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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]一种多焦点激光并行直写密排纳米结构的光刻曝光系统及方法-CN202011488606.6在审
发明人：赵圆圆;段宣明;董贤子;郑美玲 -专利权人：暨南大学
申请日： 2020-12-16 - 公布日： 2021-05-07 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提出一种多焦点激光并行直写密排纳米结构的光刻曝光系统，包括激光器、空间光调制器、位相调制器、透镜组、物镜、衬底、位移台和上位机，其中衬底上表面涂覆设置有光刻胶，衬底放置在位移台上；上位机分别与空间光调制器本发明还提出了一种多焦点激光并行直写密排纳米结构的光刻曝光方法。
一种焦点激光并行直写密排纳米结构光刻曝光系统方法

[实用新型]一种单扫描驱动轴固定多棱镜光路直写设备-CN201621246473.0有效
发明人：沈小宏;赵华 -专利权人：无锡影速半导体科技有限公司
申请日： 2016-11-22 - 公布日： 2017-07-28 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种单扫描驱动轴固定多棱镜光路直写设备，属于直写曝光技术领域。本实用新型的单扫描驱动轴固定多棱镜光路直写设备，主要对真空吸盘结构进行了改进，有效解决了生产小板时由于漏气而造成的吸力不足的问题。进一步地，吸盘上的气孔分布为中间疏、四周密，有效杜绝了板子边缘翘起的问题，节省了气孔数量，减少了成本。
一种扫描驱动固定多棱镜光路直写设备

[实用新型]一种多扫描驱动轴固定多棱镜光路直写设备-CN201621246320.6有效
发明人：沈小宏;赵华 -专利权人：无锡影速半导体科技有限公司
申请日： 2016-11-22 - 公布日： 2017-11-17 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种多扫描驱动轴固定多棱镜光路直写设备，属于直写曝光技术领域。本实用新型的多扫描驱动轴固定多棱镜光路直写设备，主要对真空吸盘结构进行了改进，有效解决了生产小板时由于漏气而造成的吸力不足的问题。进一步地，吸盘上的气孔分布为中间疏、四周密，有效杜绝了板子边缘翘起的问题，节省了气孔数量，减少了成本。
一种扫描驱动固定多棱镜光路直写设备

[实用新型]一种DMD结构单轴固定光路直写曝光机-CN201721260560.6有效
发明人：李显杰 -专利权人：江苏影速光电技术有限公司
申请日： 2017-09-28 - 公布日： 2018-08-24 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种DMD结构单轴固定光路直写曝光机，属于直写曝光技术领域。本实用新型的DMD结构单轴固定光路直写曝光机，主要对真空吸盘结构进行了改进，有效解决了生产小板时由于漏气而造成的吸力不足的问题。进一步地，吸盘上的气孔分布为中间疏、四周密，有效杜绝了板子边缘翘起的问题，节省了气孔数量，减少了成本。本实用新型的DMD结构单轴固定光路直写曝光机，可生产55英寸的超大板。
直写曝光机单轴光路本实用新型吸盘曝光技术吸力不足有效解决真空吸盘漏气板子翘起小板生产改进

[实用新型]一种DMD结构单轴可移动光路直写曝光机-CN201621246489.1有效
发明人：陈海巍 -专利权人：无锡影速半导体科技有限公司
申请日： 2016-11-22 - 公布日： 2017-07-14 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种DMD结构单轴可移动光路直写曝光机，属于直写曝光技术领域。本实用新型的DMD结构单轴可移动光路直写曝光机，主要对真空吸盘结构进行了改进，有效解决了生产小板时由于漏气而造成的吸力不足的问题。进一步地，吸盘上的气孔分布为中间疏、四周密，有效杜绝了板子边缘翘起的问题，节省了气孔数量，减少了成本。本实用新型的DMD结构单轴可移动光路直写曝光机，可生产55英寸的超大板。
一种 dmd 结构单轴可移动光路直写曝光

