本发明提供了一种陶瓷上釉设备,包括进料装置、转运组件、上釉装置及出料装置,进料装置包括运输组件a,转运组件包括运输组件b、安装组件、抓取组件及控制组件,上釉装置包括釉池和旋转组件,出料装置包括运输组件,本发明通过抓取组件将瓶胚进行抓取,并在控制组件的作用下将瓶胚浸入釉池,在釉池内,旋转组件驱动瓶胚进行正反转,解决了现有技术中陶瓷瓶胚上釉不均匀导致后续烧制效果差的技术问题。
1.一种陶瓷上釉设备,其特征在于,包括:进料装置(1),所述进料装置(1)包括运输组件a(11);转运组件(2),所述转运组件(2)包括运输组件b(21)、安装组件(22)、抓取组件(23)及控制组件(24),所述运输组件b(21)设置在所述运输组件a(11)一侧;所述安装组件(22)上下滑动设置在所述运输组件a(11)的侧面,若干所述安装组件(22)沿所述运输组件b(21)的输送路径阵列,且所述安装组件(22)经过所述运输组件a(11)的上方;所述抓取组件(22)与所述安装组件(22)一一对应设置,且其伸缩设置在所述安装组件(22)的底部;所述控制组件(24)设置在所述安装组件(22)的上方,且其与所述安装组件(22)抵触设置;上釉装置(3),所述上釉装置(3)包括釉池(31)和旋转组件(32),所述釉池(31)沿所述运输组件b(21)的输送路径设置在所述进料装置(1)的后侧;所述旋转组件(32)沿所述运输组件b(21)输送路径设置在所述釉池(31)两侧,且所述旋转组件(32)驱动所述抓取组件(23)转动;出料装置(4),所述出料装置(4)包括运输组件c(41),所述运输组件b(21)的输送路径设置在所述釉池(31)的后侧;在工作过程中,未上釉的瓶胚通过所述运输组件a(11)输送并经过与其同步移动的所述安装组件(22)的下方,所述控制组件(24)驱动所述安装组件(22)下移,所述抓取组件(23)伸入瓶胚内部,随着移动,所述抓取组件(23)伸出将瓶胚与所述安装组件(22)固定,瓶胚被运送至所述釉池(31)上方时,所述控制组件(24)驱动所述安装组件(22)下移,瓶胚进入所述釉池(31),所述旋转组件(32)带动所述抓取组件(23)及瓶胚在所述釉池(31)内转动,上釉之后瓶胚继续运输至所述运输组件c(41)上方,所述抓取组件(23)松开对瓶胚的束缚,同时所述控制组件(24)带动所述抓取组件(23)移出瓶胚,瓶胚被所述运输组件c(41)输送。
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