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[实用新型]用于化成箔生产的磷酸处理与清洗装置-CN202122643494.3有效
发明人：张世军;侯斌;罗正均 -专利权人：宝兴县剑锋制箔电子有限公司
申请日： 2021-11-01 - 公布日： 2022-05-03 - 主分类号： B08B3/08 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种用于化成箔生产的磷酸处理与清洗装置，属于化成箔生产设备技术领域，包括分开设置的磷酸处理槽（1）和清洗槽（2），并在所述磷酸处理槽（1）与清洗槽（2）之间的上方设置有两个辊筒；本实用新型将磷酸处理槽与清洗槽分开设置，杜绝了磷酸处理槽中的磷酸液渗漏进入清洗槽；同时，出磷酸处理槽的第一个辊筒粘附的磷酸液滴入磷酸处理槽，增设的第二个辊筒上已经几乎没有残留磷酸液体，从而大幅降低了清洗槽被污染的几率，显著提高了清洗效率和整个生产效率
用于化成生产磷酸处理清洗装置

[实用新型]基板处理装置-CN201821587754.1有效
发明人：大野宏树;佐藤秀明;稻田尊士;河野央;西脇良典;大津孝彦 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2018-09-28 - 公布日： 2019-06-04 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本实用新型提供一种基板处理装置，该基板处理装置提高对氮化硅膜进行蚀刻的选择性并且抑制硅氧化物的析出。实施方式所涉及的基板处理装置具备基板处理槽、磷酸处理液供给部、循环路径、SiO₂析出防止剂供给部以及混合部。磷酸处理液供给部供给在基板处理槽中的蚀刻处理中使用的磷酸处理液。循环路径用于使被供给到基板处理槽中的磷酸处理液循环。SiO₂析出防止剂供给部向循环路径供给SiO₂析出防止剂。混合部将含硅化合物混合到供给至循环路径之前的磷酸处理液中。
磷酸处理液基板处理装置析出循环路径供给部基板处理防止剂蚀刻本实用新型含硅化合物氮化硅膜硅氧化物蚀刻处理混合部

[发明专利]基板处理装置和基板处理方法-CN201811136956.9有效
发明人：大野宏树;佐藤秀明;稻田尊士;河野央;西脇良典;大津孝彦 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2018-09-28 - 公布日： 2021-11-30 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供一种基板处理装置和基板处理方法，该基板处理装置和基板处理方法提高对氮化硅膜进行蚀刻的选择性并且抑制硅氧化物的析出。实施方式所涉及的基板处理装置具备基板处理槽、磷酸处理液供给部、循环路径、SiO2析出防止剂供给部以及混合部。磷酸处理液供给部供给在基板处理槽中的蚀刻处理中使用的磷酸处理液。循环路径用于使被供给到基板处理槽中的磷酸处理液循环。混合部将含硅化合物混合到供给至循环路径之前的磷酸处理液中。
处理装置方法

[实用新型]化成箔生产用磷酸处理槽结构-CN202122580578.7有效
发明人：张世军;侯斌;罗正均 -专利权人：宝兴县剑锋制箔电子有限公司
申请日： 2021-10-26 - 公布日： 2022-05-03 - 主分类号： C23C22/82 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种化成箔生产用磷酸处理槽结构，属于化成箔生产设备技术领域，包括磷酸处理槽（1），在所述磷酸处理槽（1）的右上方、第五辊筒（6）的下方、化成箔的侧方位设置有至少一个送风机构（7），所述送风机构（7）的送风角度与水平面呈30‑60°；本实用新型在化成箔出磷酸处理槽后设置两个送风机构相向吹风，使化成箔表面的磷酸液吹落滴入磷酸处理槽，在这个过程中，没有其他物件（比如传统的刮水辊）接触箔面，从而不会在箔面产生污渍
化成生产磷酸处理结构

[发明专利]基片处理装置、基片处理方法和存储介质-CN201811219721.6在审
发明人：稻田尊士;河野央;大野宏树 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2018-10-19 - 公布日： 2019-04-30 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供基片处理装置、基片处理方法和存储介质。实施方式的基片处理装置包括基片处理槽和控制部。基片处理槽通过将基片浸渍在磷酸处理液中，来进行蚀刻处理。控制部随着蚀刻处理的进展，控制用于对磷酸处理液进行温度调节的温度调节部，来降低磷酸处理液的温度。本发明能够抑制硅氧化物析出。
基片处理基片处理装置磷酸处理液存储介质蚀刻处理浸渍温度调节部析出硅氧化物温度调节

