[发明专利]用于检测地下设施位置的设备和方法有效

专利信息
申请号: 201210166712.1 申请日: 2012-05-25
公开(公告)号: CN102998708A 公开(公告)日: 2013-03-27
发明(设计)人: 金平;金悦 申请(专利权)人: 利宇TEC株式会社
主分类号: G01V3/08 分类号: G01V3/08
代理公司: 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 代理人: 丁文蕴;杜德海
地址: 韩国*** 国省代码: 韩国;KR
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 用于 检测 地下 设施 位置 设备 方法
【说明书】:

相关申请的交叉引用 

本申请要求2011年5月25日提交的韩国专利申请No.10-2011-0049584的优先权和权益,所述申请的公开内容以引用的方式以其全文并入本文中。 

技术领域

本发明涉及用于检测地下设施位置的设备和方法,其可通过由因子分析和回归分析将每一个传感器的高斯值作为变量量化,并且利用所述量化数据准确检测磁性标记的位置。 

背景技术

随着快速的城市化和工业化,例如自来水和污水管、天然气管、通讯线路等基础设施的建设急剧增加。大部分这些设施由于美观、设施的保护等原因掩埋在地下。但是,关于这些地下设施的位置和深度的详细信息没有公开,并且因而很难确定其位置或状态,由此使得很难维修和管理这些设施。而且,当安装新的地下设施或构建建筑物时,准确确定现有地下设施的位置所需的时间和成本增加,并且当其位置没有准确确定时,地下设施可能被损坏,因而威胁工人的安全。为了防止这些事故,使用多种用于准确检测地下设施的检测技术。但是,通常用于确定地下设施位置的设备可检测到与软性铁氧体不同的铁磁性标记,但是不能检测地下设施的深度。 

本发明的申请人已经在2010年3月8日授权的韩国专利No.10-0947659公开了一种“用于检测地下设施的设备和利用所述设备检测地下设施的方法”。上述专利提供了用于检测地下设施的设备,所述设备可通过将由附着到地下设施的磁性标记产生的磁感应强度测量值与预存储在所述设备中的参考值相比较,准确地计算磁性标记的深度。 

但是,根据通常的设备,从每一个传感器读取的值应通过连续测试一个接一个地进行比较,以检测磁性标记的存在,由此对使用者造成不便。 

发明内容

在努力解决上述与现有技术相关的难题中发明了本发明,本发明的目的是提供一种用于检测地下设施位置的设备和方法,其中,通过因子分析和回归分析,将每一个传感器的高斯值作为变量量化并且存储,以根据所述量化数据准确检测磁性标记的存在和磁性标记的深度。 

根据本发明的用于实现上述目的的一方面,提供一种用于检测地下设施的位置的方法,所述方法包括以下步骤:计算磁性标记每一个深度处的高斯值;根据所述计算的高斯值,使用每一个深度处的每一个传感器测量磁场;通过关于所述测得的磁场进行因子分析来提取因子;通过关于所述提取因子进行回归分析获得并且存储提取的变量值;和根据所述存储的提取变量值和由所述传感器实时测量的值确定所述磁性标记的位置。 

附图说明

本发明的上述和其他目的、特征和优点将通过参照附图详细描述其示例性实施例而对本领域技术人员变得显而易见,附图中: 

图1是显示根据本发明优选实施例的用于检测地下设施的方法的示意图; 

图2是根据本发明优选实施例的用于检测地下设施的设备的框图; 

图3是显示图2中检测器结构的电路图; 

图4是显示根据本发明优选实施例的用于检测地下设施的位置的方法的流程图; 

图5是显示根据本发明优选实施例的回归公式的曲线; 

图6是显示表2中的磁场传感器的视图。 

附图标记说明 

1:磁性标记            10:检测器 

11:支撑杆             12a,12b&12c:检测传感器 

13:微处理器           20:DGPS接收器 

30:水平传感器         40:外部连接装置 

50:显示装置           60:音频输出装置 

70:主处理器           100:检测设备 

具体实施方式

以下将在下文参照附图详细描述本发明的示例性实施例,以使本发明所属领域中的技术人员可容易地实践本发明。 

图1是显示根据本发明优选实施例的用于检测地下设施的方法的示意图。 

如图1的(a)中所示,磁性标记1附着到地下设施18,地下设施18为例如自来水管和污水管、天然气管、通讯线路等。磁性标记1通过在具有预定磁力的永久磁体,例如铁氧体上涂覆防水涂层、防潮涂层、镀镍或聚氨酯薄膜制备。磁性标记1以N极位于顶部的方式安装,根据情况,S极可设置在顶部。 

当安装磁性标记1时,根据安装标准,需要选择磁性标记1的类型。磁性标记1的安装标准如下面表1中所示。 

表1 

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于利宇TEC株式会社,未经利宇TEC株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201210166712.1/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top