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[发明专利]一种评价玻璃配合料均匀度的方法-CN202010556366.2在审
发明人：蔡礼貌;孙雪峰;何智钢;韩正伟;李彦涛 -专利权人：河北视窗玻璃有限公司;中国南玻集团股份有限公司
申请日： 2020-06-17 - 公布日： 2020-09-25 - 主分类号： G01N1/28 文献下载
摘要：本发明提供了一种评价玻璃配合料均匀度的方法，所述方法包括如下步骤：(1)取玻璃配合料样品10‑20份，分别将各份玻璃配合料进行研磨，得到10‑20份研磨料；(2)使用盐酸分别溶解步骤(1)所得各份研磨料，对溶解液进行过滤，得到滤液；(3)分别测定步骤(2)所得各份滤液中MgO含量，并由所得MgO含量计算均匀度。所述方法在取样10‑20份的情况下就能够实现对玻璃配合料均匀度的准确测量，且由于玻璃配合料尤其是盖板玻璃配合料中MgO的含量较低，以MgO含量作为均匀度测试标准提高了均匀度测试的准确性。所述方法操作简单便捷，实现了对玻璃配合料均匀度的快速评价。
一种评价玻璃配合均匀方法

[发明专利]一种提高芯片去层次时均匀度的方法-CN202110242925.7在审
发明人：贺晓辉;李迈克;周梦甦;石磊;陈耿 -专利权人：重庆工程职业技术学院
申请日： 2021-03-05 - 公布日： 2021-07-02 - 主分类号： G01N1/28 文献下载
摘要：本发明公开了一种提高芯片去层次时均匀度的方法，涉及半导体技术领域，通过在底座芯片B以及补偿芯片和失效芯片的背面打孔，然后利用热熔胶枪点胶填充热熔胶，操作工艺简单、热熔胶的用量少；无需在失效芯片与底座芯片B之间形成胶层进行粘接，能防止失效芯片出现倾斜的状况，使失效芯片研磨过程更加均衡，保证失效芯片样品研磨后表面平整度和均匀度。并在水下研磨失效芯片，水既能够起到润滑剂的作用，使研磨工作更加顺滑，又能及时分散研磨产生的颗粒，避免颗粒干扰研磨工作，进一步保证研磨后表面平整度和均匀度，水下研磨还能有效的散发在研磨过程中产生的热量，提高了散热水平
一种提高芯片层次均匀方法

[发明专利]一种纳米氢化镁的制备方法和生产装置-CN202211621491.2有效
发明人：孙忠祥 -专利权人：大连亚泰科技新材料股份有限公司
申请日： 2022-12-16 - 公布日： 2023-08-22 - 主分类号： B02C7/08 文献下载
摘要：一种纳米氢化镁的制备方法及其生产装置，其包括：入料口、研磨仓、加热仓、引导通道和反应仓；通过多层次多颗粒度的研磨以及智能研磨控制，在水平面上完成多角度的反复研磨，在垂直平面上对颗粒的均匀度作补充研磨；本发明以较高的效率达成了较好的颗粒均匀度；避免了无效研磨导致的损耗；热能消耗少，较为环保，同时也降低了生产成本。
一种纳米氢化制备方法生产装置

[发明专利]一种提高芯片去层次时均匀度的方法-CN201510248913.X有效
发明人：刘迪 -专利权人：上海华力微电子有限公司
申请日： 2015-05-15 - 公布日： 2019-01-18 - 主分类号： G01R31/26 文献下载
摘要：本发明公开了一种提高芯片去层次时均匀度的方法，通过改变目标位置在研磨样品中的位置，采用将补偿芯片与失效芯片样品相组合拼接的方法，一起构成使失效芯片边缘的目标位置处于底座芯片研磨中心位置的研磨样品，以使失效芯片的目标位置区域与补偿芯片之间在研磨时产生相互补偿作用，可以快速、均匀地去除层次，并停留在相应的区域，从而提高失效芯片样品研磨后表面的平整度和均匀度，改善芯片边缘研磨不均匀、容易出现分层的问题，进而提高研磨质量和制样成功率以及工作效率。
一种提高芯片层次均匀方法

[发明专利]研磨装置及利用该装置改善化学机械研磨均匀度的方法-CN201310630339.5无效
发明人：丁弋;朱也方 -专利权人：上海华力微电子有限公司
申请日： 2013-11-29 - 公布日： 2014-04-23 - 主分类号： B24B37/00 文献下载
摘要：本发明涉及大规模集成电路制造领域，尤其涉及一种研磨装置及利用该装置改善化学机械研磨均匀度的方法，通过利用具有卡槽的研磨头进行化学机械研磨工艺，并在卡槽内部通入气流，进而产生气压，使得圆环钢圈在研磨头的卡槽内移动，即利用扣环相对于膜片进行移动，来调节扣环与膜片的相对高度，使其相对高度保持不变，以有效的改善化学机械研磨的研磨均匀度，并且延长了扣环的使用寿命，降低了制程成本。
研磨装置利用改善化学机械均匀方法

