[发明专利]记录装置有效

专利信息
申请号: 201210007511.7 申请日: 2012-01-11
公开(公告)号: CN102582256A 公开(公告)日: 2012-07-18
发明(设计)人: 臼田秀范;鸭志田伸一 申请(专利权)人: 精工爱普生株式会社
主分类号: B41J2/01 分类号: B41J2/01
代理公司: 北京市中咨律师事务所 11247 代理人: 陈海红;段承恩
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 记录 装置
【权利要求书】:

1.一种记录装置,其特征在于,包括:

记录头部,从喷嘴对被记录介质排出墨水;

第1移动单元,使上述被记录介质及上述记录头部的至少一方移动;

第1照射部,设置在以上述被记录介质为基准的上述记录头部相反侧,可照射使上述墨水硬化的电磁波;

第2移动单元,使上述被记录介质及上述第1照射部的至少一方移动;

控制部,控制上述记录头部、上述第1移动单元、上述第1照射部、上述第2移动单元的驱动,

上述控制部在上述记录头部的喷嘴和上述被记录介质中的从上述记录头部的喷嘴排出的墨水滴落的处所不相对的场合,使得从上述第1照射部对上述墨水滴落的处所照射上述电磁波。

2.权利要求1所述的记录装置,其特征在于,

上述控制部在从上述第1照射部照射上述电磁波时,使用上述第1移动单元使上述第1照射部和上述被记录介质相对地移动,并且

根据记录数据上的要照射上述电磁波的处所的单位面积的墨水滴落量,改变从上述第1照射部照射的上述电磁波的照射量。

3.权利要求2所述的记录装置,其特征在于,

上述控制部,伴随上述第1照射部和上述被记录介质的相对移动,在上述滴落量相对减少时,减少上述照射量,上述滴落量相对增加时,增加上述照射量。

4.权利要求1所述的记录装置,其特征在于,

上述控制部在从上述第1照射部照射上述电磁波时,使用上述第1移动单元使上述第1照射部和上述被记录介质相对地移动,并且

根据记录数据上的要照射上述电磁波的处所的单位面积的墨水滴落量,改变上述第1照射部和上述被记录介质的相对速度。

5.权利要求4所述的记录装置,其特征在于,

上述第2移动单元,伴随上述第1照射部和上述被记录介质的相对移动,在上述滴落量相对减少时,增大上述相对速度,上述滴落量相对增加时,降低上述相对速度。

6.权利要求1所述的记录装置,其特征在于,

包括第2照射部,该第2照射部设置在以上述被记录介质为基准的上述记录头部相同侧,可照射使上述墨水硬化的电磁波且由上述控制部控制驱动,

上述控制部在从上述第2照射部对上述被记录介质中的上述墨水滴落的处所照射上述电磁波后,使得从上述第1照射部对上述被记录介质中的上述墨水滴落的处所照射上述电磁波。

7.权利要求6所述的记录装置,其特征在于,

上述记录头部包括:排出用于对上述被记录介质记录图像的第1类墨水的第1喷嘴;排出基底用的第2类墨水的第2喷嘴,

上述控制部使得,

从上述第1喷嘴对上述被记录介质排出上述第1类墨水,

从上述第2照射部对上述被记录介质中的上述第1类墨水滴落的处所照射上述电磁波,

从上述第2喷嘴对上述被记录介质中的上述第1类墨水滴落的处所排出上述第2类墨水,

从上述第2照射部对上述被记录介质中的上述第2类墨水滴落的处所照射上述电磁波,

从上述第1照射部对上述被记录介质中的上述第1类墨水滴落的处所照射上述电磁波。

8.权利要求6所述的记录装置,其特征在于,

上述记录头部包括:排出用于对上述被记录介质记录图像的第1类墨水的第1喷嘴;排出基底用的第2类墨水的第2喷嘴,

上述控制部使得,

从上述第2记录头部对上述被记录介质排出上述第2类墨水,

从上述第2照射部对上述被记录介质中的上述第2类墨水滴落的处所照射上述电磁波,

从上述第1喷嘴对上述被记录介质中的上述第2类墨水滴落的处所排出上述第1类墨水,

从上述第2照射部对上述被记录介质中的上述第1类墨水滴落的处所照射上述电磁波,

从上述第1照射部对上述被记录介质中的上述第2类墨水滴落的处所照射上述电磁波。

9.权利要求1所述的记录装置,其特征在于,

包括第2照射部,该第2照射部设置在以上述被记录介质为基准的上述记录头部相同侧,可照射使上述墨水硬化的电磁波且由上述控制部控制驱动,

上述控制部在从上述第1照射部对上述被记录介质中的上述墨水滴落的处所照射上述电磁波后,从上述第2照射部对上述被记录介质中的上述墨水滴落的处所照射上述电磁波。

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