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- [发明专利]一种多通道管控工艺流程的设计方法-CN201410117735.2有效
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俞晓菁;朱燕萍
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上海华力微电子有限公司
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2014-03-27
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2014-07-23
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G05B19/418
- 一种多通道管控工艺流程的设计方法,包括根据同种技术节点的不同产品特性,建立满足所述不同产品共性条件工艺流程的主工艺流程,并在主流程工艺流程上预设不同条件工艺流程的分支流程;其中,主工艺流程包括多个工艺站点和虚拟站点,分支流程的设置以一个开始站点开始和以其相应的结束站点结束;接着将待建立工艺流程与主流程工艺流程进行比较,得到不同于主流程工艺流程中工艺站点的集合;然后从工艺站点集合中归纳出一个或多个具有连续站点的子集,将子集用在主工艺流程上预设不同条件工艺流程的相应分支流程替代;最后依次将主工艺流程中相同的工艺站点与分支流程通过虚拟站点串接起来,得到该待建产品的工艺流程。
- 一种通道工艺流程设计方法
- [发明专利]HDP工艺成膜方法-CN201711178376.1在审
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钟飞;韩晓刚;陈建维
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上海华力微电子有限公司
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2017-11-23
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2018-05-18
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H01L21/02
- 本发明公开了一种HDP工艺成膜方法,HDP工艺同时包括介质层淀积工艺和介质层刻蚀工艺,在采用所述HDP工艺进行成膜的过程中,采用如下步骤对所述HDP工艺进行设置:将HDP工艺的介质层淀积工艺和介质层刻蚀工艺分布拆分为多个,每一个介质层淀积工艺和一个对应的介质层刻蚀工艺组成一组;每一组的介质层淀积工艺的参数当前薄膜层的形貌进行设置;每一组的所述介质层刻蚀工艺的参数根据当前薄膜层的形貌进行设置。本发明能实现沟槽良好填充和填充速率的平衡,能提高工艺参数调节的窗口范围。
- hdp工艺方法
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