专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]过热水蒸汽生成装置-CN201510609217.7有效
  • 外村徹;藤本泰広;木村昌义 - 特电株式会社
  • 2015-09-22 - 2019-05-14 - F22B1/28
  • 本发明提供一种过热水蒸气生成装置,能够在短时间内生成过热水蒸气并抑制能量消耗。具体所述过热水蒸气生成装置包括:水蒸气生成部(10),对水进行感应加热或通电加热而生成水蒸气;过热水蒸气生成部(20),被供给水蒸气生成部(10)生成的水蒸气,对所述水蒸气进行感应加热或通电加热而生成过热水蒸气;以及开关阀(40),设置在水蒸气生成部(10)和过热水蒸气生成部(20)之间,切换向过热水蒸气生成部(20)供给或停止供给水蒸气,开关阀(40)对供给或停止供给水蒸气进行切换,由此所述过热水蒸气生成装置从待机状态切换为供给状态,所述待机状态是水蒸气生成部(10)生成水蒸气的状态且停止供给水蒸气的状态,所述供给状态是向过热水蒸气生成部(20)供给水蒸气的状态。
  • 过热水蒸气生成装置
  • [实用新型]过热水蒸气生成装置-CN201520738160.6有效
  • 外村徹;藤本泰広;木村昌义 - 特电株式会社
  • 2015-09-22 - 2016-01-13 - F22B1/28
  • 本实用新型提供一种过热水蒸气生成装置,能够在短时间内生成过热水蒸气并抑制能量消耗。具体所述过热水蒸气生成装置包括:水蒸气生成部(10),对水进行感应加热或通电加热而生成水蒸气;过热水蒸气生成部(20),被供给水蒸气生成部(10)生成的水蒸气,对所述水蒸气进行感应加热或通电加热而生成过热水蒸气;以及开关阀(40),设置在水蒸气生成部(10)和过热水蒸气生成部(20)之间,切换向过热水蒸气生成部(20)供给或停止供给水蒸气,开关阀(40)对供给或停止供给水蒸气进行切换,由此所述过热水蒸气生成装置从待机状态切换为供给状态,所述待机状态是水蒸气生成部(10)生成水蒸气的状态且停止供给水蒸气的状态,所述供给状态是向过热水蒸气生成部(20)供给水蒸气的状态。
  • 过热水蒸气生成装置
  • [发明专利]过热水蒸气生成装置及使用其的处理方法-CN201610892073.5有效
  • 外村徹;北野孝次;藤本泰広 - 特电株式会社
  • 2016-10-12 - 2020-05-19 - F22G1/16
  • 本发明提供过热水蒸气生成装置及使用其的处理方法,能够防止使用过热水蒸气处理被处理物时在被处理物上产生结露,所述过热水蒸气生成装置包括:感应加热方式或通电加热方式的水蒸气生成部(2),从水生成水蒸气;感应加热方式或通电加热方式的过热水蒸气生成部(3),从水蒸气生成过热水蒸气水蒸气供给流道(L2),向过热水蒸气生成部(3)供给水蒸气生成部(2)生成了的水蒸气;以及气体供给流道(L3),向过热水蒸气生成部(3)供给其它气体,所述过热水蒸气生成装置能切换为第一状态或第二状态,所述第一状态是向过热水蒸气生成部(3)供给水蒸气的状态,所述第二状态是向过热水蒸气生成部(3)供给其它气体的状态。
  • 过热水蒸气生成装置使用处理方法
  • [实用新型]过热水蒸气生成装置-CN201621117150.1有效
  • 外村徹;北野孝次;藤本泰広 - 特电株式会社
  • 2016-10-12 - 2017-06-13 - F22G1/16
