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[发明专利]检测衬底上表面缺陷的方法以及使用该方法的设备-CN200880017398.2有效
发明人：塞西利·穆兰;索菲·莫里茨;菲利普·加斯塔尔多;弗朗索瓦·伯杰;让-鲁克·德尔凯尔里;帕特里斯·贝兰 -专利权人： SOI科技公司;阿尔塔科技半导体公司
申请日： 2008-03-27 - 公布日： 2010-05-19 - 主分类号： G01N21/95 文献下载
摘要：一种检测衬底上表面缺陷的方法以及使用该方法的设备。本发明涉及一种检测衬底(2)上例如滑移线型缺陷的表面缺陷的方法，衬底设计用于电子仪器、光电子仪器或类似仪器，该方法的显著之处在于至少包括以下步骤：向衬底(2)上投射由交替的光条纹和暗带组成的图案，从而产生被衬底(2)的表面反射的条纹；将图案与衬底(2)沿着至少一个方向相对移位，从而将衬底(2)上的图案的条纹移位；通过传感器(8)获得被衬底(2)反射的图案的至少三个图像的序列，所述图像对应于图案的条纹的移位；利用图案的条纹的移位，确定衬底(2)的表面的梯度；以及利用衬底(2)的表面的梯度的变化，确定衬底(2)有没有表面缺陷。
检测衬底表面缺陷方法以及使用设备

[发明专利]半导体封装件-CN202010182101.0在审
发明人：金喆禹;龙尚珉;郑阳圭 -专利权人：三星电子株式会社
申请日： 2020-03-16 - 公布日： 2020-10-09 - 主分类号： H01L23/24 文献下载
摘要：半导体封装件包括：第一衬底；第二衬底，安置在第一衬底上；第一半导体芯片，安置在第二衬底上；以及加强件，从第一衬底的上表面延伸到第二衬底的上表面，加强件不与第一半导体芯片接触，其中从第一衬底的上表面到第一半导体芯片的上表面的第一高度大于从第一衬底的上表面到加强件的最上表面的第二高度
半导体封装

[发明专利]一种用于薄膜材料及微纳结构的电学参数检测平台-CN201610321924.0有效
发明人：黄鸿;饶敬梅;李英欣;张铁恒;董保志;王向忠 -专利权人：云南瑞博检测技术股份有限公司
申请日： 2016-05-16 - 公布日： 2019-02-12 - 主分类号： G01R27/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种用于薄膜材料及微纳结构的电学参数检测平台，包括衬底、设置于衬底上的多个支撑立柱，和制备在所述支撑立柱的上表面、侧面，以及衬底的上表面，实现支撑立柱的上表面与衬底的上表面电学连接的金属连接层本发明通过设置于衬底上的支撑立柱支撑待测的薄膜材料及微纳结构使其悬空，实现较好的机械耐压强度；同时制备在所述支撑立柱的上表面、侧面，以及衬底的上表面，实现支撑立柱的上表面与衬底的上表面电学连接的金属连接层在接触面形成良好的欧姆接触
一种用于薄膜材料结构电学参数检测平台

[实用新型]一种封装结构-CN202222068167.4有效
发明人：沙长青;刘庆波;黎子兰 -专利权人：徐州致能半导体有限公司;广东致能科技有限公司
申请日： 2022-08-05 - 公布日： 2022-12-06 - 主分类号： H01L23/31 文献下载
摘要：本申请公开了一种封装结构，涉及半导体技术领域，本申请的封装结构，包括衬底，衬底的上表面内凹形成凹槽，凹槽内设置有芯片，芯片的上表面与衬底的上表面平齐，衬底的上表面设置有绝缘散热层，绝缘散热层覆盖芯片的上表面，衬底下表面对应凹槽贴合设置有散热片。
一种封装结构

[发明专利]半导体封装装置-CN201810454048.8在审
发明人：徐绍恩;卓晖雄;吕世文 -专利权人：日月光半导体制造股份有限公司
申请日： 2018-05-14 - 公布日： 2019-09-13 - 主分类号： H01L23/498 文献下载
摘要：一种半导体封装装置包含衬底、天线和导体。所述衬底具有上表面。所述天线安置于所述衬底的所述上表面上。所述导体安置于所述衬底的所述上表面上并环绕所述天线。所述导体具有面朝所述天线的第一表面和与所述第一表面相对的第二表面。所述导体的所述第二表面与所述衬底的所述上表面间隔开。
衬底导体上表面天线半导体封装装置第二表面第一表面安置环绕

