[发明专利]抗眩层有效

专利信息
申请号: 200710080329.3 申请日: 2007-03-02
公开(公告)号: CN101256249A 公开(公告)日: 2008-09-03
发明(设计)人: 黄彦馀;林振吉;李娟如 申请(专利权)人: 中华映管股份有限公司
主分类号: G02B5/30 分类号: G02B5/30
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 代理人: 周长兴
地址: 台湾省*** 国省代码: 中国台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 抗眩层
【说明书】:

技术领域

发明是关于一种偏光板,尤其是指一种以团联共聚物作为抗眩层的偏光板。

背景技术

偏光板具有将入射光偏极化的功能。基本偏光板的结构,主要是由聚乙烯醇(polyvinyl alcohol,PVA)高分子掺杂碘离子(I3-或I5-),经延伸后可作为光线的吸收轴,而与PVA分子延伸方向垂直的部分则作为光线的透过轴。当应用于TFT-LCD的面板中,则可由液晶分子光轴方向搭配上下偏光板的配置(吸收轴平行或正交),达到控制背光源通过或阻绝的目的,以此控制面板为常黑(normally black)或常亮(normally white)的显示模式。

目前公知的偏光板结构如图1所示,由外表面到内表面依序为:表面保护膜10,抗眩层(antiglare)或硬膜层(hard coat)20,接着于二层作为保护层的三醋酸纤维素薄膜(Triacetate Cellulose,TAC)30,31中,夹置一层聚乙烯醇40,然后是黏着层50与离形层60。硬膜层20的表面处理主要为了防止偏光板的磨耗,但是此表面处理却反而造成面板的反光,而影响视觉舒适度。因此在进行硬膜形成时,会同时加入抗眩粒子,由抗眩粒子使背光源均匀的散射出面板,也可避免因外界光源造成的反光效应。

公知在偏光板中进行表面处理的流程,主要是将高分子单体或寡聚物,以及抗眩粒子,一起溶于溶剂中形成一胶体溶液。接着以旋转涂布的方式沉积于一偏光板上。待溶剂挥发完全后,照射UV光,使高分子单体或寡聚物进行聚合反应或交联反应,即形成抗眩层的制作。抗眩粒子的存在可使偏光板形成凹凸不平的表面,加上高分子单体与抗眩粒子对于光线散射能力的不同,故能达到使光线散射的目的,而具抗眩功能。

然而,公知偏光板因抗眩粒子的存在,使得抗眩层的厚度约达5-20μm,而在近来普遍要求偏光板薄型化的诉求下,必须更缩小抗眩粒子的尺寸,才能达到薄型化,但这相对提高抗眩粒子制备工艺的难度。此外,公知方法中,抗眩粒子的分散属随机,要控制分布均匀度也有其难度。若抗眩粒子在抗眩层中分布不均,则容易造成面板部分区域对于光线散射能力强,部分区域对于光线散射能力弱的现象,造成对比的分布均一性较差。因此,公知抗眩层的制作方法已无法符合目前的要求。

团联共聚物是将数个不同化学结构的分子链,以共价键形式连结在一起。如同高分子掺合体一样,当各分子间链段不兼容时,便会产生相分离。但因各分子链段被共价键连结在一起,因此相分离程度被限制在纳米级尺度,此称为微相分离(microphase separation)。

随着分子链的长度、体积分率以及作用力的改变,微相分离可产生各种具长程规则性(long-range order)的型态,最常见的微相分离型态有:体心立方堆积的圆球(body-centered cubic packed spheres)、六角堆积的圆柱(hexagonally packed cylinders)、规则双连续相双钻石结构(gyroid)及层状(lamellae)排列结构等。同时,文献亦已揭示,将团联共聚物以薄膜形式(厚度约100-200nm)呈现时,在空间上均匀且连续的规则结构仍能维持。

由于团联共聚物可自我聚集成具有纳米尺寸、及空间上均匀且连续的规则结构,加上各不同分子链间对于光线有不同的折射率,因此对于应用于偏光板上作为抗眩层有其发展潜力。

发明内容

本发明的目的在于提供一种抗眩层,以克服公知技术中存在的缺陷,

为实现上述目的,本发明提供的抗眩层,具有一如下式I的团联共聚物:

-Am-Bn-   式I;

其中,该式I中,m与n分别为一大于1的整数,且A与B分别选自下列结构单元:

以及

其中,R1、R2、R3、与R4分别为氢、或C1-C5的烷基;R5为C1-C5的烷基、R6为氢、苯基、取代或未取代的芳基、杂芳基、环基、或杂环基;且x为1-10的整数。

所述的抗眩层,其中,该结构式I的结构单元中,R1、R2、R3、与R4为氢或甲基。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中华映管股份有限公司,未经中华映管股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200710080329.3/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top