[发明专利]共聚物和包含该共聚物的光敏热显成像材料

权利要求书

1.光敏热显成像材料，其在载体上含有不感光的脂肪族羧酸银盐、感光性卤化银和用于银离子的还原剂，其中光敏热显成像材料还包括共聚物，所述共聚物包含具有由式(1)表示的单体重复单元的链和具有由式(2)表示的单体重复单元的链的主链：

式(1)                    式(2)

(CH₂)_m-O_p

其中式(1)中，m为2或3，且p为5-1000的整数；式(2)中，q为5-1000的整数，Ra为氢原子或烷基，且Rb为氢原子或取代基。

2.权利要求1的光敏热显成像材料，其中式(1)中，m为2且p为10-500的整数。

3.权利要求1的光敏热显成像材料，其中式(2)中，Ra为氢原子或甲基。

4.权利要求1的光敏热显成像材料，其中由式(2)表示的链含有由式(3)表示的单体重复单元的链：

式(3)

其中R₃₁和R₃₂各自为氢原子或取代基；Ra为氢原子或烷基；q1为5-1000的整数。

5.权利要求4的光敏热显成像材料，其中基于单体重复单元，具有式(3)表示的重复单元的链至少占式(2)表示的链的10mol％。

6.权利要求1的光敏热显成像材料，其中由式(2)表示的链含有由式(4)表示的单体重复单元的链：

式(4)

其中R₄₁为氢原子或取代基；Ra为氢原子或烷基；q2为5-1000的整数。

7.权利要求6的光敏热显成像材料，其中基于单体重复单元，具有式(4)表示的重复单元的链至少占式(2)表示的链的5mol％。

8.权利要求6的光敏热显成像材料，其中R₄₁为具有1-30个碳原子的烷基、聚氧乙烯基或聚氧丙烯基。

9.权利要求1的光敏热显成像材料，由式(2)表示的链含有由式(5)表示的单体重复单元的链：

式(5)

其中R₅₁为氢原子或取代基；w为3-300的整数；Ra为氢原子或烷基；q3为5-1000的整数。

10.权利要求9的光敏热显成像材料，其中基于单体重复单元，具有式(5)表示的重复单元的链至少占式(2)表示的链的5mol％。

11.光敏热显成像材料，其在载体上含有不感光的脂肪族羧酸银盐、感光性卤化银和用于银离子的还原剂，其中光敏热显成像材料还包括共聚物，所述共聚物包含具有由式(1)表示的单体重复单元的链、具有由式(3)表示的单体重复单元的链和具有由式(4)表示的单体重复单元的链的主链：

式(1)    式(3)    式(4)

(CH₂)_m-O_p  

其中式(1)中，m为2或3且p为5-1000的整数；式(3)中，R₃₁和R₃₂各自为氢原子或取代基，Ra为氢原子或烷基且q1为5-1000的整数；式(4)中，R₄₁为氢原子或取代基，Ra为氢原子或烷基且q2为5-1000的整数。

12.光敏热显成像材料，其在载体上含有不感光的脂肪族羧酸银盐、感光性卤化银和用于银离子的还原剂，其中光敏热显成像材料还包括共聚物，所述共聚物包含具有由式(1)表示的单体重复单元的链和具有由式(5)表示的单体重复单元的链的主链：

式(1)                      式(5)

(CH₂)_m-O_p  

其中式(1)中，m为2或3且p为5-1000的整数；式(5)中，R₅₁为氢原子或取代基，w为3-300的整数，Ra为氢原子或烷基，且q3为5-1000的整数。

13.共聚物，其包含具有由式(1)表示的单体重复单元的链和具有由式(5)表示的单体重复单元的链的主链：

式(1)                      式(5)

(CH₂)_m-O_p  

其中式(1)中，m为2或3且p为5-1000的整数；式(5)中，R₅₁为氢原子或取代基，w为3-300的整数，Ra为氢原子或烷基，且q3为5-1000的整数。