[实用新型]THz波普通灵敏度摄像头无效

专利信息
申请号: 200720117963.5 申请日: 2007-01-12
公开(公告)号: CN201100866Y 公开(公告)日: 2008-08-13
发明(设计)人: 欧阳征标 申请(专利权)人: 欧阳征标罗贤达
主分类号: G01R29/08 分类号: G01R29/08;G01R29/10
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地址: 518060广东省深圳市南山区南海大道3*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: thz 波普 通灵 摄像头
【说明书】:

(一)技术领域

发明涉及普通灵敏度的THz波摄像头,特别涉及应用于探测技术领域的THz波二维实时成像系统。

(二)背景技术

THz波通常指的是频率在100GHz~10THz(30μm~3mm)区间的电磁辐射,其波段位于微波和红外光之间。由于以前缺乏有效的THz产生和检测方法,人们对该波段电磁辐射性质的了解非常有限,以至于长期以来该波段被称为电磁波谱中的“THz空隙”。近十几年来,超快激光技术的迅速发展,为THz脉冲的产生提供了稳定、可靠的激发光源,促进了THz波辐射的机理研究、检测技术和应用技术的蓬勃发展。

THz脉冲光源与传统光源相比具有很多独特的性质:例如脉宽很窄,约为皮秒量级;单个脉冲的频带覆盖范围很宽;THz波激光器发射的具有很高的时间和空间相干性的THz波可作为摄像光源,从而可以同时获得其带宽覆盖的各频率分量的振幅和位相;THz波光子的能量只有毫电子伏特,不容易破坏被检测的物质,从而可以进行无损检测。

THz波作为一种新型远红外相干光源,目前主要的应用集中在两个方面,即THz波时域光谱分析技术和THz波成像技术,可能的应用包括各种固体尤其是半导体的THz时间分辨光谱测量,THz波医学成像,生物分子构象的THz波时域光谱分析,无标记DNA分子探测,THz波显微成像等。

目前的THz光谱和成像技术中THz波的扫描延迟系统主要采用机械扫描或电动平移台进行扫描,实现时间延迟的时域光谱测量和逐点扫描成像。这种方法的一个缺点是有一个扫描上限,扫描时间太长,观测光谱信息不够及时,时空分辨率都很低,难以做到实时成像。另外,由于扫描速度太慢,属于慢扫描时间延迟测量,从而不能很有效地抑制热背景噪声。这使得THz成像技术无法在实际中获得应用,例如,在海关检查或者保密场所的安全检查中都需要立即获得图像信号,这就要求发展实用化的THz的探测器和摄像头。

另外,目前大多数THz探测和成像技术都是使用大体积的电光调制元件来实现的,这也阻碍了THz探测器和摄像头向小型化和集成化的方向发展。

(三)发明内容

本发明针对上述技术的不足和缺陷,提供了一种体积小、结构简单、可集成化以及可实时二维成像的普通灵敏度THz波摄像头,其结构如下。含有一层基体(衬底)层,在衬底上有一半导体介质棒二维持阵列,半导体介质棒二维持阵列的下面是一半导体晶体管二维阵列,各晶体管分别接到差分放大电路,差分放大电路的输出接普通的图像处理、存储和显示器。半导体晶体管的最佳选择为晶体三极管,下面在介绍工作原理时,选择晶体管为三极管。

该装置的工作原理如下:由于介质棒的折射率比四周空气的折射率高很多,由光学原理可知,当THz电磁波入射时,THz信号将主要集中沿着半导体介质棒下行,在介质棒下部分的区域产生热效应,激发出电子空穴对。在偏置电压的作用下,电子空穴对被注入三极管基极。三极管使得外回路中产生放大的信号电流,该信号电流的大小与入射波的强度成正比,因此可实现对THz波的探测。三极管后面接差分放大电路,其作用是消除THz背景辐射产生的共模信号,有利于它在常温环境下工作,去掉庞大的制冷装置。把许多个THz波探测器排列成二维阵列,使不同位置的探测器接收不同位置的THz入射波,把各个端口输出的信号电流连接到信号采集电路,在电子开关的作用下,信号采集电路将所采集的信号输入到A/D转换器,然后再存入存储器,最后通过显示器显示出来,这样就可以获得一幅完整的THz图像。

需要说明的是,由于介质杆引导THz波传输主要依靠其高介电常数,因此杆的形状和杆排列的结构不影响信号的检测。

在介质杆的下面布置的三极管除了接收电子空穴对产生电流外,还有一定的信号放大作用,在普通灵敏度要求的情况下,也可以用二极管接收电子空穴对产生信号电流。

因为上述THz波摄像头直接使用半导体材料来实现成像功能,所以可以实现和其它比如芯片等半导体器件的集成。介质棒的尺寸可以做得很小,因此在很小的体积上可以集成非常多的介质棒,从而提高探测精度。

(四)附图说明

图1:单个THz波普通灵敏度探测器的侧剖面图

图2:普通灵敏度型THz波图像摄像头核心部件局部图

其中:1为介质棒,2为基体。

(五)具体实施方式

下面结合附图给出本发明的核心部件的一个实施例。

参照图1,THz摄像头就是由许多这样的THz波探测器二维排列形成的。在陶瓷基体1上通过分子束外延方式制作半导体Si平板,然后在Si平板的下半部分掺入杂质原子形成NPN结,镀制连接导线,再在其上部再生长Si平板层,然后由刻蚀方法在Si平板的上半部分制作出所需尺寸的圆柱形介质棒2,最后在介质棒的上端镀制金属电极连线。介质棒的下方正好和三极管基极相连接。三极管和差分电路相连。差分电路后面接外电路。单个介质棒的半径为1μm,相邻介质棒相隔距离为10μm,参照CCD的像素2048×2048,整个探测面积约为2cm×2cm。

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