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- [发明专利]一种高光学纯度3-羟基四氢呋喃的制备方法-CN202110380706.5在审
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蒋彬
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新沂市凯美斯特医药科技有限公司
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2021-04-09
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2021-07-20
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C07D307/20
- 本发明公开了一种高光学纯度3‑羟基四氢呋喃的制备方法，包括以下制作方法，S1，以2‑羟基乙酸乙酯和丙烯酸甲酯为起始原料，在碱性条件下成环得到4‑甲酯基四氢呋喃‑3‑酮；S2，然后在酸性条件下脱酯得到四氢呋喃‑3‑酮；S3，以四氢呋喃‑3‑酮在催化剂的催化下分别得到高光学纯度的(S)‑3‑羟基四氢呋喃和(R)‑3‑羟基四氢呋喃。反应条件温和，可以采用管道式操作，生产周期短；避免使用硼氢化钠等危险化学试剂，三废少；将产生手性的酶催化还原反应放到最后一步可以有效的防止消旋反应，提高产物的光学纯度(ee99.8％)；该路线可以同时生产四氢呋喃‑3‑酮及其还原产物(S)‑3‑羟基四氢呋喃和(R)‑3‑羟基四氢呋喃这三种重要的医药中间体，大大提高了生产效率。
- 一种光学纯度羟基呋喃制备方法
- [发明专利]一种四氢呋喃脱水新工艺-CN202211568801.9在审
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权力;权思影
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杰特（宁夏）科技有限公司
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2022-12-08
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2023-05-02
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C07D307/08
- 本发明涉及脱水技术领域，且公开了一种四氢呋喃脱水新工艺，包括以下重量份数配比的原料：甲醇113ppm、乙醇7ppm、THF浓度66.27％、异丙醇65ppm、异丁醇37ppm、2，3‑二氢呋喃134ppm、1，3‑二氧戊烷60ppm、正丁醛8ppm、2，5‑二氢呋喃9ppm、4‑甲基‑1和3‑二氧戊烷107ppm、2‑甲基四氢呋喃18ppm、3‑甲基四氢呋喃1064ppm、过氧化物50ppm和未知杂质。该四氢呋喃脱水新工艺，通过加入填料在脱水塔的内部进行反应，进行反复的循环有助于提高四氢呋喃的提纯效果，其次在使用时能够有效使得脱水塔内部保持稳定性，然后进行气体液体分离，以及对残渣进行分离，有效的提高对四氢呋喃的分离纯度，解决了随着THF反应器出来的四氢呋喃纯度的降低，原有脱水塔无法满足THF分离要求的问题。
- 一种呋喃脱水新工艺
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