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[发明专利]一种提高光罩图形线宽均匀性的方法及装置-CN202011389915.8在审
发明人：张家玮;蔡奇澄;黃钲为;李双双 -专利权人：泉芯集成电路制造（济南）有限公司
申请日： 2020-12-01 - 公布日： 2021-03-23 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：本发明提供了一种提高光罩图形线宽均匀性的方法及装置，所述方法包括：获取目标光罩图形的线宽均匀性要求；获取设计图形；基于所述设计图形仿真获得光罩仿真图形；判断所述光罩仿真图形的线宽均匀性是否满足所述线宽均匀性要求；若否，则在所述设计图形的周围不断添加亚分辨率虚拟图形，改变所述设计图形的图形密度，构成目标设计图形；基于所述目标设计图形，在光罩衬底上形成所述目标光罩图形。该方法通过在设计图形的周围不断添加亚分辨率虚拟图形，丰富设计图形的周围环境，即改变所述设计图形的图形密度，进而改善目标光罩图形的线宽均匀性，提高产品良率。
一种提高图形均匀方法装置

[发明专利]光学邻近修正方法及系统、掩膜版、设备及存储介质-CN202210114485.1在审
发明人：刘文东 -专利权人：中芯国际集成电路制造（上海）有限公司;中芯国际集成电路制造（北京）有限公司
申请日： 2022-01-30 - 公布日： 2023-08-08 - 主分类号： G03F1/36 文献下载
摘要：一种光学邻近修正方法及系统、掩膜版、设备及存储介质，修正方法包括：提供原始版图层，原始版图层包括平行排布的设计图形，沿设计图形的排布方向，相邻设计图形相对的边作为禁止边，相邻设计图形相背离的边作为非禁止边，且相邻设计图形之间的间隔具有最小设计规则值；在相邻设计图形相背离的非禁止边一侧添加与非禁止边相邻接的第一补偿图形；添加第一补偿图形之后，在设计图形的禁止边一侧添加与禁止边相邻接的第二补偿图形，相邻接的设计图形、第一补偿图形和第二补偿图形构成修正后图形，且沿设计图形的排布方向，相邻修正后图形之间的间隔大于最小设计规则值。降低了相邻修正后图形之间的间隔小于最小设计规则值的概率。
光学邻近修正方法系统掩膜版设备存储介质

[发明专利]模具设计图形监控系统及方法-CN200710202198.1无效
发明人：常春明 -专利权人：鸿富锦精密工业（深圳）有限公司;鸿海精密工业股份有限公司
申请日： 2007-10-22 - 公布日： 2009-04-29 - 主分类号： G06F17/50 文献下载
摘要：本发明提供一种模具设计图形监控方法，该方法包括步骤：获取操作命令数据表；监听上述获取的操作命令数据表，以判断该操作命令数据表是否有变化；当该操作命令数据表有变化时，得到模具设计图形的变化类型；根据模具设计图形的变化类型，得到模具设计图形对应加工属性的修改措施；根据该操作命令数据表的变化，确定发生变化的模具设计图形；获取该发生变化的模具设计图形的加工属性；按照加工属性的修改措施对该发生变化的模具设计图形的加工属性进行修改本发明还提供一种模具设计图形监控系统。利用该模具设计图形监控系统及方法，能够保证模具图档中模具设计图形和其加工属性的时时对应。
模具设计图形监控系统方法

[发明专利]一种双面版图设计方法、双面版图及双面版图切割方法-CN201810662185.0在审
发明人：赵海轮;曹乾涛;路波;董航荣 -专利权人：中国电子科技集团公司第四十一研究所
申请日： 2018-06-25 - 公布日： 2018-12-14 - 主分类号： G06F17/50 文献下载
摘要：本发明实施例公开了一种双面版图设计方法，属于薄膜电路加工技术领域。该方法包括：对需要排版的设计图形进行组合，4个外形相同的设计图形构成一个单元，一个单元中的4个设计图形的图形区关于横轴和纵轴对称；将设计图形分别放置于一个单元的四个图形区，使其与图形区外形重合，一个单元中任意两个设计图形布置在正面版图，其余两个设计图形布置在反面版图，正面设计图形与反面设计图形的投影关于横轴和纵轴对称，反面有效图形区与正面有效图形区不重叠；将多个单元进行阵列排版，完成整块版图的正反面图形设计。
设计图形图形区版图设计外形切割有效图形纵轴对称横轴排版加工技术领域薄膜电路图形设计不重叠切割道正反面重合尖角整块投影切割

