[发明专利]磁记录介质用玻璃基板

说明书

技术领域

本发明涉及磁记录介质用玻璃基板。

背景技术

作为磁盘记录装置等中使用的磁记录介质用基板，一直使用铝合金基板。但是，伴随着近年来高密度记录化的要求，比铝合金基板硬且平坦性和平滑性优良的玻璃基板已成为主流。

而且，伴随着近年来磁盘的高密度记录化，为了有效利用玻璃基板的主平面的面积，开始使磁头通过至玻璃基板的端部。另外，为了将大容量的信息快速地记录到磁盘中并进行重放，也正在进行使磁盘的转速高速化的研究。

在使磁头通过至玻璃基板的端部或者使磁盘的转速高速化的情况下，当磁记录介质用玻璃基板的端面部、主平面的形状不整齐时，可能会扰乱磁头的上浮姿态。磁头的上浮姿态被扰乱时，磁头可能会与磁盘接触而产生故障，因而成为问题。因此，对磁记录介质用玻璃基板日益要求高加工精度。

磁记录介质用玻璃基板通过在经过形状赋予工序、倒角加工工序后对玻璃基板的端面(内外周面)和主平面进行研磨来加工成预定形状。

作为对玻璃基板的主平面进行研磨的方法，首先，在设置于能够收容多个玻璃基板的托板(主平面研磨用夹具)上的玻璃基板保持孔中设置玻璃基板。然后，在将设置有玻璃基板的托板夹持在两片研磨垫之间的状态下，一边向玻璃基板与研磨垫之间供给研磨剂一边移动托板，从而对玻璃基板的主平面进行研磨(例如专利文献1)。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2009-214219号公报

发明内容

发明所要解决的问题

但是，以往的玻璃基板中，未对端面部分的表面粗糙度Ra在整个圆周面上是否均匀进行评价，因此，有时存在局部表面粗糙度Ra较高的部分，因而成为问题。另外，有时会形成主平面的平行度不充分、即在同一玻璃基板内板厚分布宽度较大的玻璃基板，从而在加工精度、成品率、磁记录介质用玻璃基板的特性方面存在问题。

鉴于上述现有技术存在的问题，本发明的目的在于提供一种磁记录介质用玻璃基板，当在多个位置处测定外周端面的侧表面部的表面粗糙度Ra时，其最大值、标准差在预定的范围内，并且进行主平面研磨时平行度优良。而且，本发明的目的在于，通过使用平行度优良的磁记录介质用玻璃基板形成磁盘并制成磁盘记录装置来抑制磁头的上浮姿态被扰乱、磁盘旋转时振动增大等问题。

用于解决问题的手段

为了解决上述问题，本发明提供一种磁记录介质用玻璃基板，具有一对主平面、外周端面和内周端面，其特征在于，所述外周端面具有外周侧表面部和外周倒角部，在所述外周端面上，在以所述磁记录介质用玻璃基板的圆心角计间隔15度而设置的总计24个外周端面测定位置处测定表面粗糙度Ra时，所述外周侧表面部的表面粗糙度Ra的最大值为0.5μm以下，且所述外周侧表面部的表面粗糙度Ra的标准差为0.2μm以下。

发明效果

本发明的磁记录介质用玻璃基板在外周面的多个位置处测定外周侧表面部的表面粗糙度(算术平均粗糙度)Ra时，表面粗糙度Ra在预定的范围内。另外，表面粗糙度Ra的标准差也在预定的范围内。因此，外周侧表面部的圆周面上不存在局部表面粗糙度Ra高的部位，从而形成在整个外周侧表面部具有高平滑度的玻璃基板。另外，能够制成在进行主平面研磨时平行度良好的磁记录介质用玻璃基板。

附图说明

图1是本发明的磁记录介质用玻璃基板的截面立体图。

图2是本发明的实施方式中的外周端面测定位置和内周端面测定位置的说明图。

图3是本发明的实施方式中的主平面用研磨装置和托板说明图。

标号说明

10 磁记录介质用玻璃基板

12 外周端面

120 外周侧表面部

121 外周倒角部

13 内周端面

130 内周侧表面部

131 内周倒角部

具体实施方式

以下，参考附图对用于实施本发明的方式进行说明，但本发明并不受下述实施方式的限制，在不脱离本发明的范围的情况下可以对下述实施方式进行各种变形和替换。

如图1所示，磁记录介质用玻璃基板10具有在中央部具有中心相同的圆孔部的圆盘形状。

另外，玻璃基板的上下表面为主平面11。图1中，A1和A6表示磁记录介质用玻璃基板的外径侧区域的板厚，A2和A5表示磁记录介质用玻璃基板的中间区域的板厚，A3和A4表示磁记录介质用玻璃基板的内径侧区域的板厚。