[发明专利]特征数据压缩装置、多方向人脸侦测系统及其侦测方法有效
申请号: | 201110279600.2 | 申请日: | 2011-09-20 |
公开(公告)号: | CN103020576A | 公开(公告)日: | 2013-04-03 |
发明(设计)人: | 杨岱璋;周宏隆;张文彦 | 申请(专利权)人: | 华晶科技股份有限公司 |
主分类号: | G06K9/00 | 分类号: | G06K9/00 |
代理公司: | 北京北新智诚知识产权代理有限公司 11100 | 代理人: | 赵郁军 |
地址: | 中国台湾新竹科*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 特征 数据压缩 装置 多方 侦测 系统 及其 方法 | ||
1.一种特征数据压缩装置,其特征在于:包含:
一转换单元,通过一人脸图像,运算获得所述人脸图像的若干特征值,并依据所述若干特征值形成至少一图版,且各所述特征值包括一比重值;
一镜射单元,连接所述转换单元,所述镜射单元逐一比对各所述特征值,以运算获得各所述相互对称的特征值的位置,并舍弃所述若干特征值中两两相互对称的其中之一,形成一第一镜射数据,或者,所述镜射单元逐一比对各所述特征值,以运算获得一具有最高比重值的特征值的位置,形成一第二镜射数据;以及
一转置单元,连接所述转换单元,所述转置单元依据一转置表单转置所述至少一图版至一角度,并通过所述转置的至少一图版运算获得若干转置特征值,形成一转置数据。
2.如权利要求1所述的特征数据压缩装置,其特征在于,通过所述第一镜射数据形成一正脸模版。
3.如权利要求1所述的特征数据压缩装置,其特征在于,通过所述第二镜射数据形成一侧脸模版。
4.如权利要求1所述的特征数据压缩装置,其特征在于,通过所述转置数据形成一转置正脸模版或一转置侧脸模版。
5.一种应用一特征数据压缩装置的多方向人脸侦测系统,其特征在于,包含:
一图像撷取装置,用于撷取一人脸图像;
一特征数据压缩装置,连接所述图像撷取装置,所述特征数据压缩装置包括,一转换单元,通过一人脸图像,运算获得所述人脸图像的若干特征值,并依据所述若干特征值形成至少一图版,且各所述特征值包括一比重值;一镜射单元,连接所述转换单元,所述镜射单元逐一比对各所述特征值,以运算获得各所述相互对称的特征值的位置,并舍弃所述若干特征值中两两相互对称的其中之一,形成一第一镜射数据,或者,所述镜射单元逐一比对各所述特征值,以运算获得一具有最高比重值的特征值的位置,形成一第二镜射数据;以及一转置单元,连接所述转换单元,所述转置单元依据一转置表单转置所述至少一图版至一角度,并通过所述转置的至少一图版运算获得若干转置特征值,形成一转置数据;以及
一人脸侦测装置,连接所述图像撷取装置以及所述特征数据压缩装置,且所述人脸侦测装置依据所述第一镜射数据、所述第二镜射数据或所述转置数据进行一正脸侦测、一侧脸侦测、一转置正脸侦测或一转置侧脸侦测。
6.如权利要求5所述的多方向人脸侦测系统,其特征在于,通过所述第一镜射数据形成一正脸模版,且所述人脸侦测装置依据所述正脸模版进行所述正脸侦测。
7.如权利要求5所述的多方向人脸侦测系统,其特征在于,通过所述第二镜射数据形成一侧脸模版,且所述人脸侦测装置依据所述侧脸模版进行所述侧脸侦测。
8.如权利要求5所述的多方向人脸侦测系统,其特征在于,通过所述转置数据形成一转置正脸模版或一转置侧脸模版,且所述人脸侦测装置依据所述转置正脸模版或所述转置侧脸模版进行所述转置正脸侦测或所述转置侧脸侦测。
9.一种侦测方法,其特征在于,所述侦测方法适用于一多方向人脸侦测系统,且所述多方向人脸侦测系统包含一图像撷取装置、一特征数据压缩装置以及一人脸侦测装置,而所述特征数据压缩装置具有一转换单元、一镜射单元以及一转置单元,所述侦测方法包含下列步骤:
通过所述图像撷取装置撷取一人脸图像;
以所述转换单元运算所述人脸图像;
获得所述人脸图像的若干特征值,并依据所述若干特征值形成至少一图版,且各所述特征值包括一比重值;
使所述镜射单元逐一比对各所述特征值,以运算获得各所述相互对称的特征值的位置,并舍弃所述若干特征值中两两相互对称的其中之一,形成一第一镜射数据;
或者,使所述镜射单元逐一比对各所述特征值,以运算获得一具有最高比重值的特征值的位置,形成一第二镜射数据;
使所述转置单元依据一转置表单转置所述至少一图版至一角度,并利用所述转置的至少一图版运算获得若干转置特征值,形成一转置数据;以及
依据所述第一镜射数据、所述第二镜射数据或所述转置数据,所述人脸侦测装置进行一正脸侦测、一侧脸侦测、一转置正脸侦测或一转置侧脸侦测。
10.如权利要求9所述的侦测方法,其特征在于,所述侦测方法还包括下列步骤:
通过所述第一镜射数据形成一正脸模版;以及
通过所述正脸模版,所述人脸侦测装置进行所述正脸侦测。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于华晶科技股份有限公司,未经华晶科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201110279600.2/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。