[发明专利]绘图文件处理方法、装置、设备和计算机可读存储介质-CN202111135294.5在审
发明人：梁栋;韩竹;高启龙;周焰梅 -专利权人：深圳顺丰泰森控股（集团）有限公司
申请日： 2021-09-27 - 公布日： 2023-03-31 - 主分类号： G06F21/62 文献下载
摘要：本申请公开了一种绘图文件处理方法、装置、设备和计算机可读存储介质，该方法包括：获取待传输的原始绘图文件，解析原始绘图文件，得到原始绘图文件中绘制的目标设计图形；获取目标设计图形的图形数据和与目标设计图形相对应的标准图块；根据图形数据和标准图块生成目标绘图文件并发送，以使接收端通过解析目标绘图文件，得到目标设计图形。本申请根据图形数据和标准图块生成目标绘图文件，该目标绘图文件中并不直接显示目标设计图形，而是通过标准图块和图形数据的形式来对目标设计图形进行描述，可以避免目标设计图形在目标绘图文件的传输过程中被泄露的问题，提高了图形的保密性，进而确保了绘图文件的安全性。
绘图文件处理方法装置设备计算机可读存储介质

[发明专利]印制线路板设计图的生成方法、印制电路板及其制作方法-CN202110013566.8有效
发明人：汤付康;樊刚 -专利权人：深圳沸石智能技术有限公司
申请日： 2021-01-06 - 公布日： 2023-10-27 - 主分类号： G06F30/392 文献下载
摘要：本申请公开了一种印制线路板设计图的生成方法、印制电路板及其制作方法，属于印制线路板设计领域。本申请的印制线路板设计图的生成方法所生成的设计图，包括第一网络图形、第二网络图形、第一焊盘图形、第二焊盘图形、第一导线图形、第二导线图形和第一标记图形。该设计图的仿真电路根据设计图中除标记图形之外的其他图形生成。在该设计图的仿真电路中，第一焊盘图形和第二焊盘图形彼此间隔，从而使第一网络图形和第二网络图形没有连接在一起，可以避免印制线路板设计图上两个信号网络连接在一起而无法通过电路检测，从而提高电路检测的准确性。
印制线路板设计图生成方法电路板及其制作方法

[发明专利]光学邻近矫正方法及系统、掩膜版、设备及存储介质-CN202110160775.5在审
发明人：王良 -专利权人：中芯国际集成电路制造（上海）有限公司;中芯国际集成电路制造（北京）有限公司
申请日： 2021-02-05 - 公布日： 2022-08-09 - 主分类号： G03F1/36 文献下载
摘要：一种光学邻近矫正方法及系统、掩膜版、设备及存储介质，光学邻近矫正方法包括：提供设计图形，所述设计图形中相邻图形的拐角相对，且具有相交的单点；对所述设计图形进行预修正处理，用于在所述设计图形靠近单点的拐角处提供补偿图形，所述补偿图形和所述设计图形用于构成伪目标图形；以所述设计图形为目标图形，对所述伪目标图形进行光学邻近效应修正处理，获得修正后图形。本发明实施例有利于改善曝光时在靠近单点的拐角处的光强分布、提高光学邻近效应修正的效果，并有利于改善在靠近单点的拐角处的拐角圆化问题，进而有利于减小模拟曝光图形与目标图形之间的边缘放置误差(EdgePlacementError)，提升了形成于晶圆上的掩膜图形与目标图形之间的匹配度。
光学邻近矫正方法系统掩膜版设备存储介质