[发明专利]金属砂箱上表面清扫方法以及金属砂箱上表面清扫装置-CN201710897166.1在审
发明人：大野泰嗣;白井利典 -专利权人：新东工业株式会社
申请日： 2017-09-28 - 公布日： 2018-06-29 - 主分类号： B22C23/00 文献下载
摘要：本发明提供金属砂箱上表面清扫方法以及金属砂箱上表面清扫装置，能够可靠地对堆积或者附着于在邻接的金属砂箱间形成的凹部的附着物进行清扫。
金属砂箱上表面清扫附着物清扫装置无杆气缸邻接凹部附着搬运堆积活塞串联方向吹气喷嘴上方位置移动物体固定部底盘刮刀台车配置

[发明专利]显示设备以及制造该显示设备的方法-CN201710436590.6在审
发明人：姜声勇;金学善;姜邰佶 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2017-06-12 - 公布日： 2017-12-19 - 主分类号： G02F1/13357 文献下载
摘要：公开了显示设备和制造显示设备的方法，显示设备包括彼此面对的下部衬底和上部衬底；光源，其朝向下部衬底的侧表面发射光；以及光学介质层，其在下部衬底与上部衬底之间，并且光透射穿过其以生成图像。下部衬底包括第一衬底，光在其内从下部衬底的侧表面行进以从第一衬底的上表面出射；以及光出射图案，其在上表面上。第一衬底包括从光源发射的光入射至其的入射表面。光出射图案中的每个与第一衬底的上表面接触并且分别在光出射图案与第一衬底的上表面之间限定第一空间，第一空间填充有空气。
显示设备以及制造方法

[发明专利]导轨上表面清扫装置-CN200710145147.X有效
发明人：杨宏强;程学海;杜远兵 -专利权人：中国国际海运集装箱（集团）股份有限公司
申请日： 2007-08-24 - 公布日： 2009-02-25 - 主分类号： E01H8/10 文献下载
摘要：本发明公开了一种导轨上表面清扫装置，其安装在沿导轨行走的车上，且包括与车体固定连接的套筒，套筒内设置沿套筒轴向滑动的导管，导管内设置可在导管内转动的毛刷杆，毛刷杆的下端伸出套筒并固定连接圆盘式的毛刷，毛刷的工作面中心与导轨的上表面纵向中心线相对偏置本发明的导轨上表面清扫装置在转运车沿导轨行走时，导轨上表面对毛刷工作面产生的摩擦力成为驱动毛刷及毛刷杆绕自身轴线旋转的动力，使得毛刷边前行边旋转摩擦导轨的上表面进行清扫，从而使得毛刷的工作面磨损均匀，避免了现有技术中毛刷被集中磨损某一部位影响清扫效果及毛刷的使用寿命
导轨表面清扫装置

[发明专利]上表面定位钻孔夹具-CN201010563553.X无效
发明人：马吉忠 -专利权人：大连创新齿轮箱制造有限公司
申请日： 2010-11-29 - 公布日： 2011-04-06 - 主分类号： B23B47/00 文献下载
摘要：本发明公开一种上表面定位钻孔夹具，以解决上述技术问题。本发明上表面定位钻孔夹具由夹具体、下活动顶尖、顶尖支座、夹紧凸轮和手柄组成；夹具体呈[形，其上横梁开有垂直钻头孔，上横梁下表面设有定位基准面；下横梁装配手柄和夹紧凸轮，夹紧凸轮上部装置顶尖支座和下活动顶尖由于上平面定位钻孔夹具采用工件上表面定位，使加工基准与测量基准完全重合，保证工件加工精度能够达到工艺规定。
表面定位钻孔夹具

[实用新型]上表面定位钻孔夹具-CN201020630677.0有效
发明人：马吉忠 -专利权人：大连创新齿轮箱制造有限公司
申请日： 2010-11-29 - 公布日： 2011-06-22 - 主分类号： B23B47/00 文献下载
摘要：本实用新型提供一种上表面定位钻孔夹具，以解决上述技术问题。本实用新型上表面定位钻孔夹具由夹具体、下活动顶尖、顶尖支座、夹紧凸轮和手柄组成；夹具体呈[形，其上横梁开有垂直钻头孔，上横梁下表面设有定位基准面；下横梁装配手柄和夹紧凸轮，夹紧凸轮上部装置顶尖支座和下活动顶尖由于上平面定位钻孔夹具采用工件上表面定位，使加工基准与测量基准完全重合，保证工件加工精度能够达到工艺规定。
表面定位钻孔夹具

