[发明专利]用于印制容器的设备和方法

权利要求书

1.用于印制容器(20)的方法，其中，将所述容器(20)借助于回转式传送装置(11)传送，所述回转式传送装置(11)具有至少一个用于待印制的容器(20)的保持装置(23、50、52)，其中，为所述回转式传送装置(11)配属有至少一个基础模块(29、30、31)，在所述至少一个基础模块(29、30、31)上布置有至少一个印制头(32)，并且其中，所述至少一个基础模块(29、30、31)布置在所述传送装置(11)的回转轨道的区域中，其特征在于下面的步骤：

-将所述容器(20)输送至印制区域(D)，其中，为所述印制区域(D)配属有至少一个基础模块(29、30、31)；

-将所述至少一个基础模块(29、30)至少部分同步地与通过所述回转式传送装置(11)传送的所述待印制的容器(20)一起引导，其中，所述基础模块(29、30)在所述印制区域(D)中占据在所述回转式传送装置(11)处的始位置(AP)和终位置(EP)；

-当基础模块(29、30)和回转式传送装置(11)在所述始位置(AP)与所述终位置(EP)之间做同步运动期间，借助于布置在所述基础模块(29、30)上的所述至少一个印制头(32)对所述容器(20)进行印制；

-逆着所述回转式传送装置(11)的传送方向(B)将所述基础模块(29、30)回引到所述始位置(AP)中，而与此同时将所述容器(20)通过所述回转式传送装置(11)沿传送方向(B)继续传送。

2.根据权利要求1所述的方法，其中，所述容器(20)在所述印制之前经受预处理，和/或其中，所述容器(20)在所述印制之后经受后处理。

3.根据权利要求1或2所述的方法，其中，将多个容器(20)同时印制。

4.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中，将所述容器(20)在所述印制期间和/或在所述预处理期间和/或在所述后处理期间绕所述容器(20)的纵轴线(X)枢转和/或旋转。

5.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中，对所述容器(20)的预处理使所述容器(20)的表面为印制过程做好准备，尤其是其中，所述预处理包括火焰处理、电晕处理或等离子处理。

6.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中，对经印制的容器(20)的后处理包括：对所述经印制的容器(20)进行最终干燥、尤其是以热空气进行干燥或以UV进行交联。

7.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中，连续地进行如下方法步骤：对所述容器(20)的预处理、印制和后处理，其中，将所述容器(20)持续地通过所述回转式传送装置(11)运动。

8.用于印制容器(20)的回转式处理模块(10、10a、10b、10c、10d、10e、10f)，所述回转式处理模块(10、10a、10b、10c、10d、10e、10f)布置在容器输入件(12、13、16)与容器输出件(14、15、17)之间，所述回转式处理模块(10、10a、10b、10c、10d、10e、10f)带有：

回转式传送装置(11)，所述回转式传送装置(11)具有至少一个用于待印制的容器(20)的保持装置(23、50、52)；

至少一个基础模块(29、30)，其中，所述基础模块(29、30)包括至少一个印制头(32)，并且其中，所述基础模块(29、30)布置在所述传送装置(11)的回转轨道的区域中，

其特征在于，所述回转式处理模块(10、10a、10b、10c、10d)包括至少一个预处理模块(40、60)和/或至少一个后处理模块(42、62)和/或至少一个印制区域(D)，其中，所述印制区域(D)包括至少一个基础模块(29、30、31)，所述至少一个基础模块(29、30、31)能至少区段式同步于所述回转式传送装置(11)地运动。

9.根据权利要求8所述的回转式处理模块(10、10a、10b、10c、10d、10e、10f)，其中，所述至少一个预处理模块(40、60)和/或所述至少一个后处理模块(42、62)布置在所述至少一个基础模块(29、30、31)上。

10.根据权利要求8或9所述的回转式处理模块(10、10a、10b、10c、10d)，其中，所述基础模块(29、30、31)是能振荡式运动的。