专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]制备薄膜的装置、方法及制备太阳能电池的方法-CN201510372226.9有效
  • 符春林;高荣礼;蔡苇;陈刚;邓小玲 - 重庆科技学院
  • 2015-06-30 - 2017-06-13 - C23C26/00
  • 本发明公开了一种制备有织构特征的薄膜的装置,主要在于在坩埚体侧壁上对称设置有两个相同的通气孔,通气孔上连接有通气管。使用该装置制备薄膜,采用现有方法在基板上沉积薄膜,在退火步骤中将薄膜置于该装置坩埚内腔,使通气管的中心线穿过薄膜,该装置放置在管式炉中对薄膜定向退火。退火过程中用较小的氧气量就使氧气在薄膜表面形成定向流动,从而使薄膜的晶粒在氧气流动方向成长较快,形成织构特征。采用本方法将薄膜太阳电池中的薄膜形成织构特征从而得到具有织构特征的薄膜太阳能电池。
  • 制备铁酸铋薄膜装置方法太阳能电池
  • [发明专利]一种坩埚及用其制备具有织构特征的靶材的方法-CN201510374891.1有效
  • 符春林;高荣礼;蔡苇;陈刚;邓小玲 - 重庆科技学院
  • 2015-06-30 - 2017-04-19 - F27B14/10
  • 本发明公开了一种坩埚、用其制备具有织构特征的靶材的方法,该坩埚包含坩埚体和坩埚盖,主要在于在坩埚体的侧壁上对称开设有两个相同的孔。利用传统方法制备粉末并把粉末进行压型得到块,使用本发明的坩埚烧结块,将块放入该坩埚体中,使坩埚体侧壁上两孔的中心线穿过块,盖上坩埚盖,将坩埚置入微波马弗炉中烧结,块的晶粒在坩埚体侧壁上的两个孔中心线的方向生长较快,具有固定的取向,形成织构,即得到具有织构的靶材。本发明的坩埚结构简单,利用该坩埚对块实现定向烧结,从而获得有织构的靶材,方法简单。
  • 一种坩埚制备具有特征铁酸铋靶材方法
  • [发明专利]一种多孔光催化可再生吸附剂的制备方法-CN201710466619.5有效
  • 曲阳;焦爽;王滨松 - 黑龙江大学
  • 2017-06-21 - 2019-09-10 - B01J20/02
  • 一种多孔光催化可再生吸附剂的制备方法,它涉及一种可再生吸附剂的制备方法。本发明的目的是要解决现有纳米粉体在可见光下对染料不具备较强的吸附能力,需要通过复杂的实验过程改变纳米粉体的形貌,限制了光催化吸附剂的大规模应用的问题。方法:一、制备前驱体溶液;二、将饼干碎块浸泡在前驱体溶液中,再温至600℃~800℃,再在温度为600℃~800℃下煅烧2h~4h,得到多孔光催化可再生吸附剂,本发明采用模板法合成多孔光催化可再生吸附剂本发明适用于制备多孔光催化可再生吸附剂。
  • 一种多孔铁酸铋光催化再生吸附剂制备方法
  • [发明专利]多层同质生长薄膜材料及其制备方法-CN201310646917.4有效
  • 严胡睿;周文亮;杨平雄;褚君浩 - 华东师范大学
  • 2013-12-04 - 2014-03-26 - C23C14/06
  • 本发明公开了多层同质生长薄膜材料,包括底电极和薄膜,所述底电极是镍镧薄膜,所述薄膜溅射生长在所述底电极上。本发明还公开了多层同质生长薄膜材料的制备方法,用磁控溅射法在硅基片上制备所述底电极,采用固相法制备薄膜;在底电极上溅射一层所述薄膜,然后快速退火,重复以上溅射过程6-8次;最后慢退火处理,得到所述多层同质生长薄膜材料。本发明得到的薄膜均匀性好、纯度高、致密性好,表面性质明显改善。本发明方法利用磁控溅射法可控性强,易于操控,可以精确控制薄膜的厚度。
  • 多层同质生长铁酸铋薄膜材料及其制备方法
  • [发明专利]一种钬掺杂材料及其制备方法-CN201110287561.0无效
  • 侯志灵;周海峰;孔令宝 - 北京化工大学
  • 2011-09-26 - 2012-05-09 - C01G49/00
  • 本发明提供一种钬掺杂材料,该钬掺杂材料的化学式为Bi1-xHoxFeO3,0<x≤0.15。本发明还提供所述钬掺杂材料的制备方法。本发明提供的钬掺杂材料的磁性较材料的磁性显著增强。本发明提供的掺钬材料的结晶质量稳定,在信息存储、卫星通讯、精密控制、高压输电线路测量、磁电传感器、吸波隐身材料等领域具有很好的应用前景。本发明提供的钬掺杂材料的制备方法具有设备简单、无污染、制备工艺简单、工艺条件容易控制、产量高、适合批量生产等优点。
  • 一种掺杂铁酸铋多铁材料及其制备方法
  • [发明专利]/钛叠层结构电容及其制备方法-CN200710175793.0有效
  • 谢丹;任天令;臧永圆;刘理天 - 清华大学
  • 2007-10-12 - 2008-03-05 - H01L27/04
  • 本发明涉及/钛叠层结构电容及其制备方法,属于微电子新材料与器件技术领域,该电容包括:以硅为衬底,在该衬底上依次结合有氧化层、下电极金属层、薄膜,以及上电极金属层;在所述下电极金属层与薄膜之间还结合有钛诱导层薄膜该方法由BFO和钛BXT前驱体溶胶的制备,以及BFO/钛BXT叠层结构电容的制备三部分组成。本发明利用该方法制备出来的电电容具有优异的抗疲劳特性、较高的剩余极化强度(Pr),较低的操作电压(Vc),较好的介电特性,并能与CMOS工艺技术相兼容的特点,且在室温下能够正常工作,适用于新型高密度存储器以及集成电器件
  • 铁酸铋钛酸铋叠层结构电容及其制备方法

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