[实用新型]半导体清洁用保护罩及半导体清洁系统有效

专利信息
申请号: 202221288319.5 申请日: 2022-05-27
公开(公告)号: CN217451303U 公开(公告)日: 2022-09-20
发明(设计)人: 林信嘉;施文凯;郭依伦 申请(专利权)人: 豪威科技股份有限公司
主分类号: B08B7/00 分类号: B08B7/00;B08B11/04;B08B13/00;H01L21/67
代理公司: 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 代理人: 刘芳;臧建明
地址: 美国加州圣克拉拉市巴尔*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 一种半导体清洁用保护罩及半导体清洁系统,所述半导体清洁用保护罩适于罩覆在托盘上,托盘具有多个凹槽供多个半导体元件放置于内。半导体清洁用保护罩包括本体以及贯穿本体的多个贯孔。当半导体清洁用保护罩放置在托盘上且这些半导体元件放置于托盘上这些凹槽时时,这些贯孔对位于托盘上的这些凹槽,而外露位在这些凹槽内的这些半导体元件的多个顶面中央区。这些贯孔的每一者的尺寸小于对应的半导体元件的尺寸。因此,本实用新型的半导体清洁用保护罩及半导体清洁系统可遮蔽半导体元件的边缘,可避免高速的清洁流体直接撞击到半导体元件的边缘,且可避免半导体元件被高速的清洁流体吹飞,以降低因清洁而导致半导体元件受损的机率。
搜索关键词: 半导体 清洁 护罩 系统
【主权项】:
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  • 本发明涉及一种等离子自动清洗装置,采用了在工作台上设置若干个移动装置;在任意一个移动装置的上方活动连接若干个电芯夹装装置;移动装置驱动电芯夹装装置沿着移动装置的预设轴线移动;在任意一个移动装置的上方设置多轴清洗装置;多轴清洗装置对电芯夹装装置上夹装的电芯进行清洗,解决了现有在电芯的清洗一般都采用人工清洗为主,但是电芯残留在外壳上的污渍,残留有电芯中的化学物质,如果采用人工清洗的话,对人体可能造成伤害的技术问题。
  • 海砂净化微波处理机和海砂微波净化系统-202210341544.9
  • 陈火城;陈泽鑫;李炀 - 厦门市中砂科技有限公司
  • 2022-03-29 - 2023-10-24 - B08B7/00
  • 本发明公开了一种海砂净化微波处理机和海砂微波净化系统,属于海砂净化领域,其包括槽型耐热输送机,槽型耐热输送机上沿输送方向前后依次设置有进料装置、若干个微波处理器和出料口,每个微波处理器均包括设定数量的微波发射器,微波发射器位于槽型耐热输送机的耐热输送带上方的设定高度。本发明利用微波加热处理海砂,海砂砂体表面的有害物质在快速升温加热后,失去活性和粘性,与砂体的结合力快速降低,再通过淘洗和砂水分离,快速去除砂体表面如氯离子等有害物质,处理后的净化海砂可以达到入海前河砂的基本状态,氯离子含量可达到0.000%~0.002%之间,可安全应用于建设工程,不会导致钢筋锈蚀和混凝土劣化,具有耐久性好、成本低廉的显著特点。
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