专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]研磨系统-CN202180030565.2在审
  • 高桥笃;前泽明弘;月形扶美子;沟口启介 - 柯尼卡美能达株式会社
  • 2021-04-12 - 2022-12-06 - B24B37/005
  • 本发明的目的在于提供一种能够简单且精度良好地对被研磨物的研磨量进行测量的研磨系统。本发明的研磨系统是使用研磨剂浆料对被研磨物进行研磨研磨系统,其特征在于,具有研磨量计算工序部,该研磨量计算工序部对来源于完成加工浆料中被研磨物的、元素周期表第一主族或第二主族的金属元素的游离金属离子的量进行测定,根据所述游离金属离子的量来计算所述被研磨物的研磨量。
  • 研磨系统
  • [发明专利]研磨系统-CN201911260214.1在审
  • 夏文羽 - 上海华力微电子有限公司
  • 2019-12-10 - 2020-03-13 - B24B37/26
  • 本发明提供了一种研磨系统,述研磨系统包括:研磨垫、监控装置及基座,所述监控装置包括:相连的检测单元及报警单元,所述检测单元设置于所述研磨垫中且与所述研磨垫的用于研磨的第一表面具有间距,在所述研磨垫中增设所述检测单元,且使得所述检测单元与所述研磨垫的第一表面保持适当间距,当处于工作状态的研磨垫出现磨损或破洞缺陷时,所述研磨系统可以通过所述检测单元及时并有效地监控到研磨垫的磨损或破洞缺陷,使得存在磨损或破洞缺陷的研磨垫能够被及时更换掉,从而避免了批量生成的产品被异常研磨的情况,提高了批量产品的良率,变相地节省了原材料以及机台资源。
  • 研磨系统
  • [发明专利]研磨系统-CN202010483324.0在审
  • 熊紫超;胡恒;段贤明;王光毅;高林;吴宇 - 长江存储科技有限责任公司
  • 2020-06-01 - 2020-10-23 - B24B37/005
  • 本申请公开了一种研磨系统,包括:壳体,具有至少一个操作窗口;至少一个研磨装置,位于壳体内部,研磨装置包括研磨头;控制装置,具有操作部,操作部位于壳体外部,以便于在壳体外部控制研磨头旋转;以及防护装置,用于检测至少一个操作窗口是否处于操作状态,并在至少一个操作窗口处于操作状态的情况下向控制装置发送提示信息,以便防止研磨头旋转,该研磨系统通过设置防护装置,保护了检修人员的人身安全。
  • 研磨系统
  • [实用新型]研磨系统-CN202220750499.8有效
  • 王雪峰;王网提;王亚许 - 内蒙古五新化工有限公司
  • 2022-03-31 - 2022-08-30 - B02C21/00
  • 本申请提供一种研磨系统,包括预分散罐、在线剪切分散机、循环罐、盘式砂磨机及冷却器;预分散罐出料口与在线剪切分散机进料口连接,在线剪切分散机出料口分别与预分散罐回料口和循环罐进料口连接,循环罐出料口与盘式砂磨机进料口连接通过本申请使得研磨系统使用寿命延长,运行更加稳定,同时提高了生产效率,使得待研磨物料粒径更加均匀。
  • 研磨系统
  • [实用新型]玻璃平面研磨系统的具有整流罩的研磨系统-CN201220616592.6有效
  • 朱福君;陈学军;朱纪江 - 上海光远橡塑制品有限公司
  • 2012-11-20 - 2013-05-01 - B24B37/04
  • 本实用新型涉及一种玻璃研磨机。玻璃平面研磨系统的具有整流罩的研磨系统包括一机架,机架上设有一研磨平台,研磨平台可转动连接在机架上,研磨平台上设有研磨盘,研磨盘连接一研磨动力系统。玻璃平面研磨系统的具有整流罩的研磨系统还包括一控制系统,控制系统包括一微型处理器系统,微型处理器系统连接研磨动力系统,还包括一研磨料供给系统研磨料供给系统设有一供料泵;供料泵的控制端连接微型处理器系统研磨平台上方设有研磨料投放口,研磨料供给系统连接研磨料投放口;研磨料投放口下方设有一锥形罩体,锥形罩体的顶部位于研磨料投放口下方,锥形罩体罩在所述研磨平台上方,且锥形罩体下方的外径小于所述研磨平台内径
  • 玻璃平面研磨机系统具有整流研磨
  • [发明专利]一种芯片表面研磨系统-CN202111103094.1有效
  • 刘皓挺 - 北京科技大学
