[发明专利]原位聚合法制备安石榴苷分子印迹聚合物整体柱的方法

权利要求书

1.一种原位聚合制备安石榴苷分子印迹整体柱的方法，其特征在于按下列步骤进行：

a、将质量百分数为模板分子为安石榴苷3.00-3.19％、功能单体为丙烯酰胺2.37-2.51％、交联剂为二甲基丙烯酸乙二醇酯29.03-33.03％、致孔剂为聚苯乙烯溶于四氢呋喃溶液56.50-59.87％、再加入异辛烷4.68-4.96％、引发剂为偶氮二异丁腈0.42-0.44％混合，超声20分钟，使其均匀，澄清，然后转移到干净的不锈钢管柱中，超声脱气15分钟，将不锈钢管柱两端封住，于温度60℃的恒温水浴锅内反应16-32小时；

b、将不锈钢管柱取出并连接到HPLC的高压泵上，先用四氢呋喃冲洗，以除去整体柱中残留的致孔剂，然后用体积比甲醇∶乙酸＝9∶1混合液冲洗至除去模板分子，流速由0.1ml/mim逐渐增大，冲洗液总体积为150ml，即可得到安石榴苷分子印迹整体柱。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于步骤a所述的致孔剂聚苯乙烯溶于四氢呋喃溶液中的浓度为40mg/ml。

3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于步骤a所述的不锈钢管柱为100×4.6mm I.D.。