专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]移动体用光谱测定-CN200980159472.9无效
  • 川真田进也;船山龙士;吉田康浩;横地泰容;远藤雅人;金道敏树;北浜谦一 - 丰田自动车株式会社
  • 2009-05-29 - 2012-05-02 - G01J3/28
  • 提供能够提高基于搭载于车辆等移动体的光谱传感器的观测数据的对测定对象的识别精度的移动体用光谱测定。对测定对象(15)和基准体(17)照射环境光(14)。光谱取得装置(11)取得表示测定对象(15)的光谱的测定对象数据(16)和表示成为修正该测定对象(15)的光谱时的基准的基准体(17)的光谱的基准体数据(18)。光谱转换装置(12)具有表示基准体(17)的表面反射的基准体反射数据(24),基于该基准体反射数据(24)和基准体数据(18),生成表示环境光(14)的光谱的环境光数据(19)。使用该环境光数据(19),将测定对象数据(16)转换为表示测定对象(15)的表面反射测定对象反射数据(20)。识别装置(13),基于该测定对象反射数据(20),进行测定对象(15)的识别。
  • 移动体用光谱测定装置
  • [发明专利]反射测定、成膜装置-CN202211298857.7在审
  • 朴笑敏 - 佳能特机株式会社
  • 2022-10-24 - 2023-05-09 - C23C14/54
  • 本发明涉及反射测定、成膜装置。用于防止反射测定精度降低。反射测定具备:光源;投受光头,所述投受光头具备投光部、反射光输入部及修正光输入部,所述投光部向被测定物照射被输入到投受光头的来自光源的光所包含的第一光和第二光中的第一光,所述反射光输入部将第一光由被测定反射后的反射光输入到第一线材,所述修正光输入部将第二光不照射到被测定物而输入到第二线材;测定构件,所述测定构件对经由第一线材传送的第三光的强度和经由第二线材传送的第四光的强度进行测定;以及确定构件,所述确定构件基于由测定构件测出的第三光的强度和第四光的强度来确定被测定物的反射
  • 反射率测定装置
  • [发明专利]膜厚测定以及膜厚测定方法-CN200980111320.1无效
  • 山田健夫;山本猛;山仓崇宽;林真治;河合慎吾 - 株式会社尼利可
  • 2009-07-24 - 2011-02-23 - G01B11/06
  • 本发明提供一种膜厚测定以及膜厚测定方法,膜厚测定具有光源(101)、分光传感器(109)、处理器(120)、和存储装置(130),使来自上述光源的光垂直地入射到具有膜的测定对象面(501),被测定对象面反射的光入射到上述分光传感器上述存储装置存储每种膜厚的反射分布的理论值和每种膜厚的颜色特性变量的理论值,上述处理器使用存储于上述存储装置中的每种膜厚的反射分布的理论值或每种膜厚的颜色特性变量的理论值,根据上述分光传感器所测定反射分布,求出测定对象面的膜的膜厚。
  • 测定装置以及方法
  • [实用新型]一种球面反射测定-CN201220479704.8有效
  • 王政;任东海 - 任东海
  • 2012-09-19 - 2013-03-27 - G01N21/55
  • 本实用新型揭示了一种球面反射测定,包括光源、镜头系统、反射镜、物镜、载物台、成像透镜组、光谱装置和处理单元,所述的光源发出的光线经由镜头系统照射到与入射光呈45度夹角的反射镜上,所述的反射镜将入射光翻转90度角经由物镜照射到载物台的被测样本上,所述的被测样本的反射光线再依次透过物镜、反射镜、成像透镜组射到光谱装置上,并由处理单元进行反光计算;所述的反射镜由中心发散的等夹角射线将其分割成交替布置的透光部和反光部该测定采集到的光照强度比传统的球面反射测定采集到的光照强度增加一倍,提高了球面样本反射测定的准确性。
  • 一种球面反射率测定装置
  • [发明专利]反射测定-CN200610006486.5有效
  • 松本茂树;野泽繁典;小川义正 - 优志旺电机株式会社
  • 2006-02-06 - 2006-08-30 - G01N21/55
  • 一种反射测定,即使被载置于微芯片上的被测定部位(试纸)被透明构件所覆盖,而被测定部位上的检体量是μl量级的微量的情况下,仍可获得良好的检出灵敏度。该反射测定,具备将在特定波长具有指向性的光予以出射的光放出部(7、8)与受光部(9),在微芯片(1)的被测定部位(4)上照射来自光放出部(7、8)的光,以受光部(9)来接受来自被测定部位(4)的反射光,以测定测定部位(4)的反射,其特征为,是将微芯片(1)的被测定部位(4)以透明构件(6)覆盖的构造,即,光放出部(7、8)配置在被测定部位(4)的正上方,来自光放出部(7、8)的照射区域被收敛在被测定部位(4)内,在包含光放出部(7、8)的发光中心点而垂直于微芯片(1)的假想面上,对于被测定部位(4)的照射区域的端部上的法线,令反射光所形成的角度为θ(°),令被测定部位正上方所配置的光放出部(7、8)所放射出来的光的扩张角为α(°),令透明构件(6)的折射为n时,受光部(9)配置在满足(1/2)α≤θ≤sin-1 (1/n)的关系的角度范围θ内。
  • 反射率测定装置
  • [发明专利]反射测定反射测定方法、膜厚测定及膜厚测定方法-CN201180044880.7有效
  • 大塚贤一;中野哲寿 - 浜松光子学株式会社
  • 2011-09-14 - 2013-06-05 - G01N21/27
  • 本发明的反射测定(1)具备:测定光源(30),对测定对象物供给照射光(L1);分光检测部(80),对各波长检测照射光(L1)的强度及来自测定对象物的反射光(L2)的强度;系数记录部(92),记录将照射光(L1)的各波长的强度检测值转换成相当于来自基准测定对象物的反射光(L2)的各波长的强度检测值的转换系数K(λ);及反射计算部(93),基于根据照射光(L1)的各波长的强度检测值及转换系数K(λ)求得的、相当于来自基准测定对象物的反射光(L2)的各波长的强度的值,计算各波长的反射。由此,可高精度地测定测定对象物的各波长的反射
  • 反射率测定装置方法
  • [发明专利]沟槽图案的深度的测定方法和测定-CN200710140995.1有效
  • 山口真二;堀江正浩 - 大日本网目版制造株式会社
  • 2007-08-15 - 2008-02-27 - G01B11/22
  • 一种沟槽图案的深度的测定方法和测定,把在测定区域(93)形成有沿给定沟槽方向延伸的沟槽图案的基板(9)保持在保持部(21)上;光照明部(3)对基板(9)的测定区域(93)照射照明光,分光器(5)的衍射光栅(52)把来自测定区域(93)的照明光的反射光分光,从而取得测定分光反射。此时在沟槽形状测定(1)中,以使对应于衍射光栅(52)的光栅方向的基板(9)上的方向与沟槽方向45度的状态来配置衍射光栅(52),所以即使在因沟槽图案的影响而限定了来自基板(9)的反射光的振动方向的情况下,也不会受反射光的偏振光的影响而能正确地求得测定区域(93)的分光反射,并能高精度地求出沟槽图案的深度。
  • 沟槽图案深度测定方法装置

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