[发明专利]研磨垫及研磨方法-CN200710185026.8有效
发明人：王裕标 -专利权人：智胜科技股份有限公司
申请日： 2007-10-31 - 公布日： 2009-05-06 - 主分类号： B24D17/00 文献下载
摘要：本发明涉及一种研磨垫及研磨方法，适于用以研磨一基底。此研磨垫包括研磨层以及至少两个沟槽。这些沟槽会形成对应的研磨轨迹，这些研磨轨迹共同构成均匀轨迹区，此均匀轨迹区使基底表面获得较佳的研磨均匀度。
研磨方法

[实用新型]一种高均匀度粉末涂料研磨生产装置-CN202020967846.3有效
发明人：李宗刚;陈建忠;阎民军;陈海林;王玉发;段司楼;李应芳 -专利权人：云南领克新型材料有限公司
申请日： 2020-06-01 - 公布日： 2021-04-09 - 主分类号： B02C19/16 文献下载
摘要：本实用新型涉及粉末涂料研磨技术领域，具体为一种高均匀度粉末涂料研磨生产装置，包括支架，支架的上表面设有箱体，箱体的上方还设有移动组件和研磨机构；支架的下表面且位于箱体的正下方设有第一出料管，第一出料管的外侧壁上设有第二出料管该高均匀度粉末涂料研磨生产装置，通过设置的研磨仓、振动电机以及研磨机构，在研磨仓中物料结成块状时，可通过振动电机震动研磨仓，使结成块状的物料分散开，进而有利于研磨块对物料进行更加均匀的研磨，以便于提高该研磨装置的工作效率
一种均匀粉末涂料研磨生产装置

[实用新型]均匀度检测支架及均匀度检测装置-CN201922491239.4有效
发明人：曲健 -专利权人：德雷射科（廊坊）科技有限公司
申请日： 2019-12-31 - 公布日： 2020-08-25 - 主分类号： G01J1/00 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种均匀度检测支架及均匀度检测装置，涉及太阳能板检测技术领域，本实用新型提供的均匀度检测支架，包括：第一移动组件和第二移动组件，第一移动组件设有用于安装检测传感器的安装部，第一移动组件配置为驱动安装部沿第一方向移动本实用新型提供的均匀度检测支架，可以安装检测传感器，且可以驱动检测传感器平移，以实现对光场中各位置的光照度进行检测。
均匀检测支架装置

[发明专利]一种准直器用C-Lens透镜楔面加工方法-CN201910235913.4有效
发明人：林超杰 -专利权人：杰讯光电（福建）有限公司
申请日： 2019-03-27 - 公布日： 2021-01-22 - 主分类号： B24B13/005 文献下载
摘要：本发明公开了一种准直器用C‑Lens透镜楔面加工方法，涉及准直器领域，包括：首先，将至少两个玻璃柱安装进位于旋转研磨盘上方的工位内，调整工位并使玻璃柱与旋转研磨盘相垂直，像获取各个玻璃柱相对于容纳腔的当前凸出高度，求解各个玻璃柱之间的凸出均匀度；若凸出均匀度E≥ETH，则设定旋转研磨盘的上升高度为第一上升高度，执行第一研磨操作；若凸出均匀度E＜ETH，则调整工位并使玻璃柱与旋转研磨盘呈第一夹角，设定旋转研磨盘的上升高度为第二上升高度H2，执行第二研磨操作。本发明能够避免直接切换到设计角度研磨时的玻璃柱长短不一造成各个玻璃柱弯折不同，玻璃柱楔面加工一致性较好。
一种器用 lens 透镜加工方法

[实用新型]钕铁硼材料气研磨设备-CN201620560586.1有效
发明人：陈平 -专利权人：宁波科升磁业有限公司
申请日： 2016-06-09 - 公布日： 2016-11-30 - 主分类号： B22F9/04 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种钕铁硼材料气研磨设备，包括本体，所述本体包括分选机，其分选机下方一体安装有研磨机，所述分选机与研磨机之间安装有隔板，所述研磨机底部设有收集口，所述分选机上部设有进料口，所述收集口与进料口之间设有循环管道，采用分选机与研磨机一体结构，使部分钕铁硼精细粉末不必再次进入研磨机内进行研磨，提高了工作效率，在分选机与研磨机之间设有循环管道，这样可以使研磨不均匀细致的粉末再次进行研磨，从而使粉末的均匀度及精细度达到最佳效果，同时，出料口上设置筛选装置，可以有效的对大小不一的粉末进行分离，从而使加工出来的粉末均匀度达到最大化。
钕铁硼材料研磨设备

[实用新型]一种提高茶粉混合均匀度的混合装置-CN201922048623.7有效
发明人：马喆 -专利权人：湖北宇隆生物工程有限责任公司
申请日： 2019-11-22 - 公布日： 2020-07-17 - 主分类号： B01F13/10 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种提高茶粉混合均匀度的混合装置，包括机壳，机壳内设置有混合腔，机壳上还设置有与混合腔连通的进料斗，以及电机，且电机转轴与从混合腔向上穿出的驱动轴连接，机壳内还设置有位于混合腔下方的研磨腔，且驱动轴向下穿出混合腔与设置在研磨腔内的磨盘固定连接，还包括与研磨腔连通的出料管；机壳内还设置有位于混合腔和研磨腔之间供驱动轴穿过的通道，磨盘盘面与研磨腔内壁之间留有研磨间隙。本实用新型通过在混合腔后增设研磨腔，提高了物料的混合均匀度。
一种提高混合均匀装置

