[发明专利]高耐磨轮轴分离式磁流变抛光轮有效

专利信息
申请号: 201010222364.6 申请日: 2010-07-09
公开(公告)号: CN101879705A 公开(公告)日: 2010-11-10
发明(设计)人: 黄文;吴祉群;郑永成;杨文茂;何建国;吉方;徐东明;罗清;魏齐龙;岳晓斌;田志军;陈东生;王华国 申请(专利权)人: 中国工程物理研究院机械制造工艺研究所
主分类号: B24D3/00 分类号: B24D3/00;B24D7/00
代理公司: 中国工程物理研究院专利中心 51210 代理人: 翟长明;韩志英
地址: 621900 四*** 国省代码: 四川;51
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摘要:
搜索关键词: 耐磨 轮轴 分离 流变 抛光轮
【权利要求书】:

1.一种高耐磨轮轴分离式磁流变抛光轮,其特征在于:所述的抛光轮外表面依次沉积有过渡层和超硬镀层;所述的抛光轮采用轮轴分离结构,通过轮轴锥面配合以及螺纹紧固实现轮与轴的连接;所述过渡层为金属或金属化合物;所述超硬镀层采用锆、铬、铝、钛、钨的氮化物、碳化物和碳氮化物中的一种或以上组合。

2.根据权利要求1所述的高耐磨轮轴分离式磁流变抛光轮,其特征在于:所述的抛光轮的超硬镀层采用类金刚石。

3.根据权利要求1所述的高耐磨轮轴分离式磁流变抛光轮,其特征在于:所述的抛光轮的轮轴分离结构为抛光轮(11)与转轴(12)通过锥面与端面复合定位,所述转轴(12)内孔一端为内锥面,转轴(12)内孔中设有拉杆(13),拉杆(13)的一端为外锥面,抛光轮(11)凸台设有内、外锥面;抛光轮(11)凸台外锥面与转轴(12)内孔的内锥面配合,抛光轮凸台底面(15)与转轴端面(18)贴紧;抛光轮(11)凸台内锥面与拉杆(13)一端的外锥面配合,拉杆(13)的另一端装有用于使拉杆(13)外锥面与抛光轮(11)凸台内锥面紧密贴合并胀紧的螺母(14)。

4.根据权利要求1所述的高耐磨轮轴分离式磁流变抛光轮,其特征在于:所述的抛光轮的轮轴分离结构为抛光轮(21)与转轴(22)通过锥面与端面复合定位,所述转轴(22)内孔为锥面,抛光轮(21)凸台设有内、外锥面,抛光轮(21)凸台内锥面中设有外表面为锥面的压块(26),抛光轮(21)凸台内锥面与压块(26)外锥面配合;抛光轮(21)凸台外锥面与转轴(22)内锥面配合定位,抛光轮凸台底面(25)与转轴端面(28)贴紧;压块(26)中设有用于使压块(26)外锥面与抛光轮(21)凸台内锥面紧密贴合并胀紧的螺钉(27)。

5.根据权利要求1所述的高耐磨轮轴分离式磁流变抛光轮,其特征在于:所述的抛光轮的轮轴分离结构为抛光轮(31)与转轴(32)通过锥面定位,抛光轮(31)凸台外表面为锥面,转轴(32)内孔一端为内锥面;抛光轮(31)凸台内孔与转轴(32)内孔中设有用于使抛光轮(31)凸台外锥面与转轴(32)内锥面紧密贴合的拉杆(33),拉杆(33)上设有用于将抛光轮(31)与转轴(32)拉紧的螺母(34)。

6.根据权利要求1所述的高耐磨轮轴分离式磁流变抛光轮,其特征在于:所述的抛光轮的轮轴分离结构为抛光轮(41)与转轴(42)通过锥面定位,抛光轮(41)凸台外表面为锥面,转轴(42)内孔为内锥面;抛光轮(41)凸台外锥面与转轴(42)内锥面配合定位;抛光轮(41)凸台内孔中设有用于使抛光轮(41)凸台外锥面与转轴(42)内锥面紧密贴合的螺钉(47)。

7.根据权利要求1所述的高耐磨轮轴分离式磁流变抛光轮,其特征在于:所述的抛光轮的轮轴分离结构为抛光轮(51)与转轴(52)通过锥面定位,抛光轮(51)凸台内孔为锥面,转轴(52)一端为外锥面;抛光轮(51)凸台内锥面与转轴(52)外锥面配合定位;转轴(52)内孔中设有用于使抛光轮(51)凸台内锥面与转轴(52)外锥面紧密贴合的拉杆(53),拉杆(53)上设有用于将抛光轮(51)与转轴(52)拉紧的螺母(54)。

8.根据权利要求1所述的高耐磨轮轴分离式磁流变抛光轮,其特征在于:所述的抛光轮的轮轴分离结构为抛光轮(61)与转轴(62)通过锥面定位,抛光轮(61)凸台内孔为内锥面,转轴(62)一端为外锥面;抛光轮(61)凸台内锥面与转轴(62)外锥面配合定位;转轴(62)外锥面端设有用于使抛光轮(61)凸台内锥面与转轴(62)外锥面紧密贴合的压块(66),压块(66)中设有用于将抛光轮(61)与转轴(62)压紧的螺钉(67)。

9.根据权利要求1所述的高耐磨轮轴分离式磁流变抛光轮,其特征在于:所述的抛光轮的轮轴分离结构为抛光轮(71)与转轴(72)通过锥面定位,转轴(72)内孔为内锥面,外表面为锥面的抛光轮(71)凸台穿过转轴(72)与转轴(72)内锥面配合定位,抛光轮(71)凸台顶端设有用于拉紧抛光轮(71)与转轴(72)并使抛光轮(71)外锥面与转轴(72)内锥面紧密贴合的螺母(74)。

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