[发明专利]水浴式加热装置无效
申请号: | 201210347328.1 | 申请日: | 2012-09-19 |
公开(公告)号: | CN102847574A | 公开(公告)日: | 2013-01-02 |
发明(设计)人: | 徐友娟 | 申请(专利权)人: | 徐友娟 |
主分类号: | B01L7/02 | 分类号: | B01L7/02 |
代理公司: | 苏州广正知识产权代理有限公司 32234 | 代理人: | 刘述生 |
地址: | 213100 江苏省常州*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 水浴 加热 装置 | ||
技术领域
本发明涉及化工设备领域,特别是涉及一种水浴式加热装置。
背景技术
水浴加热是把要加热的物质放在水中,通过给水加热达到给物质加热的效果。一般都是把要反应的物质放在某个容器中,再把容器放置在装有水的设备中,进行间接加热。
水浴加热能够避免直接加热造成的过度剧烈与温度的不可控性,可以进行平稳地加热。但是其加热过程的温度控制不稳定,容易产生热量流失,且水浴加热时要保证循环水的充分供给。
发明内容
本发明主要解决的技术问题是提供一种水浴式加热装置,结构简单紧凑,采用自动控制,保证了循环水的供给充足,保证加热过程的连续稳定,整个加热过程安全可靠,减少了热量的散失,保证了加热过程温度的稳定。
为解决上述技术问题,本发明采用的一个技术方案是:提供一种水浴式加热装置,包括:储罐以及设置在储罐外侧的加热水箱,储罐的顶部设置有进料管和出料管,加热水箱上设置有循环水进口和循环水出口,加热水箱上连接有温度控制器,温度控制器包括恒温控制器和超温控制器,加热水箱上还连接有水位测量单元。
在本发明一个较佳实施例中,所述进料管延伸至储罐顶部端口处,出料管延伸至储罐底部。
在本发明一个较佳实施例中,所述加热水箱的外侧设置有保温层。
在本发明一个较佳实施例中,所述循环水进口设置在加热水箱的顶部,循环水出口设置在加热水箱的底部。
在本发明一个较佳实施例中,所述恒温控制器和超温控制器均与加热水箱电性连接。
在本发明一个较佳实施例中,所述水位测量单元包括水位测量计和水位显示表。
在本发明一个较佳实施例中,所述水位测量单元上连接有电磁控制阀。
本发明的有益效果是:本发明水浴式加热装置结构简单紧凑,采用自动控制,保证了循环水的供给充足,保证加热过程的连续稳定,整个加热过程安全可靠,减少了热量的散失,保证了加热过程温度的稳定。
附图说明
图1是本发明水浴式加热装置一较佳实施例的结构示意图;
附图中各部件的标记如下:1、储罐,2、加热水箱,3、进料管,4、出料管,5、保温层,6、循环水进口,7、循环水出口,8、恒温控制器,9、超温控制器,10、水位测量单元,11、水位测量计,12、水位显示表,13、电磁控制阀。
具体实施方式
下面结合附图对本发明的较佳实施例进行详细阐述,以使本发明的优点和特征能更易于被本领域技术人员理解,从而对本发明的保护范围做出更为清楚明确的界定。
请参阅图1,本发明实施例包括:
一种水浴式加热装置,包括:储罐1以及设置在储罐1外侧的加热水箱2。
所述储罐1的顶部设置有进料管3和出料管4。其中,进料管3延伸至储罐1顶部端口处,出料管4延伸至储罐1底部。
所述加热水箱2的外侧设置有保温层5,能够减少加热水箱热量的散失,保证加热过程温度的稳定。
所述加热水箱2上设置有循环水进口6和循环水出口7。其中,循环水进口6设置在加热水箱2的顶部,循环水出口7设置在加热水箱2的底部。
循环水从加热水箱2顶部的循环水进口6进入到水箱内部,开始升温加热,然后从底部的循环水出口7排出,整个过程连续可靠,保证了水浴加热过程的稳定。
所述加热水箱2上连接有温度控制器,温度控制器包括恒温控制器8和超温控制器9,恒温控制器8和超温控制器9均与加热水箱2电性连接。
具体地,恒温控制器8能够控制水浴温度在50℃~70℃左右。当水浴温度超过90℃时,超温控制器9切断电源并报警,保证了水浴加热过程的安全性和可靠性。
所述的加热水箱2上还连接有水位测量单元10,水位测量单元包括水位测量计11和水位显示表12,在水位测量单元10上连接有电磁控制阀13。
水位测量计11对加热水箱2内部的循环水位进行测量,并通过水位显示表12显示出来。当加热水箱2内的循环水位降低到一定值时,电磁控制阀13打开,往加热水箱2内自动注入循环水,整个过程保证了循环水的供给充足,保证加热过程的连续稳定。
本发明水浴式加热装置的有益效果是:
结构简单紧凑,采用自动控制,保证了循环水的供给充足,保证加热过程的连续稳定,整个加热过程安全可靠,减少了热量的散失,保证了加热过程温度的稳定。
以上所述仅为本发明的实施例,并非因此限制本发明的专利范围,凡是利用本发明说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换,或直接或间接运用在其他相关的技术领域,均同理包括在本发明的专利保护范围内。
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