[发明专利]一种激光直写光刻装置和方法-CN202310009055.8在审
发明人：陈修涛;高明;韩非;董辉 -专利权人：合肥芯冠半导体有限责任公司
申请日： 2023-01-04 - 公布日： 2023-05-09 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种激光直写光刻装置和方法，装置包括移动平台、激光器控制板、计算机、放置在移动平台上的曝光单元、与计算机连接的相机单元、平台控制器，平台控制器与驱动单元的受控端连接；曝光单元包括与激光控制板信号连接的密排激光器、凸透镜阵列、转镜或振镜、F‑θ扫描场镜、转镜或振镜的转角驱动，密排激光器中的光纤阵列发出的散射光散射至凸透镜阵列上，将散射光转化成多路平行光，然后照射到转镜或者振镜上，再通过F‑θ扫描场镜聚焦为与密排激光器中的每个激光二极管
一种激光光刻装置方法

[发明专利]一种DMD结构单轴固定光路直写曝光机-CN201611025003.6有效
发明人：李显杰 -专利权人：江苏影速光电技术有限公司
申请日： 2016-11-22 - 公布日： 2018-01-30 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种DMD结构单轴固定光路直写曝光机，属于直写曝光技术领域。本发明的DMD结构单轴固定光路直写曝光机，主要对真空吸盘结构进行了改进，有效解决了生产小板时由于漏气而造成的吸力不足的问题。进一步地，吸盘上的气孔分布为中间疏、四周密，有效杜绝了板子边缘翘起的问题，节省了气孔数量，减少了成本。本发明的DMD结构单轴固定光路直写曝光机，可生产55英寸的超大板。
一种 dmd 结构固定光路直写曝光

[实用新型]一种XYZ单扫描驱动轴可移动多棱镜光路直写设备-CN201621246475.X有效
发明人：沈小宏;赵华 -专利权人：无锡影速半导体科技有限公司
申请日： 2016-11-22 - 公布日： 2017-07-14 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种XYZ单扫描驱动轴可移动多棱镜光路直写设备，属于直写曝光技术领域。本实用新型的XYZ单扫描驱动轴可移动多棱镜光路直写设备，主要对真空吸盘结构进行了改进，有效解决了生产小板时由于漏气而造成的吸力不足的问题。进一步地，吸盘上的气孔分布为中间疏、四周密，有效杜绝了板子边缘翘起的问题，节省了气孔数量，减少了成本。本实用新型的XYZ单扫描驱动轴可移动多棱镜光路直写设备，可生产超大板。
一种 xyz 扫描驱动移动多棱镜光路直写设备

[实用新型]一种DMD结构XY单轴可移动光路直写曝光机-CN201621246457.1有效
发明人：赵华 -专利权人：无锡影速半导体科技有限公司
申请日： 2016-11-22 - 公布日： 2017-06-13 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种DMD结构XY单轴可移动光路直写曝光机，属于直写曝光技术领域。本实用新型的DMD结构XY单轴可移动光路直写曝光机，主要对真空吸盘结构进行了改进，有效解决了生产小板时由于漏气而造成的吸力不足的问题。进一步地，吸盘上的气孔分布为中间疏、四周密，有效杜绝了板子边缘翘起的问题，节省了气孔数量，减少了成本。本实用新型的DMD结构XY单轴可移动光路直写曝光机，可生产55英寸的超大板。
一种 dmd 结构 xy 单轴可移动光路直写曝光

[实用新型]一种单扫描驱动轴可移动多棱镜光路直写设备-CN201621246458.6有效
发明人：沈小宏;赵华 -专利权人：无锡影速半导体科技有限公司
申请日： 2016-11-22 - 公布日： 2017-07-14 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种单扫描驱动轴可移动多棱镜光路直写设备，属于直写曝光技术领域。本实用新型的单扫描驱动轴可移动多棱镜光路直写设备，主要对真空吸盘结构进行了改进，有效解决了生产小板时由于漏气而造成的吸力不足的问题。进一步地，吸盘上的气孔分布为中间疏、四周密，有效杜绝了板子边缘翘起的问题，节省了气孔数量，减少了成本。
一种扫描驱动移动多棱镜光路直写设备