[发明专利]光学平台的形成方法-CN201010568274.2有效
发明人：李凡;张海洋 -专利权人：中芯国际集成电路制造（北京）有限公司
申请日： 2010-11-30 - 公布日： 2012-05-30 - 主分类号： H01L33/00 文献下载
摘要：一种光学平台的形成方法，包括：提供半导体衬底，所述半导体衬底具有相对的上表面和下表面；使用干法刻蚀，在所述半导体衬底的上表面形成凹槽，在所述凹槽底部的半导体衬底中形成通孔，所述通孔贯穿所述半导体衬底；对所述半导体衬底进行氧化，在所述半导体衬底的上表面、下表面和侧壁，以及所述凹槽和通孔的表面形成氧化膜；形成金属层，覆盖所述半导体衬底的上表面、下表面的氧化膜，以及所述凹槽和通孔表面的氧化膜。
光学平台形成方法

[发明专利]显示装置-CN202310334696.0在审
发明人：崔喆铉 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2023-03-31 - 公布日： 2023-10-17 - 主分类号： H10K59/12 文献下载
摘要：显示装置包括衬底和布置在衬底上面的第一像素电极，其中从第一像素电极的上表面的第一部分到衬底的上表面的距离大于从第一像素电极的上表面的第二部分到衬底的上表面的距离。
显示装置

[发明专利]显示基板及其制备方法、显示器件及其制备方法、显示装置-CN201811243730.9在审
发明人：谷朋浩;谢春燕;张嵩;周伟峰;钱玲芝 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司
申请日： 2018-10-24 - 公布日： 2019-02-19 - 主分类号： H01L27/32 文献下载
摘要：本公开提出一种显示基板及其制备方法、显示器件及其制备方法、显示装置，显示基板的制备方法包括以下步骤：提供一柔性衬底，其上表面具有显示区和电路连接区，柔性衬底的对应于电路连接区的部分包括弯折部和连接部；在柔性衬底的下表面开设凹槽，凹槽在柔性衬底上表面上的正投影，与弯折部在柔性衬底上表面上的正投影的位置相对应；在柔性衬底上表面的显示区依序设置背板、OLED发光器件以及封装结构，并在柔性衬底上表面的电路连接区设置电路连接层。将柔性衬底的弯折部向下弯折延伸，而使连接部位于柔性衬底的下表面一侧。
衬底制备衬底上表面电路连接区显示基板弯折部显示器件显示装置下表面显示区正投影向下弯折延伸封装结构连接部位设置电路连接层上表面背板

[发明专利]一种消除刻蚀残留的方法及该方法制得的衬底结构-CN202310796353.6在审
发明人：何喜炘 -专利权人：福建福顺微电子有限公司
申请日： 2023-06-30 - 公布日： 2023-09-01 - 主分类号： H01L21/033 文献下载
摘要：本发明公布一种消除刻蚀残留的方法及该方法制得的衬底结构，包括如下步骤：提供一衬底，所述衬底的上表面设置有台阶；在衬底上制作牺牲层，所述牺牲层覆盖所述台阶；以及利用干法刻蚀的方式反刻所述牺牲层，去除位于所述台阶上表面上的所述牺牲层，在所述台阶的两侧形成有斜坡结构，所述斜坡结构连接所述台阶的上表面和所述衬底的上表面。上述技术方案制作斜坡结构，斜坡结构连接台阶的上表面和衬底的上表面，可以减缓下一道制程的垂直高度，可以消除刻蚀残留。
一种消除刻蚀残留方法法制衬底结构

[发明专利]衬底支撑板、包括它的衬底处理设备以及衬底处理方法-CN202011237367.7在审
发明人：金大渊;金材玹;李承桓 -专利权人： ASMIP私人控股有限公司
申请日： 2020-11-09 - 公布日： 2021-06-18 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：一种能够选择性地在其斜角区域中处理薄膜的衬底处理设备包括用于支撑待处理衬底的衬底支撑板，衬底支撑板包括：内部，其上表面的面积小于待处理衬底的面积；以及围绕内部的外围部分，其中外围部分的上表面在内部的上表面下方
衬底支撑包括处理设备以及方法

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