专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种源岩有效性判别方法-CN202110805678.7有效
  • 陈君青;马奎友;施砍园;庞宏;丛奇 - 中国石油大学(北京)
  • 2021-07-16 - 2022-09-13 - G06F30/28
  • 本发明提供了一种源岩有效性判别方法。该方法包括:构建源岩液态、吸附气态、水气态及油气态滞留门限计算模型;获取目标层参数;基于获取的目标层参数,分别利用源岩液态、吸附气态、水气态及油气态滞留门限计算模型,确定目标层的源岩液态滞留门限、源岩吸附气态滞留门限、源岩水气态滞留门限和源岩油气态滞留门限;利用目标层的源岩液态滞留门限、源岩吸附气态滞留门限、源岩水气态滞留门限和源岩油气态滞留门限,确定目标层的有效源岩滞留门限;获取目标层的源岩残留量;基于目标层的源岩残留量以及目标层的有效源岩滞留门限,判别目标层的源岩有效性。
  • 一种烃源岩有效性判别方法
  • [发明专利]洗涤剂组合物-CN92105878.0无效
  • G·M·贝利利;S·包威尔 - 普罗格特-甘布尔公司
  • 1992-06-18 - 1997-02-19 - C11D1/52
  • 本发明提供了洗衣用洗涤剂组合物,其含有一种或多种水阴离子、阳离子、两性或两性离子去污表面活性剂或其混合物,其包括(a)占组合物重量至少1%的多羟基脂肪酸酰胺,其具有如下结构式其中R1为H、C1-C4基、2-羟乙基、2-羟丙基或其混合物;R2为C5-C31基;Z为具有线性、至少有3个羟基直接连在该上的多羟基基或其烷氧基化衍生物,和(b)占组合物重量至少1%的基本水不的乙氧基化C11-C15优选的水表面活性剂为阴离子表面活性剂,较优选的组合物不含烷基苯磺酸盐表面活性剂。
  • 洗涤剂组合
  • [发明专利]将铜与铁分离的方法-CN00811458.7无效
  • S·I·康;P·马迪森;M·J·沃尼戈;R·B·苏德斯;G·A·沃尔菲 - 科金斯公司
  • 2000-08-10 - 2002-09-25 - C07C249/06
  • 在含有溶解的铜和铁值的原料水溶液中,使原料水溶液与水不混的有机溶液接触,所述的水不混的有机溶液由溶剂和下述式(I)化合物组成,其中R5是C1-22直链或支链烷基,C2-22直链或支链烯基,C6芳基,C7-22芳烷基,卤素,OH或-OR6,其中R6是C1-22直链或支链烷基、C2-22直链或支链烯基、C6芳基、C7-22芳烷基;R1是氢,或C1-22直链或支链烷基或烯基、C6芳基或C7-22芳烷基;R2-R4是氢,卤素,C6-12直链或支链烷基,-OR6,其中R6是C1-22直链或支链烷基、C2-22直链或支链烯基、C6芳基或C7-22芳烷基,形成含有铁的水相和由溶剂和铜-萃取剂复合物组成的有机相,其中所述的铜-萃取剂复合物在溶剂中是可溶的,从而优先地从铁中萃取出铜。选择R2-R5基团以使铜-萃取剂复合物在溶剂中是可溶的。完成萃取步骤并分离有机相和水相之后,有机相基本上不含有铁和/或铁-萃取剂复合物。
  • 分离方法
  • [发明专利]一种确定源岩游离排出临界条件的方法-CN201310009048.4无效
  • 庞雄奇;姜福杰;郭继刚 - 中国石油大学(北京)
  • 2013-01-10 - 2014-07-16 - G01N33/24
  • 本发明建立了源岩演化过程中游离排出临界条件的概念模型和利用生量、残留临界饱和量、水相排量及扩散相排量四个参数定量判别这一临界条件的技术方法。当源岩生量大于残留临界饱和量与水相和扩散相排量之和时,表明源岩已进入游离排出临界条件;当源岩生量等于残留临界饱和量与水相和扩散相排量之和时,表明源岩正处于游离排出临界条件,此时源岩对应的埋深条件或演化程度均可表征游离排出临界条件;当源岩生量小于残留临界饱和量与水相和扩散相排量之和时,表明源岩尚未进入游离排出临界条件。“游离排出临界条件”概念模型的建立和技术方法的提出弥补了生门限评价源岩质量的不足,对于客观评价源岩的资源潜力和指明油气勘探的正确方向具有重大的理论技术意义。
