[发明专利]基于双哈特曼传感器的全光路像差校正系统及校正方法

权利要求书

1.一种基于双哈特曼传感器的全光路像差校正系统，其特征在于：它包括高能激光器(1)、波前校正器、分光镜(4)、光束质量评价系统(5)、内光路哈特曼传感器(6)、第一哈特曼传感器(7)、第二哈特曼传感器(8)、数据融合组件和高压放大器(11)；所述波前校正器包括倾斜镜(2)和变形镜(3)，所述高能激光器(1)发出的高功率激光依次先后入射至倾斜镜(2)和变形镜(3)，再以一定角度入射至分光镜(4)的前表面，其中一部分能量被分光镜(4)反射至光束质量评价系统(5)中，另一部分能量透射光被内光路哈特曼传感器(6)接收并用于探测高能激光器(1)的内部像差；所述第一哈特曼传感器(7)和第二哈特曼传感器(8)置于分光镜(4)的前、后两侧并用于协同探测分光镜(4)的透射和反射像差，探测数据实时传送给数据融合组件，所述数据融合组件完成数据预处理后与内光路哈特曼传感器(6)的测量数据融合进而计算控制电压输出给高压放大器(11)，从而驱动波前校正器完成全光路像差校正。

2.根据权利要求1所述的基于双哈特曼传感器的全光路像差校正系统，其特征在于：所述数据融合组件包括第一计算机(9)和第二计算机(10)，所述第一哈特曼传感器(7)和第二哈特曼传感器(8)探测的数据传送给第一计算机(9)，所述第一计算机(9)完成数据预处理并将数据传递给第二计算机(10)，所述第二计算机(10)用于将预处理数据与内光路哈特曼测量数据融合。

3.根据权利要求1所述的基于双哈特曼传感器的全光路像差校正系统，其特征在于：所述第一哈特曼传感器(7)与第二哈特曼传感器(8)的工作波长相同。

4.根据权利要求1所述的基于双哈特曼传感器的全光路像差校正系统，其特征在于：所述第一哈特曼传感器(7)位于分光镜(4)的前方，采用自准直工作模式；所述第二哈特曼传感器(8)位于分光镜(4)后方，采用接收外来信号光工作模式。

5.一种采用权利要求1～4中任意一项所述校正系统的基于双哈特曼传感器的全光路像差校正方法，其特征在于，步骤为：

(1)、测量第一哈特曼传感器(7)、第二哈特曼传感器(8)相对内光路哈特曼传感器(6)的子孔径光斑偏移量比例因子；

(2)、打开高能激光器(1)可见导引光源，调整光路，使导引光穿过主光路后被光束质量评价系统接收，使两台哈特曼传感器分别位于分光镜(4)的前后两侧；

(3)、标定内光路哈特曼传感器(6)、第一哈特曼传感器(7)、第二哈特曼传感器(8)；

(4)、测量内光路哈特曼传感器(6)与波前校正器之间的响应矩阵，计算波前重构矩阵R；

(5)、打开高能激光器(1)以及光束质量评价系统(5)，所述第一哈特曼传感器(7)、第二哈特曼传感器(8)测量分光镜像差并传递给数据融合组件，所述数据融合组件完成数据预处理后与内光路哈特曼传感器(6)的测量数据融合进而计算控制电压输出给高压放大器(11)；

(6)所述高压放大器(11)驱动波前校正器完成闭环校正；

(7)所述光束质量评价系统(5)对系统终端光束质量进行评价。