  • 本实用新型提供过热水蒸气生成装置,能够防止使用过热水蒸气处理被处理物时在被处理物上产生结露,所述过热水蒸气生成装置包括感应加热方式或通电加热方式的水蒸气生成部(2),从水生成水蒸气;感应加热方式或通电加热方式的过热水蒸气生成部(3),从水蒸气生成过热水蒸气水蒸气供给流道(L2),向过热水蒸气生成部(3)供给水蒸气生成部(2)生成了的水蒸气;以及气体供给流道(L3),向过热水蒸气生成部(3)供给其它气体,所述过热水蒸气生成装置能切换为第一状态或第二状态,所述第一状态是向过热水蒸气生成部(3)供给水蒸气的状态,所述第二状态是向过热水蒸气生成部(3)供给其它气体的状态。
  • 过热水蒸气生成装置
  • [实用新型]一种蒸煮发酵桶-CN201520958117.0有效
  • 邓远明 - 泸州观兴聚龙泉酒业有限公司
  • 2015-11-27 - 2016-04-06 - C12G3/12
  • 本实用新型公开一种蒸煮发酵桶,包括发酵桶体(1)、水蒸气供给装置(3)、水蒸气输入管(5)、水蒸气炉(6),所述发酵桶体(1)上端设有蒸汽出口(2),所述发酵桶体(1)桶内底面固定有水蒸气供给装置(3),所述水蒸气供给装置(3)下端连有水蒸气输入管(5),所述水蒸气输入管(5)的另一端与水蒸气炉(6)相连,所述发酵桶体(1)桶内底面设有排水孔(4)。
  • 一种发酵
  • [发明专利]一种蒸汽式产品瑕疵检测设备-CN202010020343.X在审
  • 魏小东;陶连成;唐红兵;闫朝旭 - 苏州启航电子有限公司
  • 2020-01-09 - 2020-06-05 - G01N33/00
  • 本发明公开了一种蒸汽式产品瑕疵检测设备,包括水蒸气供给系统、储气缸、水蒸气缓冲装置水蒸气过滤装置水蒸气出口,水蒸气供给系统向储气缸提供水蒸气水蒸气缓冲装置设置在储气缸内,接近储气缸的顶部出口,水蒸气过滤装置设置在储气缸的顶部出口,水蒸气出口设置在水蒸气过滤装置上。水蒸气在储气缸内上走,经过水蒸气缓冲装置水蒸气速度变缓。所述水蒸气过滤装置能够过滤掉颗粒较大的水蒸气,仅允许小颗粒水蒸气上行,经水蒸气出口弥漫在显示屏表面。本发明能够使小颗粒水蒸气均匀地附着在显示屏表面,使显示屏表面的细小瑕疵得到显现,提高本设备的检测精度。
  • 一种蒸汽产品瑕疵检测设备
  • [发明专利]亚临界处理系统-CN201910650769.0在审
  • 李洪国;高潮 - 高化学株式会社
  • 2019-07-18 - 2021-01-19 - B09B3/00
  • 本发明涉及一种亚临界处理系统,该亚临界处理系统包括用于进行亚临界处理的处理槽和用于向所述处理槽供给水蒸气水蒸气供给装置,其中,所述处理槽的形状为大致球体形状,在所述处理槽的壁部上设置有多个水蒸气供给部,来自所述水蒸气供给装置水蒸气通过所述水蒸气供给部喷向所述处理槽的内部。
  • 临界处理系统
  • [发明专利]氢生成装置、燃料电池系统以及氢生成装置的运转方法-CN201080003894.X有效
  • 行正章典;森田纯司;中村彰成 - 松下电器产业株式会社
  • 2010-03-30 - 2011-12-07 - C01B3/38
  • 本发明涉及氢生成装置、燃料电池系统以及氢生成装置的运转方法。在本发明的氢生成装置以及具备该装置的燃料电池系统的停止处理动作停止后的补压动作中,从原料气体中析出碳的可能性比以往技术受到了抑制。本发明的氢生成装置具备:具有切断原料供给的功能的原料供给器(102、103);具有切断水蒸气供给的功能的水蒸气供给器(104、105);具有重整催化剂(109)并使用从原料供给器提供的原料和从水蒸气供给器提供的水蒸气来生成含氢气体的重整器(108);至少切断重整器的下游的气体路径的关闭装置(116);控制器(140),在停止时,在重整器内包含氢的状态下,切断来自于原料供给器的原料供给和来自于水蒸气供给器的水蒸气供给的同时关闭上述关闭装置,并对于该关闭后伴随重整器的温度下降而产生的重整器的内部压力的降低,在重整器内包含氢的状态下,执行从水蒸气供给器提供水蒸气的补压动作。
