专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种喷嘴环焊接组件的工艺-CN201710030320.5在审
  • 郑建群;曾建;朱德优;何松建 - 苏州诺迅汽车零部件有限公司
  • 2017-01-16 - 2017-05-10 - C23C8/24
  • 本发明公开了一种喷嘴环焊接组件的工艺,包括以下步骤,具体如下A.将喷嘴环焊接组件放置在设备内的腔中;B.通过进气管道向设备内的腔中注入氮气,直至氮气浓度达到850PMM为止;C.以每小时145‑155℃的升温速度将设备内的腔升温至520℃,保温2个小时;D,以520℃保温两小时后,再以每小时145‑155℃的升温速度将设备内的腔升温至570℃,保温17个小时;E、停止加热,后的喷嘴环焊接组件随设备内的腔冷却至室温;其中,在步骤B‑E过程中,氮气浓度的浓度始终为850PMM,使焊接后的喷嘴环焊接组件进行处理,且大小部件的硬度均匀。
  • 一种喷嘴焊接组件工艺
  • [发明专利]碳共镀膜一体化设备碳共镀膜工件制备方法和应用-CN202310819771.2在审
  • 何永勇;李杨;张哲浩;房大振;卢金鹏 - 清华大学
  • 2023-07-05 - 2023-08-22 - C23C8/30
  • 本发明公开了一种碳共镀膜一体化设备碳共镀膜工件制备方法和应用。该设备包括碳共镀膜一体化设备本体、阴极罩、靶材挡板和工件架,碳共镀膜一体化设备本体上部形成真空腔室,碳共镀膜一体化设备本体下部形成共溅射腔,共溅射腔的内侧壁绝缘连接靶材;阴极罩间隔环绕共溅射腔内壁设置,阴极罩上设有多个通孔,阴极罩上端连接升降杆,阴极罩的下端可绝缘设在共溅射腔的底端;靶材挡板可旋转移动位于靶材与阴极罩之间;工件架位于阴极罩内,工件架与阴极罩内壁间隔,工件架下端绝缘连接共溅射腔底端该设备实现了工件的碳共和镀膜在同一设备中进行,使工件的碳共镀膜一体化,大大提高了生产效率。
  • 氮碳共渗镀膜一体化设备工件制备方法应用
  • [发明专利]镀膜一体化设备及方法和应用-CN202310819775.0在审
  • 何永勇;李杨;卢金鹏;张哲浩;雒建斌;闫计文;王政伟;邵明昊;周泽龙;窦海春 - 清华大学
  • 2023-07-05 - 2023-08-25 - C23C8/24
  • 本发明公开了一种镀膜一体化设备及方法和应用。该设备包括镀膜一体化设备本体、挡板、阴极筒体和工件架,镀膜一体化设备本体的内侧壁上绝缘连接靶材;挡板可旋转地环绕镀膜一体化设备本体的内壁设置,挡板与镀膜一体化设备本体的内壁间隔,挡板上设有第一开口,第一开口可旋转至靶材对应位置;阴极筒体包括第一阴极筒体和第二阴极筒体,挡板和阴极筒体均与镀膜一体化设备本体的底部绝缘连接,第一阴极筒体和第二阴极筒体上分别设有的第二开口和第三开口均与靶材对应设置;该设备将工件的和镀膜在同一设备中完成,实现了工件的镀膜一体化。
  • 镀膜一体化设备方法应用
  • [发明专利]一种退循环制备超厚/碳层的方法-CN202111114146.5有效
  • 佟伟平;张辉;李斯洋;王长久 - 东北大学
  • 2021-09-23 - 2022-08-23 - C23C8/26
  • 本发明属于金属渗碳或技术领域,具体涉及一种退循环制备超厚/碳层的方法。针对现有技术的不足,为提高渗/碳层深度,本发明提出一种、退循环制备超厚层的方法,首先对工件进行(碳),然后对其进行高温退(碳)处理,形成‑退循环,多次重复进行这一循环,可以提高(碳)在工件中的扩散深度,扩大层厚度。本发明可明显提高金属工件的层深度和层致密性,并加深化合物层厚度、提高渗层力学性能和耐腐蚀性能。本发明可利用现有工业领域(碳)及退火热处理设备,因此还具有设备和工艺路线简单,成本低廉等优点。
  • 一种循环制备超厚渗氮方法
  • [发明专利]离子磁场辅助设备、处理系统及方法-CN202110874697.5在审
  • 李杨;何永勇;邵明昊;张哲浩;王政伟;高雪鹏;卢金鹏;郭恒蛟;董永康;赵亚晴 - 烟台大学
  • 2021-07-30 - 2021-11-02 - C23C8/36