  • 一种确定烃源岩游离排出临界条件方法
  • [实用新型]一种降低离子液催化剂中的装置-CN201520610967.1有效
  • 张强;高玉涛 - 山东德阳化工有限公司
  • 2015-08-13 - 2015-12-30 - C10G50/00
  • 本实用新型属于化工领域,特别公开了一种降低离子液催化剂中的装置。该降低离子液催化剂中的装置,包括反应器、一级旋液分离器、一级离子液沉降罐、脱旋液分离器和二级分离机构,离子液循环泵的出口通过管道与脱旋液分离器的进料口相连通,脱旋液分离器的底部出料口通过管道与反应器的催化剂入口相连通,脱旋液分离器的顶部出料口通过管道与反应器的离子液进料口相连通。该降低离子液催化剂中的装置,在保证大的离子液循环量的同时,降低了离子液中的,分离后的离子液中只有10-15%,酸比在1-1.2,完全能满足离子液烷基化反应所需要的酸比大于1的工艺要求,得到的烷基化油辛烷值由
  • 一种降低离子催化剂中溶烃装置
  • [发明专利]包含硅氢键的聚二硅氧烷及其制备方法-CN03129695.5无效
  • 崔孟忠;李竹云;唐小真 - 上海交通大学
  • 2003-07-03 - 2004-03-03 - C08G77/48
  • 本发明披露了一种包含硅氢键的聚二硅氧烷,它是主含有硅硅氧重复节、侧含有硅氢键和硅基团的有机硅聚合物。它的制备方法是通过基含氢二氯硅烷或基含氢二氯硅烷与二基二氯硅烷混合单体与碱金属进行Wurtz法还原偶联反应,之后直接水解、缩合反应;或醇解反应之后再进行水解、缩合反应以及产物的分离等步骤。该聚合物在弹性体材料、陶瓷前驱体、光刻蚀剂、半导体材料、非线性光学材料、光折变材料及空穴传输材料等领域有着十分广泛的应用前景。
  • 包含氢键聚二硅氧烷及其制备方法
  • [发明专利]单一酯型油墨用聚氨酯树脂及其制备方法-CN201611028145.8在审
  • 王登科;赫长生 - 北京高盟新材料股份有限公司
  • 2016-11-18 - 2017-03-22 - C08G18/42
  • 本发明公开了一种单一酯型油墨用聚氨酯树脂及其制备方法,该树脂结构为NH2‑R2‑NH‑(‑CO‑NH‑R1‑NH‑CO‑)n‑NH‑R2‑NH2,其中,R2为亚甲基、芳香基或脂环基基团。方法包括制备聚酯用带侧的多元醇和己二酸反应,通过酯化和缩聚,制备聚酯多元醇;制备预聚体将聚酯多元醇、催化剂和二异氰酸酯混合,在50~120℃下反应2~4小时,得到端NCO基预聚体;扩合成向另一容器中,加入胺类扩剂和酯类溶剂形成混合溶液,将制得的端NCO基预聚体用5~50分钟内投入混合溶液中进行扩链反应,反应温度控制在30~50℃,反应2~3小时后得到聚氨酯树脂。该树脂在单一酯类溶剂中有良好溶解性,可制备通用于普通轻包装、水煮、蒸煮的单一酯型油墨。印刷时溶剂可回收再利用,溶剂残留极低。
  • 单一酯溶型油墨聚氨酯树脂及其制备方法
  • [发明专利]抗蚀剂组合物-CN201110038475.6无效
  • 增山达郎;山口训史 - 住友化学株式会社
  • 2011-02-14 - 2011-08-24 - G03F7/004
  • 本发明提供一种光抗蚀剂组合物,所述的光抗蚀剂组合物含有:包含由式(IA)表示的阴离子的锍盐,其中R1和R2独立地表示氢原子、C1-C12脂族基、C3-C20饱和环基、C6-C20芳族基或C7-C21芳烷基,并且所述脂族基、所述饱和环基、所述芳族基和所述芳烷基可以具有一个或多个选自由羟基、氰基、氟原子、三氟甲基和硝基组成的组中的取代基,并且所述脂族基中的一个或多个sub>2-可以被-O-或-CO-代替,或R1和R2相互结合以与它们连接的氮原子一起形成C4-C20含氮环;丙烯酸类树脂,其具有酸不稳定基团,并且不或难溶于碱性水溶液
  • 光致抗蚀剂组合

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