本专利网">发明涉及一种半导体二极管制造加工用酸洗方法,主要包括以下步骤:溶液配制、送料、酸洗、出料清洗与烘干,上述步骤中使用到的酸洗槽设备包括酸洗槽、移动机构、分隔板与辅助机构,酸洗槽内从左往右均匀安装有移动机构,移动机构数量为三,相邻移动机构之间布置有分隔板,分隔板安装在酸洗槽内壁上,且酸洗槽上端安装有辅助机构。本发明使用三种酸洗溶液对二极管表面进行清洁,且在酸洗过程中可通过移动机构带动二极管进行上下运动,从而改变二极管位置,扩大二极管与酸洗溶液的接触面积,由于本发明采用浸没方式对二极管进行清洗,在清洗过程中,酸洗溶液不会四处飞溅,相比于喷淋法工作环境及清洗质量均得到了提升。
1.一种半导体二极管制造加工用酸洗方法,其特征在于:主要包括以下步骤:/nS1溶液配制:分别配制体积比为9:9:12:4的HNO3、HF、CH3COOH、H2SO4一次酸洗液、体积比为1:0.8:3:0.2的H3PO4、H2O2、H2O、CH3COOH二次酸洗液以及成分比为250g:1.25L:12.5L的CrO3、H2SO4、H2O三次酸洗液,以备之后进行酸洗工作;/nS2送料:将待酸洗的二极管分批次均匀放入酸洗设备内,并避免送料速度过快,以免二极管之间相互碰撞造成损伤;/nS3酸洗:使用酸洗设备对二极管进行酸洗,以改善二极管机械损伤,去除表面吸附的杂质;/nS4出料清洗:将酸洗后的二极管从酸洗设备内取出,并通过清水对二极管进行冲洗,去除二极管表面残留的酸洗溶液;/nS5烘干:使用热风式烘干机对二极管进行烘干处理;/n上述S1-S5中使用到的酸洗槽(1)设备包括酸洗槽(1)、移动机构(2)、分隔板(3)与辅助机构(4),酸洗槽(1)内从左往右均匀安装有移动机构(2),移动机构(2)数量为三,相邻移动机构(2)之间布置有分隔板(3),分隔板(3)安装在酸洗槽(1)内壁上,且酸洗槽(1)上端安装有辅助机构(4),酸洗槽(1)左侧壁上开设有进料口,酸洗槽(1)右侧壁上开设有出料口,酸洗槽(1)下端开设有下水口;/n所述酸洗槽(1)左右内壁与分隔板(3)作用内壁上均从前往后均匀开设有移动槽,移动槽内从上往下开设有伸缩槽;/n所述移动机构(2)包括驱动电机(21)、驱动杆(22)、驱动齿轮(23)、移动齿条(24)、酸洗架(25)与导引架(26),驱动电机(21)通过电机座安装在酸洗槽(1)外壁上,驱动电机(21)输出轴通过联轴器与驱动杆(22)一端相连接,驱动杆(22)另一端通过轴承安装在酸洗槽(1)内壁上,驱动杆(22)中部安装有驱动齿轮(23),驱动齿轮(23)左右两侧对称啮合有移动齿条(24),移动齿条(24)上端安装有酸洗架(25),酸洗架(25)之间连接有导引架(26),导引架(26)安装在酸洗槽(1)内壁上;/n所述辅助机构(4)包括顶板(41)、电动滑块(42)、安装块(43)与辅助刷(44),顶板(41)安装在酸洗槽(1)上端,顶板(41)为口字型结构,顶板(41)侧壁上开设有滑动槽,滑动槽内通过滑动配合方式安装有电动滑块(42),电动滑块(42)下端从左往右均匀安装有安装块(43),安装块(43)位置与导引架(26)位置一一对应,安装块(43)下端安装有辅助刷(44),辅助刷(44)下端面上均匀设置有刷毛。/n
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