  • 2021-09-18 - 2023-01-17 - B24B37/10
  • 本发明公开了一种芯片表面研磨系统,在架体内安装研磨板装置与芯片调节装置,芯片调节装置夹持芯片在研磨板装置上自动研磨芯片;芯片研磨一次,芯片调节装置自动调整芯片姿态,相机系统自动获取芯片的研磨区域的研磨状态并分析研磨效果;芯片研磨一个阶段,芯片调节自动装置调整芯片姿态,芯片的研磨区域自动对准数字全息相机系统,数字全息相机系统获取芯片的研磨区域的高精度研磨影像与研磨效果分析。芯片表面研磨系统可实现机械化芯片研磨,代替现有的手工研磨研磨工作效率高,每研磨一次,相机系统获取的研磨状态,芯片研磨一个阶段,数字全息相机系统拍摄高精度研磨影像与研磨效果分,研磨共面性良好,研磨质量好
  • 一种芯片表面研磨系统
  • [实用新型]一种水性环保涂料生产系统-CN201620270924.8有效
  • 李义成 - 四川齐汇科技有限公司
  • 2016-04-01 - 2016-08-17 - B01F13/10
  • 本实用新型公开一种水性环保涂料生产系统,包括依次连接的研磨系统、乳化系统、分散系统和过滤系统,所述研磨系统为数组,每组研磨系统包括研磨箱,研磨箱顶部设有与其内部连通的进料斗,研磨箱顶部还设有研磨电机,所述研磨箱内顶部设有与研磨电机输出端连接的研磨杆,所述乳化系统包括密封的乳化缸,所述乳化缸通过第一连接管与研磨箱内部连通,所述分散系统包括通过第二连接管与乳化缸连通的密封的分散筒。本实用新型将不同的原料进行分别研磨,且研磨充分,乳化彻底,分散效果好。
  • 一种水性环保涂料生产系统
  • [实用新型]一种研磨-CN202122224089.8有效
  • 罗小钢;肖伟婷 - 珠海悦美水墨新材料股份有限公司
  • 2021-09-14 - 2022-07-12 - B02C17/10
  • 本实用新型公开了一种研磨机,涉及水墨生产加工技术领域,能够适用于实验室中的小批量水墨研磨工作,提升试验效率,加快水墨研发进度。一种研磨机包括:机架、上料系统研磨系统、排料系统以及控制系统。上料系统设置在机架上。研磨系统设置在机架上并与上料系统连通。排料系统设置在机架上并与研磨系统连通。控制系统设置在机架上并与上料系统电连接。控制系统研磨系统电连接。控制系统与排料系统电连接。上料系统可以将物料输送至研磨系统中,研磨系统将物料研磨后,排料系统将物料排出。控制系统能够控制上料系统研磨系统以及排料系统。适用于实验室等水墨研发场所进行小批量研磨工作,全自动化的研磨能够大幅度节约研发试验的时间。
  • 一种研磨机
  • [发明专利]一种行星研磨分散机-CN201410150680.5在审
  • 莫斯敏 - 佛山市展贸五金有限公司
  • 2014-04-15 - 2015-11-04 - B02C17/16
  • 本发明提供了一种行星研磨分散机,包括驱动系统研磨分散系统,驱动系统包括第一驱动系和第二驱动系,研磨分散系统包括研磨模块、分散模块、挂壁研磨模块和储料缸。第一驱动系驱动研磨分散系统自转,第二驱动系统驱动研磨模块、分散模块和挂壁研磨模块沿着转动套轴转动。本发明简化了研磨分散工艺提高了研磨速度,节约能耗,降低原材料研磨分散的加工成本。
  • 一种行星研磨分散
  • [发明专利]一种精度高的宝石研磨成型机-CN201711134868.0在审
  • 刘永红 - 刘永红
  • 2017-11-16 - 2018-02-23 - B24B37/00
  • 本发明涉及一种精度高的宝石研磨成型机,包括机架、数控系统研磨系统和驱动系统,数控系统、驱动系统研磨系统均置于机架的上端,数控系统通过导线与驱动系统连接,驱动系统研磨系统连接;所述数控系统研磨系统和驱动系统均通过电压继电器与外部电源连接,所述电压继电器的检测端分别与所述数控系统研磨系统和驱动系统通过线路连接;还包括声控开关,所述声控开关与所述电压继电器串联。相对现有技术,本发明当电压继电器检测到数控系统研磨系统和驱动系统的电压不稳定时,则自动进行断开,保障数控系统研磨系统和驱动系统稳定运行,延长数控系统研磨系统和驱动系统的使用寿命,保障研磨精度。
  • 一种精度宝石研磨成型

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