[发明专利]一种光学玻璃清洗剂

说明书

技术领域

本发明涉及一种光学玻璃清洗剂，广泛用于基板玻璃、ITO（IndiumTinOxide，氧化铟锡）镀膜导电玻璃、钢化玻璃及亚克力（acrylic，有机玻璃，化学名称为聚甲基丙烯酸甲酯）板丝印油墨前、后的清洗，属于电子工业用清洗技术领域。

背景技术

随着我国LCD（Liquid Crystal Display，液晶显示器）产业与触摸屏产业的迅猛发展，光学玻璃清洗剂的需求量日益增大，同时也对清洗剂的清洗性能与环保性能提出了更高的要求。

在ITO（IndiumTinOxide，氧化铟锡）导电玻璃制程中，应先将基板玻璃彻底清洗干净，才能保证ITO镀膜质量；在LCD制程中必须将ITO玻璃清洗干净后才可涂光刻胶。目前这两种清洗所用清洗剂大多为高PH值（13以上）的强碱性清洗剂，对基板玻璃、ITO导电膜存在不同程度的腐蚀。

在触摸屏制程中有两次清洗，一次是对钢化玻璃、亚克力（acrylic，有机玻璃，化学名称为聚甲基丙烯酸甲酯）板丝印油墨前清洗，目前大多用的是强碱性清洗剂，另一次清洗是对钢化玻璃、亚克力板丝印油墨后的清洗，只能用低PH值的弱碱性或中性清洗剂，故要设置两条生产线分开清洗。其问题的焦点在于：强碱性清洗剂清洗力好，但会腐蚀丝印油墨后的钢化玻璃、亚克力板上的油墨、LOGO镜面银保护漆及导电膜等；而弱碱性或中性清洗剂虽无腐蚀性，但往往净洗力差，需要辅助人工檫拭。

公开号为CN101092591A的中国专利所提供的光学玻璃清洗剂需原液使用，消费者及清洗剂供应商无法承受如此高的成本。

授权公告号为CN1202232C的中国专利所提供的电子工业用玻璃清洗剂组合物选用的都是强碱，会对丝印油墨后的钢化玻璃及亚克力板表面产生严重腐蚀，且其中全氟辛酸钠、全氟辛酸钾或全氟辛酸不符合现在的RoHS标准（the Restriction of the use of certain hazardous substances in electrical and electronic equipment，《电气、电子设备中限制使用某些有害物质指令》）和REACH标准（欧盟EC/1907/2006《关于化学品注册、评估、授权和限制的法规》）。

因此，研发一种腐蚀性小、净洗力优良的通用型环保清洗剂已经是当务之急。

发明内容

本发明要解决的技术问题在于：克服传统的清洗剂腐蚀性大、清洗力差的缺陷，提供一种腐蚀性小、净洗力优良的光学玻璃清洗剂。

为了解决上述技术问题，本发明提出以下技术方案：一种光学玻璃清洗剂，由以下按重量百分比计的组分组成：

长碳链二元酸                         2%—4%；

阴离子表面活性剂                   6%—10%；

无机碱                                  2%—4%；

非离子表面活性剂                   2%—6%；

特种表面活性剂                      2%-4%；

鳌合剂                                  6%—12%；

有机碱                                  10%—20%；

去离子水                               40%—70%。

上述技术方案的进一步限定在于：上述长碳链二元酸为二十一碳二元酸。

上述技术方案的进一步限定在于：上述阴离子表面活性剂为十二烷基苯磺酸。

上述技术方案的进一步限定在于：上述无机碱为工业NaOH。

上述技术方案的进一步限定在于：上述非离子表面活性剂为脂肪醇聚氧乙烯醚AEO₉。

上述技术方案的进一步限定在于：上述特种表面活性剂为壬基酚聚氧乙烯醚琥珀酸单酯磺酸二钠。

上述技术方案的进一步限定在于：上述鳌合剂为乙二胺四乙酸四钠和葡萄糖酸钠的混合物。

上述技术方案的进一步限定在于：上述有机碱为醇胺类物质。

上述技术方案的进一步限定在于：上述有机碱为二乙醇胺。

为了解决上述技术问题，本发明提出以下技术方案：一种光学玻璃清洗剂，由以下按重量百分比计的组分组成：

长碳链二元酸                         2%－4%；