  • 生成装置燃料电池系统以及运转方法
  • [发明专利]基板处理装置及基板处理方法-CN201780053402.X有效
  • 松井则政 - 株式会社斯库林集团
  • 2017-07-12 - 2023-10-20 - H01L21/306
  • 为了实现该目的,基板处理装置具备:处理槽,收容磷酸水溶液,且对已浸渍于该磷酸水溶液中的基板施加蚀刻处理;水蒸气供给机构,供给水蒸气;非活性气体供给机构,供给非活性气体;混合机构,从水蒸气供给机构被供给水蒸气,并且从非活性气体供给机构被供给非活性气体,且混合所供给来的水蒸气和非活性气体以生成混合气体;气泡产生器,从混合机构被供给混合气体,并且将所供给来的混合气体吹出至磷酸水溶液中以产生混合气体的气泡;以及流量调整机构,调整水蒸气供给机构所供给水蒸气的流量和非活性气体供给机构所供给的非活性气体的流量,以使混合气体的湿度成为目标湿度。
  • 处理装置方法
  • [发明专利]蚀刻装置及蚀刻方法-CN202111420780.1在审
  • 邻嘉津彦 - 株式会社爱发科
  • 2021-11-26 - 2022-07-01 - H01L21/311
  • 本发明供给一种能够提高衬底面内氧化硅膜的蚀刻量均匀性的蚀刻装置及蚀刻方法。本发明的蚀刻装置使用包含氟化氢和氨的处理气体来蚀刻氧化硅膜,其具有腔室、气体供给部、水蒸气供给部以及控制部。所述气体供给部构成为能够向所述腔室供给所述处理气体或所述处理气体的前体气体。所述水蒸气供给部构成为能够向所述腔室供给水蒸气。在蚀刻处理时,所述控制部以向所述腔室供给所述处理气体或所述前体气体、和所述水蒸气的方式控制所述气体供给部和所述水蒸气供给部。
  • 蚀刻装置方法
  • [实用新型]海水淡化装置-CN201320731033.4有效
  • 李佳珊 - 李佳珊
  • 2013-11-19 - 2014-04-30 - C02F1/04
  • 本实用新型提供一种海水淡化装置包括空气集热器组、蒸发塔、水蒸气引出管以及海水供给管,空气集热器组为4-6个串联的空气集热器,空气集热器组的热空气出口管接蒸发塔底部,海水供给管接蒸发塔顶部并通过位于蒸发塔顶部内的布水装置将海水喷淋而下,水蒸气引出管接蒸发塔顶部,水蒸气引出管套在海水供给管外且它们之间形成水蒸气通道,海水供给管的海水进口接海水泵,套在一起的水蒸气引出管和海水供给管均向下倾斜设置,水蒸气引出管和海水供给管的最高点为与蒸发塔连接点,水蒸气引出管的出口接空气泵,空气泵的出口接空气集热器组的冷空气进口,水蒸气引出管的出口还接凝结水排出管,凝结水由凝结水排出管排出收集获得淡水。
  • 海水淡化装置
  • [发明专利]半导体处理系统和气化器-CN200610146543.X有效
  • 冈部庸之;大仓成幸 - 东京毅力科创株式会社
  • 2006-11-15 - 2007-05-23 - H01L21/00
  • 半导体处理系统,具有将水蒸气供给收容被处理基板的处理室内的气体供给系统。气体供给系统包含用于从纯水得到水蒸气的气体生成装置。气体生成装置包含第一气化部和第二气化部。第一气化部通过在利用载体气体喷雾纯水的同时进行加热,生成包含雾的一次水蒸气。第二气化部通过气化一次水蒸气中的雾,从第一次水蒸气生成处理用水蒸气。第二气化部包含由配置为在第一气化部和处理室之间横穿所述一次水蒸气的通路的、捕捉雾的网状结构体构成的薄膜。
  • 半导体处理系统气化

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