专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]供应装置-CN201620690846.7有效
  • 张锡殷 - 永元株式会社
  • 2016-07-01 - 2017-03-15 - A23L2/38
  • 本实用新型涉及供应温水、冷水及碳酸供应装置,根据实施例,提供一种供应装置,是包括储存温水的温水桶、储存冷水的冷水桶、用水与碳酸气体生成碳酸的碳酸混合桶,其中,从所述碳酸混合桶排出碳酸的碳酸排出管连接有混合单元,所述混合单元包括壳体,其连接于所述碳酸排出管且空心;以及,安装部,其结合于所述壳体且在所述壳体的内部形成碳酸水流动的空间,所述空间包括扩散空间,其逐渐增大碳酸的流动面积;以及,收敛空间,其收敛并排出通过所述扩散空间的碳酸本实用新型的供应装置提高供应给消费者的碳酸的品质,通过碳酸气压改善碳酸的口感,提高消费者满意度。
  • 供应装置
  • [发明专利]洗碗机-CN201280050652.5有效
  • 韩政烨;李载喆;崔龙珍 - LG电子株式会社
  • 2012-08-31 - 2014-06-11 - A47L15/14
  • 该洗碗机包括构造成容纳餐具的内胆、构造成将供应到该内胆的水槽以及构造成将从外部源接收的供应到水槽或内胆的供应装置供应装置包括本体和多个排放部。该本体包括供应通道,从外部源供应沿着该供应通道流动;以及室,通过水供应通道供应被储存在该室中。通过排放部从供应通道被排放到室。
  • 洗碗机
  • [实用新型]供应装置用集成水路及供应装置-CN202121499191.2有效
  • 胡玉婷;王以龙;蔡茂虎 - 艾欧史密斯(中国)热水器有限公司
  • 2021-07-02 - 2021-12-10 - F24H9/00
  • 本实用新型提供了一种供应装置用集成水路及供应装置,集成水路包括用于连通臭氧供应单元的第一流道和用于连通水加热单元的第二流道,集成水路还包括能够阻断或导通第一流道的第一阀。供应装置为燃气热水供应装置,燃气热水供应装置包括集成水路和加热单元,加热单元包括热交换器,燃气热水供应装置具有与热交换器的进水端连接的进水管、以及与热交换器的出水端连接的出水管,进水管与集成水路的第二出水口连接本实用新型使供应装置具有供应含臭氧热水的功能,既满足普通用水需求,又满足除菌用水需求,同时不会导致供应装置的水路复杂化,有利于机器小型化。
  • 供应装置集成水路
  • [发明专利]供应装置及燃气热水设备-CN202110666100.8在审
  • 胡玉婷;王以龙;蔡茂虎 - 艾欧史密斯(中国)热水器有限公司
  • 2021-06-16 - 2022-12-16 - F24D17/00
  • 本发明提供了一种供应装置及燃气热水设备,该供应装置包括:加热单元,具有进水端和出水端;用于使所述供应装置输出的水中含有臭氧的臭氧供应单元;与所述臭氧供应单元相配合的循环控制机构,所述循环控制机构被配置为使部分流出所述臭氧供应单元的含有臭氧的再次流入所述臭氧供应单元本发明的供应装置及燃气热水设备,通过循环控制机构使臭氧供应单元产出的部分含臭氧的再次在臭氧供应单元内循环利用,以达到提高含有臭氧的水中的臭氧浓度的目的。
  • 供应装置燃气热水设备
  • [发明专利]水消毒设备和水消毒方法-CN202110191703.7在审
  • 唐丹天 - 北京欣天和怡光电科技有限公司
  • 2021-02-09 - 2022-08-16 - C02F1/50
  • 水消毒设备包括气体供应装置,用于供应气体;供应装置,用于供应;负氧离子发生装置,与气体供应装置供应装置分别流体连接,负氧离子发生装置包括电子释放极和负氧离子反应仓,负氧离子反应仓与气体供应装置流体连接以接收来自气体供应装置的气体,电子释放极位于负氧离子反应仓内,以在运行时向气体供应装置提供的气体释放电子,从而在气体中形成负氧离子,负氧离子反应仓与供应装置流体连接以将包含负氧离子的气体输送到供应装置。本发明的水消毒设备和方法,可以对在流动过程中实现消毒。
  • 水消毒设备方法
  • [实用新型]水消毒设备-CN202120373951.9有效
  • 唐丹天 - 北京欣天和怡光电科技有限公司
  • 2021-02-09 - 2022-01-04 - C02F1/50
