:
搜索关键词: 一种 新型 石材 地漏 面板
【说明书】:

技术领域

发明属于建筑材料技术领域,尤其涉及一种新型仿石材料地漏面板。

背景技术

目前,地漏面板是安装在下水口处,是地漏的重要组成部分,一般安装在厕所或者厨房,现有的地漏面板材料通常为金属或者塑料,金属材料的地漏面板易生锈、易腐蚀,不易清洗,塑料材料的地漏面板易变形,易粘满污垢,两种材料的地漏面板还有共同的缺点不易清洗,不耐用、不美观,产品无色彩,千篇一律,给我们的丰富多彩的生活添了点堵。厨房、厕所地面一般为瓷砖或者大理石,现有的地漏面板不论是金属材料还是塑料材料都难与地面形成统一的风格。

发明内容

针对上述问题,本发明提供一种新型仿石材料地漏面板。人造石,又称人造大理石,是一种新型的复合材料,因其具有无毒性、无放射性、阻燃性、不粘油、不渗污、抗菌防霉、耐磨、耐冲击、易保养、拼接无缝、任意造型等优点,正逐步成为装修建材市场上的新宠。人造透光云石性能好:强度高、抗老化、吸水率低、无污染、无辐射、安装方便不易破碎,是绿色环保建材。

本发明充分利用新型仿石材料的优势,为小小的地漏面板注入中国传统文化的内涵,并将仿石材料的优势与主体文化设计的理念完美结合,体现了产品的艺术性、装饰性。

为实现上述目的,本发明采用的技术方案是:一种新型仿石材料地漏面板,地漏面板材料采用人造透光石,人造透光石原料的重量比为:树脂7~10%,石料90~93%,色料1~2%,固化剂0.1~2%,促进剂0.2~2%。

所述的仿石材料地漏面板制作工艺流程为:人造石地漏装饰面板的固化和人造石地漏装饰面板的成型,所述的人造石地漏装饰面板的固化是按上述比例配制原料,混合均匀,后送入成型机下模,高压将上下模合模,压力为12.5MPa,上模温度115~135℃,下模温度85~105℃,5分钟后,已固化成型,送入烘房进行24小时加温固化,温度为80~100℃,或平堆放置进行自然凝固。所述的人造石地漏装饰面板的成型方法有精雕机浮雕雕刻法和模具浇注成型法:所述精雕机浮雕雕刻法步骤为:(1)先设计出精致的图案,(2)再用精雕机在人造石面板上进行浮雕雕刻,(3)表面打磨抛光等;所述模具浇注成型法的步骤为:(1)先用加工好的人造石地漏艺术面板制作成硅橡胶模具,(2)然后按重量百分比取90~93%石料、7~10%树脂,加入固化剂和促进剂,搅拌5分钟;注入模具内成型。

本发明的有益效果是:可以充分利用天然石材工业及其他工业的下脚料,它由纯天然的无机材料制成,不会挥发有害的有机物质。由于光线的反射及折射原理,仿大理石的色调感非常明显,能够与地面铺装的石材形成一体,并通过精心设计将中国传统文化图案融于仿石面板中,克服了金属材料地漏面板的纯工业化形式。为精装居室的主体文化装饰增添了靓点。

具体实施方式

下面结合具体实施方式进一步对本发明加以说明;

实施例:一种新型仿石材料地漏面板,地漏面板材料采用人造透光石,人造透光石原料的重量比为:树脂7%,石料91%,色料1%,固化剂0.5%,促进剂0.5%。按比例配制原料,混合均匀,后送入成型机下模,高压将上下模合模,压力为12.5MPa,上模温度115~135℃,下模温度85~105℃,5分钟后,已固化成型,送入烘房进行24小时加温固化,温度为80~100℃,或平堆放置进行自然凝固;人造石地漏装饰面板的成型方法采用精雕机浮雕雕刻法,其步骤为:(1)先设计出精致的图案,(2)再用精雕机在人造石面板上进行浮雕雕刻,(3)表面打磨抛光等。

实施例2:树脂8%,石料90%,色料1%,固化剂0.5%,促进剂0.5%。按比例配制原料,混合均匀,后送入成型机下模,高压将上下模合模,压力为12.5MPa,上模温度115~135℃,下模温度85~105℃,5分钟后,已固化成型,送入烘房进行24小时加温固化,温度为80~100℃,或平堆放置进行自然凝固;人造石地漏装饰面板的成型方法采用模具浇注成型法,其步骤为:(1)先用加工好的人造石地漏艺术面板制作成硅橡胶模具,(2)然后按重量百分比取90~93%石料、7~10%树脂,加入固化剂和促进剂,搅拌5分钟;注入模具内成型。

最后应说明的是:上述实施例仅仅是为清楚地说明本发明所作的举例,而并非对实施方式的限定。对于所属领域的普通技术人员来说,在上述说明的基础上还可以做出其它不同形式的变化或变动,由此所引伸出的显而易见的变化或变动仍处于本发明的保护范围之中。

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