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专利名称

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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]金属平面印章-CN02149361.8无效
发明人：秦玉行 -专利权人：靳广发
申请日： 2002-11-13 - 公布日： 2004-06-02 - 主分类号： B41K1/02 文献下载
摘要：一种金属平面印章，包括印章头和印柄，所述的印章头从最外层至内层依次由金属印面层、渗油层、储油层构成，所述的金属印面层由金属平板上的图文层和网纹层复合而成。渗油层延伸至该网纹层的网眼内。由于本发明的印面层由金属及刻蚀在其上的图文和网纹构成，故其长期浸泡于印油内也不会澎胀变形，其图文和网纹均可通过高科技手段制版，光刻，可以制作得相当精密，使印迹清楚规则，不易被仿冒。
金属平面印章

[实用新型]平面金属按键-CN201520132657.3有效
发明人：马志海;王志锋;区达理;陈逸凡;刘志才 -专利权人：佛山市顺德区美的电热电器制造有限公司;美的集团股份有限公司
申请日： 2015-03-09 - 公布日： 2015-07-01 - 主分类号： H01H13/14 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种平面金属按键，所述平面金属按键包括金属面板，所述金属面板的上表面设有按键区域，所述金属面板的下表面上设有向上凹入的凹槽，所述凹槽与所述按键区域相对。本实用新型的平面金属按键，按压更加容易，平面金属按键的灵敏度高。
平面金属按键

[实用新型]金属平面垫圈-CN202021211977.5有效
发明人：吴寿武 -专利权人：温州开安汽车零部件有限公司
申请日： 2020-06-28 - 公布日： 2021-05-04 - 主分类号： F16B43/00 文献下载
摘要：本实用新型公开了金属平面垫圈，具有冲压成形的环形圈体结构，其特征在于：环形圈体的外圆周设有一处切断口，切断口将环形圈体的内环和外环进行切断贯通，环形圈体的内环在靠近切断口的位置设有点状突出；环形圈体的内环或外环在与所述切断口错开
金属平面垫圈

[外观设计]开关（金属平面）-CN202030538486.0有效
发明人：沈加清 -专利权人：温州哲维光电科技有限公司
申请日： 2020-09-11 - 公布日： 2021-06-18 - 主分类号： 13-03 文献下载
摘要：1.本外观设计产品的名称：开关（金属平面）。2.本外观设计产品的用途：用于控制线路的通断。3.本外观设计产品的设计要点：在于形状。4.最能表明设计要点的图片或照片：设计1立体图。
开关金属平面

[发明专利]金属平面构件-CN03807825.2有效
发明人：格尔德·雨果 -专利权人：格尔德·雨果
申请日： 2003-01-28 - 公布日： 2005-07-27 - 主分类号： C09D5/00 文献下载
摘要：本发明涉及一种金属平面构件，其外表面经涂敷，以使其在近红外范围反射阳光，并且其内表面对热辐射有低的发射率。
金属平面构件

[实用新型]平面金属按键结构-CN200520109520.2无效
发明人：谢世辉 -专利权人：固特电子（深圳）有限公司
申请日： 2005-06-20 - 公布日： 2006-09-20 - 主分类号： G06F3/023 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种平面金属按键结构，该平面金属按键结构至少包含金属按键体和第一硅橡胶层，金属按键体具有已刻穿的按键符号以及包围按键符号的按键外框，第一硅橡胶形成在金属按键体的背面，且填充至已刻穿的按键外框和按键符号的空隙处
平面金属按键结构

[外观设计]手机金属平面支架-CN202130121558.6有效
发明人：潘小龙 -专利权人：潘小龙
申请日： 2021-03-05 - 公布日： 2021-08-31 - 主分类号： 14-06 文献下载
摘要：1.本外观设计产品的名称：手机金属平面支架。2.本外观设计产品的用途：本外观产品是一种手机支架。3.本外观设计产品的设计要点：在于形状。4.最能表明设计要点的图片或照片：立体图。
手机金属平面支架

[外观设计]金属印章（平面款）-CN202330162044.4有效
发明人：张志伟 -专利权人：曲阜市天成电子商务有限公司
申请日： 2023-03-29 - 公布日： 2023-07-14 - 主分类号： 19-02 文献下载
摘要：1.本外观设计产品的名称：金属印章（平面款）。2.本外观设计产品的用途：用于印章。3.本外观设计产品的设计要点：在于形状。4.最能表明设计要点的图片或照片：立体图。
金属印章平面

[外观设计]金属梅花管(平面)-CN01321210.9无效
发明人：王银辉 -专利权人：王银辉
申请日： 2001-07-13 - 公布日： 2002-03-13 - 主分类号： 23-01-R0215 文献下载
摘要：1.后视图与主视图相同，省略后视图。2.右视图与左视图相同，省略右视图。3.仰视图与俯视图相同，省略仰视图。
金属梅花平面

