[实用新型]一种淀积设备高效率保养装置

摘要

本实用新型涉及一种淀积设备高效率保养装置，属于集成电路制造技术领域。包括底板，所述底板上设有腐蚀盖板，所述腐蚀盖板底部开设凹槽，所述腐蚀盖板边缘支撑于底板上，所述凹槽与底板之间的间隙作为腐蚀腔；所述腐蚀盖板上压设压紧块；所述腐蚀盖板上开设酸瓶孔，所述酸瓶孔内设有加酸瓶，所述加酸瓶出口与腐蚀腔连通，所述加酸瓶内的酸液流入腐蚀腔内并均匀覆盖于底板表面；所述底板上开设氮气孔单元，所述底板下方设有氮气吹扫装置；所述腐蚀盖板上设有排风单元，所述排风单元与腐蚀腔连通，所述排风单元将酸气外排。本申请结构简单，操作便捷，减少了底板腐蚀时间，减少了保养时间，提高了保养效率。