[实用新型]电极箔生产线上两级磷酸处理装置-CN202122863875.2有效
发明人：张世军;侯斌;罗正均 -专利权人：宝兴县剑锋制箔电子有限公司
申请日： 2021-11-22 - 公布日： 2022-05-03 - 主分类号： H01G9/048 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种电极箔生产线上两级磷酸处理装置，包括沿生产线依次布设的化成槽、第一清洗槽、焙烧炉、第一修复化成槽、第二清洗槽、磷酸处理槽、第三清洗槽、第二修复化成槽，所述第一清洗槽和焙烧炉间设有一水洗槽，所述水洗槽内的液体为纯水，所述第一清洗槽与磷酸处理槽通过溢流管连通，且第一清洗槽和磷酸处理槽内的液体为磷酸。本实用新型具有两级磷酸处理，能更好的形成磷化膜来保护里内层的氧化膜，大大缩短水化时间、提高产品质量，第一清洗槽内的磷酸液体更清洗箔面由化成槽带来的残留药液，再经水洗槽水洗、焙烧炉焙烧后，不再发黄。
电极生产线上两级磷酸处理装置

[发明专利]基板处理方法和基板处理装置-CN202210160928.0在审
发明人：本田拓巳 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2022-02-22 - 公布日： 2022-09-02 - 主分类号： H01L21/306 文献下载
摘要：本发明提供一种基板处理方法和基板处理装置，能够提高磷酸水溶液的使用效率。基板处理方法包括调配工序、蚀刻处理工序以及浓度上升工序。在调配工序中，向磷酸水溶液中添加析出抑制剂来调配磷酸处理液。在蚀刻处理工序中，将具有氧化硅膜和氮化硅膜的基板浸在处理槽中来对基板进行蚀刻处理。在浓度上升工序中，在被进行了蚀刻处理的基板的张数达到第一阈值的情况下、或者磷酸处理液中的硅浓度达到第二阈值的情况下，向处理槽内的磷酸处理液追加投入析出抑制剂来使磷酸处理液中的析出抑制剂的浓度上升。在进行浓度上升工序之后，在蚀刻处理工序中，将新的基板浸在贮存有使析出抑制剂的浓度上升后的磷酸处理液的处理槽中来对新的基板进行蚀刻处理。
处理方法装置

[实用新型]一种化成箔磷酸处理在线可调节液位装置-CN202222969992.1有效
发明人：田国梁;董国卫;刘利波;肖建忠 -专利权人：内蒙古乌兰察布东阳光化成箔有限公司
申请日： 2022-11-08 - 公布日： 2023-06-30 - 主分类号： C23C22/83 文献下载
摘要：一种化成箔磷酸处理在线可调节液位装置，包括磷酸处理槽，磷酸处理槽底部设有出液管，出液管上依次安装有液位连通器、排放阀；其中，液位连通器一侧从上往下依次间隔安装有多个支管，支管上设有液位调节阀，所有支管另一端连接在溢流管上本实用新型提供的一种化成箔磷酸处理在线可调节液位装置，减少重复开停机节约成本，减轻员工工作量。
一种化成磷酸处理在线调节装置

[发明专利]基板处理方法和基板处理装置-CN201410768800.8在审
发明人：日野出大辉;太田乔;西东和英 -专利权人：斯克林集团公司
申请日： 2014-12-11 - 公布日： 2015-06-17 - 主分类号： H01L21/02 文献下载
摘要：本发明提供一种基板处理方法，其用于从在表面形成有第1氮化硅膜、并且在所述第1氮化硅膜上层叠有氧化硅膜的基板上除去所述第1氮化硅膜和所述氧化硅膜，其包括：第1磷酸处理工序，向由基板保持单元保持的所述基板供给规定的第1浓度的磷酸水溶液，用该磷酸水溶液处理所述基板，以除去所述第1氮化硅膜；以及第2磷酸处理工序，在所述第1磷酸处理工序之后，接着向所述基板供给低于所述第1浓度的第2浓度的磷酸水溶液，用该磷酸水溶液处理所述基板
处理方法装置

[实用新型]一种用于调整铝箔磷酸处理时间的装置-CN202022311124.5有效
发明人：左平凡 -专利权人：立敦电子科技（阿坝州）有限公司
申请日： 2020-10-16 - 公布日： 2021-05-25 - 主分类号： C25D11/08 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种用于调整铝箔磷酸处理时间的装置,涉及化成箔设备领域，包括机架；所述机架上安装有可上下移动的安装架，且安装架上端安装有可转动的上辊轮，安装架下端安装有可转动的下辊轮。本实用新型通过调整铝箔浸泡在磷酸槽内的长度，使铝箔在进行磷酸处理过程中，铝箔浸泡在磷酸槽内的时间可进行调整，使铝箔在磷酸处理过程中灵活性更高，保证静电比容达到最高，使铝箔的质量得到保证。
一种用于调整铝箔磷酸处理时间装置

[实用新型]一种低压化成用的酸处理槽-CN202221163254.1有效
发明人：孙新明;徐中均;虞淼淼 -专利权人：四川中雅科技有限公司
申请日： 2022-05-16 - 公布日： 2022-12-09 - 主分类号： C23F1/20 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种低压化成用的酸处理槽，目的是解决现有技术中通过观测磷酸槽内的刻度线，控制磷酸槽内的液面高度，存在控制精确度低的技术问题。该酸处理槽包括：出水管，一端连接在酸处理槽的底部；液位调节机构，具有一个与所述出水管另一端连接的输入端；排水管，一端连接在所述液位调节机构的输出端上；其中，所述酸处理槽竖直设置，所述排水管的出口与所述出水管连接所述酸处理槽的一端在同一高度上本技术方案可以通过控制液位调节机构内允许液体通过的高度，精确控制磷酸槽内液面高度。
一种低压化成酸处理