[发明专利]平面金属电加工-CN02817654.5无效
发明人：巴伦特·M·巴索尔;霍马尤恩·塔利赫;西普利安·E·尤佐赫 -专利权人：纳托尔公司
申请日： 2002-07-22 - 公布日： 2004-12-08 - 主分类号： H01L21/288 文献下载
摘要：本发明涉及在晶片上制作平整导体表面的方法。一方面，本发明使用采用电化学沉积的非接触型工艺，接着进行采用电化学机械沉积的接触型工艺。另一方面，采用电化学沉积的非接触型工艺使用一种溶液来适应该非接触型工艺，而采用电化学机械沉积的接触型工艺使用不同的溶液来适应该接触型工艺。
平面金属加工

[发明专利]平面金属出粉刀刀架和平面金属出粉刀-CN201810294910.3在审
发明人：王云桃 -专利权人：中山市威龙精工科技有限公司
申请日： 2018-04-04 - 公布日： 2018-08-03 - 主分类号： G03G15/08 文献下载
摘要：本发明提供一种平面金属出粉刀刀架和平面金属出粉刀，刀架其上用于焊接平面金属刀片的部分设有一个或多个利用激光打点方式除掉打点位置的防锈镀层露出金属本体而形成的呈下凹结构的焊接光斑。发明提供的平面金属出粉刀刀架和平面金属出粉刀，在刀架上待焊接金属刀片的部分利用激光打点的方式除去打点位置的防锈镀层，从而露出刀架的金属本体，能够保证金属刀片与刀架的金属本体部分直接接触，提高焊接质量。
刀架出粉刀金属本体平面金属打点位置防锈镀层金属刀片金属焊接激光光斑打点方式焊接金属焊接平面下凹结构除掉刀片打点保证

[实用新型]平面金属出粉刀刀架和平面金属出粉刀-CN201820467957.0有效
发明人：王云桃 -专利权人：中山市威龙精工科技有限公司
申请日： 2018-04-04 - 公布日： 2018-11-02 - 主分类号： G03G15/08 文献下载
摘要：本实用新型提供一种平面金属出粉刀刀架和平面金属出粉刀，刀架其上用于焊接平面金属刀片的部分设有一个或多个利用激光打点方式除掉打点位置的防锈镀层露出金属本体而形成的呈下凹结构的焊接光斑。实用新型提供的平面金属出粉刀刀架和平面金属出粉刀，在刀架上待焊接金属刀片的部分利用激光打点的方式除去打点位置的防锈镀层，从而露出刀架的金属本体，能够保证金属刀片与刀架的金属本体部分直接接触，提高焊接质量
刀架出粉刀金属本体平面金属打点位置防锈镀层金属刀片金属焊接激光本实用新型光斑打点方式焊接金属焊接平面下凹结构除掉刀片打点保证

[实用新型]一种金属止水带-CN201720810937.4有效
发明人：郑永锋;张红;杨建刚 -专利权人：陕西恒宇工程材料有限公司
申请日： 2017-07-06 - 公布日： 2018-05-11 - 主分类号： E01D19/06 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种金属止水带，包括：第一平面金属板、第二平面金属板、第三平面金属板和第四平面金属板，其中，第一平面金属板的宽度大于第三平面金属板的宽度，第二平面金属板的宽度大于第四平面金属板的宽度；第一平面金属板的一端与第二平面金属板的一端呈预设角度连接，第三平面金属板的一端与第一平面金属板的另一端竖直连接，第四平面金属板的一端与第二平面金属板的另一端竖直连接，第三平面金属板与第一平面金属板的夹角呈锐角，第四平面金属板与所述第二平面金属板的夹角呈锐角，
一种金属止水带

[发明专利]蚀刻填充平面金属画-CN201410370091.8在审
发明人：凌怀宇 -专利权人：凌怀宇
申请日： 2014-07-31 - 公布日： 2016-02-10 - 主分类号： B44C5/04 文献下载
摘要：一种蚀刻填充平面金属画。它是在蚀刻金属画的凹陷部分里，填入腻子或液态金属，并使蚀刻金属画的表面和凝固后的腻子或液态金属在同一水平面上。该蚀刻填充平面金属画，对细小线条和细密网点的表现效果较好，可广泛用于美术作品和照片的复制。
蚀刻填充平面金属

[发明专利]平面金属薄膜负载装置-CN201410457940.3有效
发明人：袁媛;盛亮;李阳;张美;彭博栋;赵吉祯;李奎念;王培伟;李沫;王亮平 -专利权人：西北核技术研究所
申请日： 2014-09-10 - 公布日： 2017-05-24 - 主分类号： H05H5/02 文献下载
摘要：本发明提供一种平面金属薄膜负载装置，包括负载、负载阴极及负载阳极，负载为平面金属薄膜，平面金属薄膜呈拉直状态，一端与负载阴极电连接，另一端与负载阳极电连接；负载装置还包括位于负载阴极和负载阳极之间的回流装置，回流装置包括回流柱底座及两个回流柱，两个回流柱对称设置在平面金属薄膜的两侧且与平面金属薄膜之间的距离可调，回流柱的一端与负载阳极电接触，回流柱的另一端与回流柱底座电连接，回流柱底座与负载阴极电连接。本发明可以研究负载平面两侧存在受力时，不稳定性的发展情况。相关研究结果可以应用于分析MagLIF套筒靶在致稳磁场作用下不稳定性发展情况。
平面金属薄膜负载装置

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