[发明专利]一种设计版图修改方法及系统-CN202310595743.7在审
发明人：丁明;陈板桥;李建华;陈泽阳 -专利权人：深圳晶源信息技术有限公司
申请日： 2023-05-23 - 公布日： 2023-08-18 - 主分类号： G06F30/392 文献下载
摘要：本发明涉及光刻技术领域，特别涉及一种设计版图修改方法及系统。所述方法包括：获得设计版图中初始设计图形所对应的显影轮廓，判断显影轮廓内或显影轮廓之间是否存在违例；若是，则获取违例的类型以及违例的位置；基于违例的位置和违例的类型通过预设算法获得移动量；基于预设距离判断是否基于移动量对违例所对应的初始设计图形的边进行移动，若是，获得移动后的设计图形；将移动后的设计图形作为初始迭代设计图形进行迭代处理以获得最终设计图形以完成对设计版图的修改。本发明还提供一种设计版图修改系统。解决现有技术中对存在违例图形进行修复时耗费大量时间的问题。
一种设计版图修改方法系统

[发明专利]光学邻近修正方法及系统、掩膜版、设备及存储介质-CN202111216495.8在审
发明人：陈术;严中稳 -专利权人：中芯国际集成电路制造（上海）有限公司;中芯国际集成电路制造（北京）有限公司
申请日： 2021-10-19 - 公布日： 2023-04-21 - 主分类号： G03F1/36 文献下载
摘要：一种光学邻近修正方法及系统、掩膜版、设备及存储介质，修正方法包括：提供设计版图，包括多个设计图形；获取对应设计版图的网格状的初始边界线，初始边界线经过设计图形，且初始边界线与经过的设计图形具有至少两个第一交点；在初始边界线上获取分割点，分割点位于初始边界线经过的设计图形的两侧、并与经过的设计图形的第一交点具有预设距离，位于相邻分割点之间、且经过设计图形的初始边界线作为第一边界线，剩余初始边界线作为第二边界线；在设计图形外侧形成第三边界线，第三边界线通过分割点与第二边界线交替首尾相接，第三边界线和第二边界线构成目标边界线。本发明有利于减少设计图形因被分割而产生跳变现象的概率。
光学邻近修正方法系统掩膜版设备存储介质

[发明专利]设计图形校正方法、掩模制造方法及半导体器件制造方法-CN200410101357.5无效
发明人：小谷敏也;姜帅现;市川裕隆 -专利权人：株式会社东芝
申请日： 2004-12-17 - 公布日： 2005-06-22 - 主分类号： H01L21/00 文献下载
摘要：一种设计图形的校正方法，它是考虑了在半导体集成电路各层之间加工余量的校正设计图形的方法，此方法包括下述步骤：基于第一层设计图形计算对应于第一层加工图形形状的第一图形形状；基于第二层设计图形计算对应于第二层加工图形形状的第二图形形状；通过对上述第一图形形状与第二图形形状进行布尔运算处理，计算第三图形形状；判定根据上述第三图形形状求得的评价值是否满足预定值；在判定上述评价值不满足预定值时，校正上述第一与第二设计图形两者中至少一方。
设计图形校正方法制造半导体器件

[发明专利]一种自动化的图形智能配色方法-CN201510658067.9在审
发明人：佘慧莉;单建华 -专利权人：安徽工业大学
申请日： 2015-10-10 - 公布日： 2016-02-03 - 主分类号： G06T7/40 文献下载
摘要：本发明公开了一种自动化的图形智能配色方法，属于图形设计技术领域。本发明方法首先从已知源图形提取代表色，建立源图形的配色方案，对源图形的配色方案进行色彩调和获取需要配色的设计图形的配色方案；然后建立源图形和设计图形的配色方案映射关系，对设计图形代表色进行选取，形成设计图形一系列配色方案映射本发明方法能减轻设计师劳动强度，提高配色效率，采用美学度量衡量配色方案优劣，具有一定智能性。
一种自动化图形智能配色方法