  • 本实用新型涉及一种水消毒设备,包括气体供应装置,用于供应气体;供应装置,用于供应;负氧离子发生装置,与气体供应装置供应装置分别流体连接,负氧离子发生装置包括电子释放极和负氧离子反应仓,负氧离子反应仓与气体供应装置流体连接以接收来自气体供应装置的气体,电子释放极位于负氧离子反应仓内,以在运行时向气体供应装置提供的气体释放电子,从而在气体中形成负氧离子,负氧离子反应仓与供应装置流体连接以将包含负氧离子的气体输送到供应装置。本实用新型的水消毒设备,可以对在流动过程中实现消毒。
  • 水消毒设备
  • [发明专利]冲洗供应装置-CN201710846508.7有效
  • 谢文清;杨德济;洪来聪 - 厦门优胜卫厨科技有限公司
  • 2017-09-19 - 2021-01-22 - E03D1/30
  • 本发明公开了一种冲洗供应装置,包括:储水箱;用于向储水箱供给冲洗的进水阀组件;引射组件,包括与进水阀组件连通的喷嘴(114)和与供水装置出水口连通的引射管(19),在水流从喷嘴流向引射管时产生负压,将储水箱中的存水吸往引射管(19)一起排出;切换控制组件,用于控制水流在从喷嘴流向引射管及从喷嘴流向储水箱之间切换;与冲洗供应装置的启动组件(B)相互控制连接的联动组件,开启启动组件(B),联动组件驱动进水阀组件进水上述冲洗供应装置,无须势能差及压力蓄能,有效提高了使用安全性,降低了产品成本。
  • 冲洗供应装置
  • [实用新型]密封供应装置-CN201420376297.7有效
  • 张宏林;任小强 - 上海加力气体有限公司
  • 2014-07-08 - 2014-12-10 - F04C27/02
  • 本实用新型公开了一种密封供应装置,包括储水体和与储水体连通的密封正常供应模块与密封备用供应模块:所述密封正常供应模块,包括液位开关,所述液位开关连接软化水源和储水体,并根据储水体中液位的变化调节软化的供给量;所述密封备用供应模块,包括依次串接的循环水供给阀、开关和液位计组,所述循环水供给阀与循环水水源相连,所述液位计组与储水体相连,所述开关用于根据所述液位计测量到的液位信息调节循环水供给阀的开合度,以调节循环水的供给量本实用新型通过设置相互配合的密封正常供应模块和密封备用供应模块,既保证了密封供应的持续性,又降低了用水装置的结垢速率和检修频率,发展前景好,应用性广。
  • 密封供应装置
  • [实用新型]优质供应装置-CN200520008752.9无效
  • 刘京生 - 刘京生
  • 2005-03-22 - 2006-07-19 - C02F1/00
  • 一种优质供应装置,包括水箱、水泵、转换阀门和过滤装置,水箱的一个循环水流接口与水泵的一端连接,水箱的另一循环水流接口及水泵的另一端通过转换阀门分别与其过滤装置的两端连接;所述的转换阀门为而二位五通阀门,其连接方式是在循环串联的水箱、水泵和过滤装置的正常净化水流与水泵和过滤装置反向清洗水流之间的转换连接;在所述的水箱内的一端设有内循环装置和水位控制机构,在水箱的另一端的上下部分别设有所述的原水注入口和饮用水出口
  • 优质供应装置
  • [发明专利]马桶供应装置-CN00806190.4无效
  • 姜兴默 - 姜兴默
  • 2000-01-14 - 2004-03-24 - E03D3/12
  • 本发明通过密封地供应来防止冲洗的泄漏。进水管供水,从外部水源供给抽水马桶。蓄水容器贮存冲洗,该容器由可伸缩材料制成,该容器具有多个支管,每个支管的一端分别从该容器向外延伸。阀门机构控制支管的开关以便供水,从外部水源通过进水管流入支管。
  • 马桶供应装置
  • [实用新型]一种具有去离子供应装置的化学机械抛光系统-CN201320386422.8有效
  • 唐强;张溢钢 - 中芯国际集成电路制造(北京)有限公司
  • 2013-07-01 - 2014-02-05 - B24B37/00
  • 本实用新型提供一种具有去离子供应装置的化学机械抛光系统,所述化学机械抛光系统至少包括:抛光装置和去离子供应装置;所述抛光装置至少包括:抛光平台和覆盖于抛光平台上的抛光垫;所述去离子供应装置至少包括:去离子供应管道和设在所述去离子供应管道的出口处向所述抛光垫上喷洒去离子的至少一个喷嘴;所述去离子供应装置中包括一用于加热去离子的加热器,所述加热器设于所述去离子供应管道上;所述去离子供应装置还包括一温控装置该系统通过增加一加热器和一温控装置,使晶片在抛光过程中均匀抛光,并且利用温控装置可以自动控制晶片的去除率,从而提高晶片的抛光质量,更好地满足抛光要求,增加产率。
  • 一种具有离子水供应装置化学机械抛光系统

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