专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]系统设计装置-CN201080070309.8有效
  • 藤泽晓;石原智史;中田博之;上野雅之 - 三菱电机株式会社
  • 2010-11-24 - 2013-07-31 - G06F17/50
  • 具有:存储部(67B),其将成为FA系统的结构要素的FA设备中的由本装置设计的FA设备的结构作为设计对象单元结构进行存储,并且,将FA设备中的不由本装置设计的多个FA设备的结构作为1个结构即通用单元结构进行存储;输入部,其输入指示信息,该指示信息用于指定设计对象单元结构的至少1个及通用单元结构;系统结构生成处理部(63),其从存储部(67)读取与从输入部输入的指示信息对应的设计对象单元结构及通用单元结构,而生成FA系统的系统结构;以及显示部,其显示由系统结构生成处理部(63)生成的系统结构,由此,将FA设备中的不由本装置设计的多个FA设备作为1个结构即通用单元结构进行显示。
  • 系统设计装置
  • [发明专利]布线结构及其形成方法和形成掩模布局的方法-CN201611115396.X有效
  • 吴寅旭;李钟弦;黄盛昱 - 三星电子株式会社
  • 2016-12-07 - 2021-10-26 - H01L21/027
  • 本发明提供了一种形成掩模布局的方法、一种形成布线结构的方法和一种布线结构。所述形成掩模布局的方法包括:形成包括下布线结构案和伪下布线结构案的第一掩模的布局。形成与第一掩模重叠并且包括上布线结构案和伪上布线结构案的第二掩模的布局。形成包括第一过孔结构案和第一伪过孔结构案的第三掩模的布局。形成包括第二过孔结构案和第二伪过孔结构案的第四掩模的布局。第二过孔结构案可与下布线结构案和上布线结构案共同地重叠,并且第二伪过孔结构案可与伪下布线结构案和伪上布线结构案共同地重叠。第四掩模可与第三掩模重叠。
  • 布线结构及其形成方法布局
  • [发明专利]小视点间距视图拍摄获取系统-CN201910630959.6有效
  • 刘立林;滕东东 - 中山大学
  • 2019-07-12 - 2021-07-27 - H04N5/225
  • 本发明公开一种小视点间距视图拍摄获取系统,包括两个或更多的单目子系统,各单目子系统分别包括:两个或更多的单结构像获取组件,偏转分光器件,同步对焦控制单元;其中,各单结构像获取组件和偏转分光器件设置为使得各成像透镜光心本身或它们关于偏转分光器件的像点通过类似于传统相机结构的单结构像获取组件和偏转分光器件的结合,或者设计不同于传统相机结构的复合结构像获取组件,本专利利用不同图像获取组件的物像关系,或/和光心接近实体透镜边缘的成像透镜,或/和光学参数可控的成像透镜
  • 视点间距视图拍摄获取系统

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