[实用新型]化抛废磷酸处理和磷酸铝分子筛的合成系统-CN202120349546.3有效
发明人：罗骥;吴思国;胡平;郑赢忠;彭德;张锦华 -专利权人：深圳瑞赛环保科技有限公司
申请日： 2021-02-07 - 公布日： 2021-11-16 - 主分类号： C01B39/54 文献下载
摘要：本实用新型涉及化抛废磷酸处理和磷酸铝分子筛的合成系统。合成系统包括由管路顺序连通的三级漂洗装置、蒸发浓缩单元、异相成核反应单元及结晶干燥器。本实用新型全面解决了阳极氧化厂废水处理总磷不达标、加药量大、污泥产生量大、处理效率低的问题，实现了阳极氧化厂废水处理的减量化、无害化、资源化的化抛废磷酸处理和磷酸铝分子筛的合成。
化抛废磷酸处理分子筛合成系统

[发明专利]注射用12种维生素原料四水合硫胺焦磷酸酯的制备方法-CN201711469208.8在审
发明人：李立忠;王勇;荣航;张芳芳;李海娇;李述天 -专利权人：山西普德药业有限公司
申请日： 2017-12-29 - 公布日： 2018-06-22 - 主分类号： C07F9/6558 文献下载
摘要：本申请公开了一种注射用12种维生素原料四水合硫胺焦磷酸酯的制备方法，所述制备方法包括如下步骤：(1)将Amberlite树脂进行酸处理，得到酸处理过的Amberlite树脂；(2)将酸处理过的Amberlite树脂进行活化，得到活化的Amberlite树脂；(3)将活化的Amberlite树脂进行装柱；配制硫胺焦磷酸酯盐酸盐溶液，上样，以蒸馏水为流动相，减压层析，再将洗脱液进行后处理，得到四水合硫胺焦磷酸酯粗品；(4)将四水合硫胺焦磷酸酯粗品用水溶解后，形成四水合硫胺焦磷酸酯溶液，向该溶液中加入无水乙醇直至浑浊现象出现，再加热至完全溶解，静置，过滤后得到所述的四水合硫胺焦磷酸酯。
四水合硫胺焦磷酸酯树脂酸处理活化制备种维生素粗品蒸馏水注射盐酸盐溶液后处理浑浊现象焦磷酸酯完全溶解无水乙醇减压层流动相洗脱液再加热硫胺上样装柱过滤配制溶解申请

[发明专利]后期处理工艺制备超低灰分固体废物基生物炭-CN201910282427.8在审
发明人：谢越;张丽;汪日松 -专利权人：安徽科技学院
申请日： 2019-04-09 - 公布日： 2019-07-05 - 主分类号： B01J20/20 文献下载
摘要：本发明涉及一种后期处理工艺制备超低灰分生物炭的工艺,主要特征在于：常温常压条件下，第一阶段盐酸处理，洗涤至中性后，加入第二阶段磷酸处理，洗涤至中性后，过滤进入第三阶段氢氟酸处理，过滤洗涤干燥后储存。通过本技术工艺处理的固基生物炭，在经过漂洗工序絮凝漂洗处理后，灰分含量最大降低至1.5%左右，经第一段盐酸处理后，灰分含量可降低至1%左右，经过第二段磷酸处理，灰分可降至0.5%左右，经过第三段氢氟酸处理后
生物炭固基氢氟酸处理工艺制备后期处理磷酸处理盐酸处理漂洗制备洗涤常温常压条件固体废物过滤洗涤技术工艺吸附性能对设备絮凝过滤储存

[发明专利]基板处理装置、基板处理方法以及存储介质-CN201811139670.6在审
发明人：佐藤秀明;大野宏树;西脇良典;稻田尊士;河野央 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2018-09-28 - 公布日： 2019-04-05 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供一种基板处理装置、基板处理方法以及存储介质，能够提高对氮化硅膜进行蚀刻的选择性并且抑制硅氧化物的析出。实施方式所涉及的基板处理装置具备SiO₂析出防止剂供给部和控制部。SiO₂析出防止剂供给部供给要混合到在基板处理槽中进行蚀刻处理的磷酸处理液中的SiO₂析出防止剂。控制部基于磷酸处理液的温度来设定磷酸处理液中含有的SiO₂析出防止剂的浓度，并且控制SiO₂析出防止剂的供给量，使得成为所设定的SiO₂
析出防止剂基板处理装置磷酸处理液基板处理存储介质供给部蚀刻氮化硅膜硅氧化物蚀刻处理供给量

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