[发明专利]晶圆图像形变的修正方法-CN202211343910.0在审
发明人：郭鑫;周侃;周文湛 -专利权人：上海华力集成电路制造有限公司
申请日： 2022-10-31 - 公布日： 2023-01-03 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供了一种晶圆图像形变的修正方法，提供一表面具有布线图形的晶圆，获取所述晶圆的设计版图和扫描图像，所述设计版图包括与所述布线图形相对应的设计图形，所述扫描图像包括与所述布线图形相对应的扫描图形；将所述扫描图像的中心与所述设计版图的中心对准，使所述扫描图像与所述设计版图重合，分别提取所述设计图形和所述扫描图形，所述设计图形和所述扫描图形不完全重合；以及，根据所述设计图形对所述扫描图形进行修正，使修正后的扫描图形与所述设计图形重合，从而获得所述测试晶圆的修正图像，所述修正图像包括修正后的扫描图形。本发明通过修正晶圆的具有图形形变的扫描图像，得到了更符合实际情况的修正图像。
图像形变修正方法

[发明专利]用于图形转移的线路板及图形转移工艺-CN202010823672.8有效
发明人：叶国俊 -专利权人：鹤山市中富兴业电路有限公司
申请日： 2020-08-17 - 公布日： 2021-11-02 - 主分类号： H05K3/06 文献下载
摘要：本发明公开了一种用于图形转移的线路板及其图形转移工艺，线路板包括用于在线路板上形成实际图形的目标设计图形区域和用于覆盖显影干膜的图形转移补偿区域，图形转移补偿区域包括侧蚀宽度补偿区域和角位补偿区域，通过在目标设计图形区域的外部设置侧蚀宽度补偿区域和角位补偿区域，侧蚀宽度补偿区域包围在目标设计图形区域的外围，避免线路板上的图形在蚀刻后边线会往内收，角位补偿区域额外对目标设计图形区域的角位进行包围，避免线路板上的图形在蚀刻时角位受到两侧蚀刻液攻击而变成圆角，从而改良线路板上的图形蚀刻问题，线路板上蚀刻后的图形更接近目标设计图形。
用于图形转移线路板工艺

[发明专利]冗余图形添加方法和电子设备-CN202111033604.2在审
发明人：李凡;沈百林;李蒙 -专利权人：中兴光电子技术有限公司
申请日： 2021-09-03 - 公布日： 2023-03-07 - 主分类号： G06F30/392 文献下载
摘要：本发明提供一种冗余图形添加方法和电子设备，所述方法包括：在设计版图上生成至少一个辅助图形，每个所述辅助图形将至少一个所述设计图形包围，所述辅助图形具有第一边界，所述辅助图形所包围的所述设计图形具有第二边界，所述第一边界与所述第二边界之间的距离大于预设的第一间距阈值，所述辅助图形的精度小于所述设计图形的精度；按照预设的设计规则，在所述设计版图上生成至少一个冗余图形单元，所述设计规则包括所述冗余图形单元与所述辅助图形不相交本发明以粗精度的辅助图形替代高精度的设计图形作为设计规则依据，使冗余图形单元规避粗精度的辅助图形即可，从而大大减小了图形间的计算量，提高了冗余图形添加效率。
冗余图形添加方法电子设备

[发明专利]一种避免油墨气泡的图形设计方法-CN201911114649.5在审
发明人：韩少华;王健;孙彬;吴骏;沈洪;李晓华 -专利权人：江苏上达电子有限公司
申请日： 2019-11-14 - 公布日： 2020-02-21 - 主分类号： H05K3/10 文献下载
摘要：本发明提供一种避免油墨气泡的图形设计方法，涉及图像设计技术领域。该避免油墨气泡的图形设计方法，包括以下步骤：S1、在指定位置直接设计图形的形状，排布线路后剩余的大面积空旷区域中设置铜片上的排布线距；S2、保留设计图形的原有基本形状，以及保持图形的可识别度；S3、将图形设计成全部填铜的效果，保证图形内部无封闭的无铜区域，同时可保留未完全封闭的无铜区域。将图形设计成全部填铜的效果，设计图形的内部不会有全封口的无铜区域，在油墨印刷后不会产生气泡，提高了产品良率；设计图形不会有内部全封口的无铜区域，不会因为蚀刻问题造成蚀刻后形状和设计形状不符的情况，提高了设计图形的辨识度
一种避免油墨气泡图形设计方法

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