  • 本公开提出了一种离子磁场辅助设备、处理系统及方法,设备包括:绝缘壳体,适于放置于离子炉内,绝缘壳体为密闭壳体,用于屏蔽离子炉内的高压电场;和多个绕线方式相同且沿绝缘壳体的周向均布于绝缘壳体内的电磁铁组,各电磁铁组包括若干电磁铁,且相邻的两个电磁铁的绕线方式相反,通过多个电磁铁组在离子炉内形成可控的磁场,以改变金属工件表面电子的运动轨迹和金属工件的磁畴。系统包括:离子炉、离子磁场辅助设备、变压器、真空泵、供气瓶和电气控制柜。方法包括向炉体内通入含有元素的气体,并向金属工件提供间断的磁场。本公开可提高离子炉内的离子体密度,有效增加层厚度,以此提高渗质量。
  • 离子磁场辅助设备处理系统方法
  • [发明专利]一种气体炉的进出气设备-CN202210741243.5在审
  • 樊佳麟 - 科品(苏州)特殊钢有限公司
  • 2022-06-28 - 2022-09-02 - C23C8/24
  • 本发明公开了一种气体炉的进出气设备,包括储存箱、炉内胆、氨气存储箱、排气管和控制箱,所述储存箱上侧固定有限位夹持组件,且限位夹持组件之间夹持有炉外壳,同时炉外壳上设置有自动出料组件,所述自动出料组件固定在移动机构上,且移动机构固定在第三固定板上,同时第三固定板上固定有第三支撑板,所述第三支撑板上固定有第二液压缸,且第二液压缸通过活塞杆固定有顶盖拆卸安装组件,所述炉内胆位于炉外壳内。该气体炉的进出气设备本发明可对炉外壳进行限位固定,可对整个装置起到辅助降温作用,可对炉内胆内的工件进行自动卸料,可对炉外壳上的炉顶盖进行自动密封及开启的优点。
  • 一种气体渗氮炉进出设备
  • [发明专利]一种具有分段预热均匀排气结构的气体设备-CN202210500960.9在审
  • 樊佳麟 - 科品(苏州)特殊钢有限公司
  • 2022-05-10 - 2022-08-12 - C23C8/24
  • 本发明公开了一种具有分段预热均匀排气结构的气体设备,包括保温隔热罩和存气罩,所述保温隔热罩设置在底座上,且保温隔热罩内侧设置有箱,所述箱的侧壁内设置有加热机构,且箱的顶部对称设置有第一液压缸,所述存气罩对称设置在箱内,且存气罩顶端与换热管网的一端连接。该具有分段预热均匀排气结构的气体设备,设置有预热箱和换热管网,预热箱可通过其内壁上的电热丝对即将进入渗箱的氮气进行初步预热,从而便于防止其在进入渗箱时大幅度降低箱内的温度,换热管网可对进入渗箱内的氮气进行换热,从而便于对其进行进一步加热,使其内部的氮气与箱内的温度趋同,进而便于保证装置的效果。
  • 一种具有分段预热均匀排气结构气体设备
  • [发明专利]一种奥氏体不锈钢低温快速离子的方法-CN201310174793.4无效
  • 胡静;王树凯;李景才;宋建新 - 常州大学
  • 2013-05-13 - 2013-08-07 - C23C8/38
  • 本发明涉及一种表面处理方法,尤其涉及一种奥氏体不锈钢低温快速离子的方法。本发明在350~370℃的离子温度下通过改变离子炉中的气体压力保温一段时间以获得较厚的离子层。其制备方法:首先除去奥氏体不锈钢上的油污,试样预磨处理后在有机溶剂中进行超声清洗、烘干;然后,将准备好的试样置入离子氮化设备的真空室内,抽真空到所需真空度后通入氢气进行离子轰击清洗;最后,在低温离子过程中通过调整离子压力和保温时间,获得较厚的层,从而解决低温条件下离子层薄、耐磨性差的问题。由本发明方法进行离子分别保温4h、6h和8h可获得的最大层厚度分别可达22.2μm、29.6μm和51.7μm。
  • 一种奥氏体不锈钢低温快速离子方法
  • [实用新型]金属表面处理用离子-CN202222158891.6有效
  • 汪红松;汪劲松;汪才五;周兵;胡建辉 - 重庆鼎亚科技有限公司
  • 2022-08-17 - 2022-12-30 - C23C8/36
  • 本实用新型公开了金属表面处理用离子炉,包括底座、支撑台、结构和放料结构,所述支撑台设于底座上,所述结构设于支撑台上,所述放料结构设于底座上,所述结构包括罩、冷却层、氮气罐、氮气管、真空机本实用新型属于设备技术领域,具体是指金属表面处理用离子炉,有效的解决了目前市场上金属表面处理用离子炉一般采取自然冷却降温,降温效率低,而且炉密封罩需要使用电葫芦升降机升起落下,长时间的碰撞,容易导致密封口处,出现凹陷导致密封性差,进入空气,造成效果差,影响产品质量的问题。
  • 金属表面处理离子渗氮炉

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