[实用新型]一种XYZ多扫描驱动轴可移动多棱镜光路直写设备-CN201621246474.5有效
发明人：沈小宏;赵华 -专利权人：无锡影速半导体科技有限公司
申请日： 2016-11-22 - 公布日： 2017-07-14 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种XYZ多扫描驱动轴可移动多棱镜光路直写设备，属于直写曝光技术领域。本实用新型的XYZ多扫描驱动轴可移动多棱镜光路直写设备，主要对真空吸盘结构进行了改进，有效解决了生产小板时由于漏气而造成的吸力不足的问题。进一步地，吸盘上的气孔分布为中间疏、四周密，有效杜绝了板子边缘翘起的问题，节省了气孔数量，减少了成本。
一种 xyz 扫描驱动移动多棱镜光路直写设备

[发明专利]一种防串扰自限制的超细密排晶硅纳米线制备方法-CN202111227324.5有效
发明人：余林蔚;钱文涛;梁逸飞;王军转 -专利权人：南京大学
申请日： 2021-10-21 - 公布日： 2023-06-06 - 主分类号： B82B3/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种防串扰自限制的超细密排晶硅纳米线制备方法，包括如下步骤：1）采用旋涂的方法在衬底上旋涂一层电刻胶；2）利用电子束直写对预设形状的无掩膜图案进行曝光，电刻胶变性成为二氧化硅，曝光后形成由宽激活生长区域沟道和窄密排沟道构成的闭合沟道；3）以步骤2）所形成的闭合沟道为衬底，再次利用光刻电子束直写或者掩膜板技术在所述宽激活生长区域定义横向于沟道的图案并进行显影，以定义催化剂区域；4）在定义的催化剂区域淀积一层带状的催化金属层。
一种防串扰限制细密排晶硅纳米制备方法

[发明专利]一种直写曝光光路系统及其一次性直写曝光方法-CN201710181555.4有效
发明人：赵华;陈海巍;茆晓华;戴续;宁震坤;吴长江;刘世林;程珂;钱聪;李显杰 -专利权人：无锡影速半导体科技有限公司
申请日： 2017-03-24 - 公布日： 2019-08-06 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种直写曝光光路系统及其一次性直写曝光方法，属于直写曝光机技术领域。本发明的光路系统包括多排DMD组件，每排上的曝光组件成直线排列，相邻两排曝光组件交错分布，每个曝光组件都对应在相邻排两个曝光组件的中间位置；所述的直写曝光光路系统和一次性直写曝光方法可以避免Y轴往复运动带来的误差
一种曝光系统及其一次性方法

[实用新型]一种DMD结构多轴固定光路直写曝光机-CN201621246486.8有效
发明人：李阳 -专利权人：无锡影速半导体科技有限公司
申请日： 2016-11-22 - 公布日： 2017-07-14 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种DMD结构多轴固定光路直写曝光机，属于直写曝光技术领域。本实用新型的DMD结构多轴固定光路直写曝光机，主要对真空吸盘结构进行了改进，有效解决了生产小板时由于漏气而造成的吸力不足的问题。进一步地，吸盘上的气孔分布为中间疏、四周密，有效杜绝了板子边缘翘起的问题，节省了气孔数量，减少了成本。本实用新型的DMD结构多轴固定光路直写曝光机，可生产55英寸的超大板；且吸盘下方连接多组运动组件，多组运动组件的运动轴同步运动，提高了曝光精度和运行的稳定性。
一种 dmd 结构固定光路直写曝光

[发明专利]一种多扫描驱动轴可移动多棱镜光路直写设备-CN201611025122.1有效
发明人：李显杰 -专利权人：江苏影速光电技术有限公司
申请日： 2016-11-22 - 公布日： 2017-11-17 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种多扫描驱动轴可移动多棱镜光路直写设备，属于直写曝光技术领域。本发明的多扫描驱动轴可移动多棱镜光路直写设备，主要对真空吸盘结构进行了改进，有效解决了生产小板时由于漏气而造成的吸力不足的问题。进一步地，吸盘上的气孔分布为中间疏、四周密，有效杜绝了板子边缘翘起的问题，节省了气孔数量，减少了成本。本发明的多扫描驱动轴可移动多棱镜光路直写设备，可生产超大板；且吸盘下方连接多组运动组件，多组运动组件的运动轴同步运动，提高了曝光精度和运行的稳定性。
一种扫描驱动移动多棱镜光路直写设备

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