专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]晶圆半导体产品、掩膜版以及光刻机-CN202110317708.X在审
  • 潘钙;王国峰;杨忠武 - 北海惠科半导体科技有限公司
  • 2021-03-25 - 2021-08-06 - G03F9/00
  • 本发明提供了一种晶圆半导体产品、掩膜版以及光刻机,所述晶圆半导体产品包括光学对准场以及多个管芯曝光场;所述光学对准场包括至少一个光学对准目标标记、至少一个第一精细对准目标标记、以及多个管芯;其中,所述光学对准目标标记的对位精度低于所述精细对准目标标记的对位精度,所述管芯与所述光学对准目标标记之间间距不小于一预设的安全距离。由于在光学对准场内除开对准目标标记区域的空白区域内也布置有效管芯,光学对准目标标记与其相邻的管芯之间间距不小于一预设的安全距离,这样避免了管芯和光学对准目标标记的相互影响,在保证光学对准场的对准功能实现的前提下
  • 半导体产品掩膜版以及光刻
  • [发明专利]一种对准系统-CN201010286110.0有效
  • 杜聚有 - 上海微电子装备有限公司;上海微高精密机械工程有限公司
  • 2010-09-17 - 2012-04-04 - G03F9/00
  • 一种对准系统,包括光源模块,提供对准系统所需的对准光束,所述对准光束至少具有两个传播方向;光学条纹形成装置,接收上述不同方向的对准光束,形成第一光学条纹;光学模块,接收第一光学条纹,形成具有和下述对准标记相同的周期和方向的第二光学条纹,并接收所述第二光学条纹照射到下述对准标标记后形成的衍射光束;对准标记,具有一定的周期,至少向两个方向排列,其能接收第二光学条纹,并使其发生衍射;光电探测器,设置在光学模块和光学条纹形成装置之间,接收并测量上述衍射光束的强度,利用光强变化反映的位相信息确定对准位置。
  • 一种对准系统
  • [发明专利]光学元件的运动耦合-CN202080045520.8在审
  • 亚历山大·松 - 脸谱科技有限责任公司
  • 2020-06-10 - 2022-02-01 - G02B7/00
  • 本文提供了用于在光学组件中使用的光学元件的方面。光学元件可以包括光学衬底、光学部件(例如,透镜)和多个对准特征。光学部件被配置为接收光,并且被包括在光学衬底的中间区域中。对准特征被包括在光学衬底的表面上的外围区域中。对准特征被配置为接触被包括在光学组件的另一光学元件中的相对应的多个对准特征,以在光学元件和另一光学元件之间提供运动耦合,从而用于将光学部件对准
  • 光学元件运动耦合
  • [发明专利]双面对准装置及其对准方法-CN200910199445.6有效
  • 蔡巍;徐兵;陈跃飞;张春莲;王端秀 - 上海微电子装备有限公司
  • 2009-11-26 - 2011-06-01 - G03F9/00
  • 本发明提出了一种双面对准装置及其方法。双面对准装置包括掩模对准装置、硅片前表面对准装置和硅片后表面对准装置。掩模对准装置包括掩模照明光学系统、掩模成像光学系统和图像传感器,实现掩模标记对准;硅片前表面对准装置包括上述掩模照明光学系统、掩模成像光学系统和图像传感器,借助于投影物镜实现硅片前表面标记对准和工件台基准标记对准;硅片后表面对准装置包括底部照明光学系统、底部成像光学系统、上述掩模成像光学系统和图像传感器,借助于投影物镜实现硅片后表面标记对准。本发明的双面对准装置及其对准方法,降低了双面对准系统的设计成本及复杂度。
  • 双面对准装置及其方法
  • [发明专利]晶圆半导体产品及其制作方法-CN202110317624.6在审
  • 王国峰;潘钙;杨忠武 - 北海惠科半导体科技有限公司
  • 2021-03-25 - 2021-08-06 - G03F9/00
  • 本发明提供了一种晶圆半导体产品及其制作方法,所述晶圆半导体产品包括光学对准场以及多个管芯曝光场,所述光学对准场包括至少一个光学对准目标标记;所述多个管芯曝光场,呈点阵式的排列在晶圆半导体产品上除所述光学对准场以外的区域;其中,每一所述管芯曝光场包括多个管芯以及第二精细对准目标标记;所述光学对准目标标记的对位精度低于所述第二精细对准目标标记的对位精度,所述光学对准场的个数仅为一个。通过减少光学对准场的数量,减少了光学对准场的数量,在相同晶圆面积下可布设更多的管芯曝光场,提升了有效管芯的布局数量,降低了平均每个管芯的成本。
