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- [发明专利]一种共形陶瓷超材料及其制备方法-CN201210226499.9无效
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刘若鹏;赵治亚;缪锡根;熊晓磊
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深圳光启创新技术有限公司
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2012-07-03
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2012-10-31
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C04B35/622
- 本发明提供一种共形陶瓷超材料及其制备方法,将含有陶瓷粉料和有机体系的悬浮体脱气、预聚得到浆料,将浆料浇注到第一模具中,固化后得到生坯;将陶瓷粉料制成陶瓷浆料并流延制成生瓷片,通过丝网印刷技术在生瓷片上制备金属微结构;将制备好的含金属微结构的生瓷片贴覆于所述生坯外表面,得到带金属微结构的生坯;将浆料浇注到第二模具中,插入带金属微结构的生坯,固化后得到含金属微结构的共形结构坯料;将含金属微结构的共形结构坯料排胶、烧结,获得共形陶瓷超材料。采用凝胶注模成型法与LTCC或HTCC技术有机地结合起来,制备曲面共形陶瓷超材料,不仅透波性能好、耐高温,由于内外两层陶瓷片共形结合,提高了这种共形陶瓷超材料的强度。
- 一种陶瓷材料及其制备方法
- [发明专利]超构表面主镜、辅镜及主镜、辅镜制备方法和光学系统-CN201810814042.7有效
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李贵新;刘萱;邓俊鸿;李敬辉;程鑫
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南方科技大学
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2018-07-23
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2021-08-27
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G02B5/08
- 本发明公开了一种超构表面主镜、辅镜及主镜、辅镜制备方法和光学系统,光学系统包括超构表面主镜和超构表面辅镜。超构表面主镜包括:透明衬底;位于透明衬底之上的主镜超构表面功能单元图案,主镜超构表面功能单元图案满足主镜相位分布,对经超构表面辅镜反射到超构表面主镜上的入射光进行反射聚焦。超构表面辅镜包括:透明衬底;位于透明衬底之上的辅镜超构表面功能单元图案,辅镜超构表面功能单元图案满足辅镜相位分布,将入射到超构表面辅镜的入射光反射到超构表面主镜上,并经超构表面主镜进行反射聚焦。本发明实现了基于反射式超构表面的平面透射式透镜,解决了传统反射型物镜工艺制备苛刻、质量重、体积大和难以小型化以及集成化的问题。
- 表面制备方法光学系统
- [发明专利]一种超构透镜及其制作方法-CN202011049159.4在审
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邓永波;贾平
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中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
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2020-09-29
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2020-12-29
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G02B27/00
- 本申请公开了一种超构透镜及其制作方法,该方法通过确定超构透镜的焦点;在截面组件的截面层中设定超构透镜面型的设计变量;截面组件包括基底、截面层以及完美匹配层,且截面组件内分布有激励波;根据设计变量进行截面层内预选材料和真空相对介电常数的指数幂律混合材质插值,确定预选材料的分布位置,得到超构透镜的剖面结构构型,以使焦点处电场能量密度极大化;其中,预选材料为超构透镜的材料,将剖面结构构型沿超构透镜的对称轴旋转,得到超构透镜的结构构型;根据结构构型加工得到超构透镜根据所需的超构透镜逆向设计结构构型并加工得到超构透镜,非常方便,并且通过获得剖面结构构型,降低超构透镜的几何结构数据量,提升制作效率。
- 一种透镜及其制作方法
- [发明专利]一种具有超疏水性能的腔形柱状织构化硅材料及制备方法-CN201610585136.2有效
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刘思思;童佳威;张言
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湘潭大学
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2016-07-25
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2017-10-10
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B81B7/04
- 本发明公开了一种腔形柱状织构硅与分子膜改性协同实现超疏水的方法,晶向为(1,0,0)或(1,1,0)的单晶硅片表面氧化后通过干刻法刻蚀制备出方形柱状织构;清洗方形织构硅片,置入配制的KOH水溶液中刻蚀,KOH浓度为30~33wt%,反应温度范围为80℃,刻蚀时间为20~30min;KOH刻蚀后冲洗硅片,将其置入HF中腐蚀一段时间,至氧化层消失;取出HF中的硅片,冲洗并将其吹干即形成具有腔形柱状织构的单晶硅片;在织构化单晶硅片表面制备癸基三氯硅烷和十八烷基三氯硅烷组成的多组分分子膜。本发明将干湿两种刻蚀方法和自组装分子膜技术相结合,制备工艺传统简单,制作成本较低,制得的腔形柱状织构化硅与多组分分子膜协同实现稳定的超疏水性能,并改善了减摩抗磨性能。
- 一种具有疏水性能柱状织构化硅材料制备方法
- [实用新型]一种超构消声器-CN202123382394.6有效
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解龙翔;卢明辉;谢海圣;王珏
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苏州声学产业技术研究院有限公司
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2021-12-30
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2022-05-24
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F16L55/033
- 本实用新型涉及一种超构消声器,它包括:消音管和配置在消音管内圈的超构隔声体以及配置在超构隔声体内圈的超构吸声体,超构隔声体包括散射机构和反射机构,散射机构上设置有弧形面,反射机构上设置有平面,超构吸声体包括至少两层超微穿孔板和形成在相邻超微穿孔板之间的空腔当声波波长与超构吸声体尺寸相匹配时,由于超构吸声体的共振、超微穿孔板的摩擦、多层超微穿孔板间的耦合作用,将声波能量转化为热能,从而达到消声的效果。同时,一部分声波透过超构吸声体进入超构隔声体内部,当声波波长与超构隔声体尺寸相匹配时,由于散射结构的全散射、反射结构的全反射以及散射结构与散射结构间的耦合作用,损耗声波能量,从而达到消声的效果。
- 一种消声器
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