[实用新型]一种成像法荧光检测农药残留的装置

说明书

技术领域

本实用新型属于一种检测技术，具体是一种利用成像法荧光检测农药残留的装置。

背景技术

到目前为止，成份的检测技术有多种，最初的技术大多根据成分的化学性质或结构特点，采用容量和比色分析，这些方法以及后来出现的薄层分析技术，方法简便、易行，但杂质干扰、灵敏度低等问题不易解决。进入80年代直至现在，普遍采用气液色谱、高效液相色谱、气-质联用色谱等先进仪器分析，特异性好，灵敏度高，但需要专业人员操作，分析周期长，设备昂贵，基层不易推广，也不利于现场监测。成份的荧光检测，比如农药残留的检测，采用紫外激发光、试纸，肉眼观测，或使用光电传感器测量。这种检测方法由于个体的主观性、试剂的不稳定性，成份含量低，荧光强度不稳定带来试纸背景荧光强度不稳定，这些因素导致检测结果的随机性很大，不能有效的判别成份残留含量超标与否，造成漏检和误报。

实用新型内容

本实用新型的目的是提供一种成像法荧光检测农药残留的装置，运用了近几年被广泛研究的荧光分析原理为基础，荧光检测采用面阵CCD探测器检测背景区域与目标区域的荧光强度，同时获得目标的几何形状，通过图像处理、轮廓的平滑消除紫外灯、试纸、试剂带来的不稳定性因素，从而得出目标区域的荧光强度的相对变化，与标准比对，确定农药残留的含量，可避免荧光的干扰，提高检测的灵敏度和准确度。

本实用新型的技术方案如下：

一种成像法荧光检测农药残留的装置，包括有紫外光源，紫外光源后端的光路中安装有低通滤光片、透镜、与光轴倾斜45°的分色片，分色片前端反射光路中放置有样品，分色片后端的样品荧光反射光路中安装有放大率为1的二个透镜组，二个透镜组之间安装有光阑，透镜组的出射光成像于面阵CCD探测器。

所述的成像法荧光检测装置，其特征在于所述的放大率为1的二个透镜组为对称结构。

本实用新型采用荧光分析法的原理，通过紫外光激发使试纸上特定的农药成分发出荧光，通过对背景、样品强度和几何特性的测量分析来判断农药超标与否。

与已有方法相比，本实用新型具有灵敏度高，方法简便快速，试样需求量少的特点，在于试剂缺乏稳定性的状态下，通过相对荧光强度测量，试纸荧光光斑区域与试纸背景的自动识别，从而能快速准确的判断农药残留量的超标与否，可以在相应场合做出现场检测，并在环境监测领域显示出独特的优越性。

附图说明

图1为本发明光路结构图。

图2是计算机处理试剂荧光成像的流程图。

具体实施方式

参见附图。一种成像法荧光检测农药残留的装置，包括有紫外光源9，紫外光源后端的光路中安装有低通滤光片8、聚光透镜7、45度倾斜的分色片1，分色片1前端反射光路中放置有样品，分色片1后端的样品荧光反射光路中安装有透镜组2、3，光阑4，透镜组5、6，透镜组5、6的出射光成像于面阵CCD探测器。紫外照明光路和荧光检测光路共轴，采用45度分色片进行照明光路和荧光检测光路的分离；紫外照明光路设计形成照明光斑；荧光检测光路设计形成1:1成像，探测荧光光斑区域，光路设计杂散光小于5％，荧光检测采用面阵CCD探测器成像。

紫外光源9发出的光经过聚光透镜7经分色片1反射形成一定大小的光斑照亮样品，光源处加入低通滤光片8，只透紫外光；照明方式为亮视场照明，保证了足够光照度和照明均匀性。样品荧光通过透镜2、3、光栏4、透镜5、6，按1：1比例成像于面阵CCD探测器上，系统为全对称系统，此种系统在垂轴方向度量的像差即垂轴像差左右两半部等值反号，故全组合成后的这些像差为零。它能消除场曲以外的全部初级像差。

计算机软件将面阵CCD探测器采集到的图像通过usb口传输到计算机并实时显示；计算机的图像处理模块对采集到的图像进行处理，从图像中提取斑状或圈状农药残留轮廓，将农残部分对应的图像的灰度值积分，将此积分值和事先通过试验确定的阈值进行比较以判断农药是否超标。