  • 半导体产品及其制作方法
  • [发明专利]一种适用于光学系统装调的空间坐标系对准装置-CN202211241618.8在审
  • 曾爱军;朱玲琳;黄惠杰 - 上海镭望光学科技有限公司
  • 2022-10-11 - 2023-01-13 - G02B27/30
  • 一种适用于光学系统装调的空间坐标系对准装置,用于光学系统中两个光学模块装调时的空间坐标系的对准,包括:XY对准器、角锥镜、RXY对准器、RZ对准器;XY对准器位于角锥镜的斜边的入射光束一侧,RXY对准器位于角锥镜的斜边的出射光束一侧;光束射入XY对准器以判定两个光学模块是否发生X方向偏移或/和Y方向偏移;经角锥镜反射后的出射光束射入RXY对准器以判定两个光学模块是否发生X方向旋转或/和Y方向旋转;该出射光束射入RZ对准器以判定两个光学模块是否发生空间坐标系对准装置结构精简、操作简单,能够对光学系统中两个光学模块装调时的空间坐标系从五个自由度进行对准,且空间坐标系在对准过程中的对准效果清晰直观。
  • 一种适用于光学系统空间坐标系对准装置
  • [发明专利]用于对液晶层进行图案化的方法和系统-CN202080080827.1在审
  • R·K·科曼杜里;吴哲宇 - 奇跃公司
  • 2020-11-19 - 2022-07-08 - G02F1/1337
  • 在一些实施方式中,通过使用纳米压印对准层来图案化液晶层来创建光学母版。纳米压印对准层和液晶层构成光学母版。光学母版位于光对准层上面。光学母版被照射并且传播通过纳米压印对准层和液晶层的光被衍射,并且随后撞击光对准层。入射的衍射光使液晶层中的图案被转移到光对准层。第二液晶层被沉积到图案化光对准层上,图案化光对准层随后用于对准第二液晶层的分子。在一些实施方式中,图案化光对准层中的第二液晶层可被用作复制光学母版或衍射光学元件,诸如用于引导光学装置中的光,诸如显示装置,包括增强现实显示装置。
  • 用于液晶进行图案方法系统
  • [发明专利]光学子组件与光电器件的光学对准-CN201780028528.1有效
  • R.R.瓦兰斯;G.L.克洛茨;R.D.丹嫩伯格 - 库多广达佛罗里达股份有限公司
  • 2017-03-15 - 2020-11-24 - G02B6/42
  • 使用外部源和外部接收器,使光信号经由设置在光学子组件上的对准反射表面特征部通过光电器件中的无源波导,实现了光学子组件和光电器件的光学对准光学子组件设置有第一对准反射表面和第二对准反射表面,第一对准反射表面将来自光源的对准信号引导到波导的输入部处的光栅耦合器,在对准信号已通过波导从输入部传输到输出部之后,第二对准反射表面将来自波导的输出部处的光栅耦合器的对准信号引导到接收器通过调节光学子组件和光电器件之间的相对位置,并检测从第二对准反射表面反射的对准信号的最大光功率,可以确定光学子组件和光电器件的最佳光学对准的位置。
  • 学子组件光电器件光学对准
  • [发明专利]具有温度独立机械对准的光子集成电路连接器-CN202080060643.9在审
  • 迈克尔·A·哈斯;尼古拉斯·A·李 - 3M创新有限公司
  • 2020-08-27 - 2022-04-08 - G02B6/38
  • 本发明提供了一种光学组件,该光学组件包括:光学套管,该光学套管被构造成接收来自光波导的光,并且包括至少四个套管对准特征结构;以及托架,该托架将光学套管固定在其中,并且被构造成将光学套管对准光学部件,该托架包括至少四个托架对准特征结构,该至少四个托架对准特征结构被构造成与至少四个套管对准特征结构在至少四个对应的接触区域中以一一对应的关系形成接触或接近接触,使得随着托架和光学套管中的至少一者的温度充分改变,光学套管和托架的对应的对准特征结构相对于彼此滑动,从而致使光学套管和托架的对应的对准特征结构移动以限定对应的横穿区域,使得当延伸时,至少四个套管对准特征结构和至少四个托架对准特征结构的横穿区域在相同第一点的20微米内穿过。
  • 具有温度独立机械对准光子集成电路连接器

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