[发明专利]一种莫来石原料粉碎除杂研磨装置-CN202111128597.4在审
发明人：单峙霖;张淼;单文春;单杰 -专利权人：靖州华鑫莫来石有限公司
申请日： 2021-09-26 - 公布日： 2021-12-28 - 主分类号： B02C13/18 文献下载
摘要：本发明涉及工业设备领域，具体为一种莫来石原料粉碎除杂研磨装置。本技术方案所要解决的技术问题为：现有的莫来石研磨装置对莫来石进行研磨的效率存在不足，进而降低了莫来石研磨的均匀度一种莫来石原料粉碎除杂研磨装置，包括安装卡架、固定电机、粉碎装置、齿形皮带、支撑装置、限位装置和导向装置，限位装置的下端面贯通固定连接有用于输料的导向装置，限位装置的内端面均匀等距固定安装有三组支撑装置。本技术方案的有益效果为：在进行研磨时，使用者可通过粉碎转板能对内部的莫来石进行快速的研磨和粉碎，且进行研磨的莫来石能经过多重的粉碎与研磨，有效提高了对莫来石进行研磨和粉碎的均匀度。
一种莫来石原料粉碎研磨装置

[发明专利]均匀度获取装置、均匀度获取方法及程序-CN202110088083.4在审
发明人：中山直人;盐入章弘;河室佑贵 -专利权人：日置电机株式会社
申请日： 2021-01-22 - 公布日： 2021-07-23 - 主分类号： G01N27/06 文献下载
摘要：本发明涉及均匀度获取装置、均匀度获取方法及程序，所述均匀度获取装置获取在液体中混合有不溶性的固体物质的混合液的均匀度，所述均匀度获取装置具备：一对电极，对混合液施加交流信号；测定单元，基于在对混合液施加了交流信号时流过混合液的响应信号，测定混合液的阻抗；以及处理单元，基于通过测定单元测定到的阻抗，获取混合液的均匀度。
均匀获取装置方法程序

[实用新型]一种用于腻子粉加工用研磨装置-CN201922168224.4有效
发明人：梁继君 -专利权人：广西加美固装饰材料有限公司
申请日： 2019-12-06 - 公布日： 2020-09-01 - 主分类号： B02C19/00 文献下载
摘要：本实用新型涉及腻子粉加工技术领域，尤其涉及一种用于腻子粉加工用研磨装置,解决了现有腻子粉均匀度差，易堵塞喷头的缺点，包括装置壳体，所述装置壳体的内壁焊接有支撑块，装置壳体通过支撑块卡接有研磨盘，所述研磨盘的两侧均卡接有滤网，装置壳体的底部中间通过螺栓固定安装有伺服电机，所述伺服电机的输出端套设有套杆，所述套杆的一侧内部卡接有转轴，套杆的顶部内侧开设有弧形槽，套杆通过转轴连接有研磨杆，所述研磨杆的末端焊接有研磨球，该腻子粉加工研磨装置结构简单，能够通过伺服电机带动研磨盘上下抖动，并使得研磨球在研磨盘往复研磨，使研磨效果更好，研磨出的腻子粉均匀度高，颗粒含量低，不容易堵塞喷头。
一种用于腻子工用研磨装置

[发明专利]一种能够提升研磨均匀度的中药材研磨装置-CN201811018071.9在审
发明人：刘丽丽 -专利权人：天津鼎鑫缘新型材料科技有限公司
申请日： 2018-09-03 - 公布日： 2019-02-01 - 主分类号： B02C18/14 文献下载
摘要：本发明提供了一种能够提升研磨均匀度的中药材研磨装置，包括粉碎箱和研磨箱，所述的粉碎箱位于研磨箱的上方，所述的粉碎箱与研磨箱通过管道连接；所述的研磨箱包括研磨槽、研磨辊、摆杆和电缸，所述的电缸位于研磨槽的上方，所述的研磨辊位于研磨槽内，所述的电缸的伸缩杆上设有连接架，所述的摆杆的一端与连接架铰接，且另一端与研磨辊铰接；所述的研磨箱内还设有横杆，所述的横杆与研磨箱的内壁固定连接，所述的摆杆与横杆转动连接。本发明所述的一种能够提升研磨均匀度的中药材研磨装置，在粉碎箱进行初步的粉碎后，再经过研磨箱进行二次处理，充分保证散剂的颗粒均匀。研磨箱采用手工研磨的药碾子的结构设置，能够保护中药的药效不会因为研磨不当而遭到破坏。
研磨粉碎箱研磨均匀度研磨装置研磨槽研磨辊摆杆电缸中药材连接架横杆铰接散剂二次处理管道连接横杆转动结构设置手工研磨伸缩杆内壁中药保证

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