[发明专利]半导体存储器设备在审

专利信息
申请号: 202211345568.8 申请日: 2022-10-31
公开(公告)号: CN116156898A 公开(公告)日: 2023-05-23
发明(设计)人: 李容在;金景洙;朴珍荣;李槿熙 申请(专利权)人: 三星电子株式会社
主分类号: H10B61/00 分类号: H10B61/00;H10N50/10;H10N52/80;H10N52/00;H10N50/80
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 李婧
地址: 韩国*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 公开了一种半导体存储器设备。半导体存储器设备可以包括磁隧道结图案、与磁隧道结图案的第一部分接触的自旋轨道矩(SOT)图案、电连接到磁隧道结图案的第二部分且被配置为通过第一字线控制的第一晶体管、以及电连接到自旋轨道矩图案的第一端并且被配置为通过第二字线控制的第二晶体管。第一晶体管的有效沟道宽度可以不同于第二晶体管的有效沟道宽度。
搜索关键词: 半导体 存储器 设备
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于三星电子株式会社,未经三星电子株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202211345568.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。

同类专利
  • 一种半导体存储单元、阵列、器件及其制备方法-202311044822.5
  • 朱政;李尚坤;陈劲中;吴迪 - 苏州凌存科技有限公司
  • 2023-08-18 - 2023-10-27 - H10B61/00
  • 本发明提供一种半导体存储单元、阵列、器件及其制备方法,该半导体存储单元包括,磁性材料叠层,包括从下至上依次叠置的第一磁性层、隧穿势垒层和第二磁性层;与第一磁性层连接的第一接触件;叠置在磁性材料叠层上的第三磁性层;与第三磁性层直接接触的第二接触件;第一磁性层、第二磁性层及第三磁性层的自旋方向共线;第三磁性层在垂直方向上具有非均匀的材料分布并至少在第三磁性层与磁性材料叠层的接触界面处具有连续的侧壁形貌。本发明通过在磁性材料叠层上设置第三磁性层,实现对磁性材料叠层保持始终有效的保护,对磁性材料叠层与接触件之间以提供一稳定的电接触,还固定下方磁性层的磁化方向,整体上提高了可靠性和器件性能。
  • 自旋轨道转矩型磁阻效应元件及磁存储器-202310983014.9
  • 盐川阳平 - TDK株式会社
  • 2019-05-13 - 2023-10-24 - H10B61/00
  • 本发明的自旋轨道转矩型磁阻效应元件(101)具备:第一铁磁性层(1)、第二铁磁性层(2)、位于上述第一铁磁性层与上述第二铁磁性层之间的非磁性层(3)、层叠了上述第一铁磁性层的自旋轨道转矩配线(5),上述自旋轨道转矩配线沿着相对于上述第一铁磁性层的法线方向即第一方向(Z)交叉的第二方向(X)延伸,上述第一铁磁性层从上述自旋轨道转矩配线侧依次具有第一层叠结构体(10a)和界面磁性层(20),上述第一层叠结构体是从上述自旋轨道转矩配线侧依次配置铁磁性导电体层(11a)和含氧化物层(12a)的结构体,上述铁磁性导电体层包含铁磁性金属元素,上述含氧化物层包含铁磁性金属元素的氧化物。
  • 磁存储器结构及其制作方法-202311028437.1
  • 蔡文龙;张洪超;郭宗夏;吕术勤;刘宏喜;曹凯华;王戈飞 - 致真存储(北京)科技有限公司
  • 2023-08-15 - 2023-10-20 - H10B61/00
  • 本发明涉及一种磁存储器结构及其制作方法,该磁存储器结构包括:磁隧道结,包括自由层、势垒层、参考层与钉扎层;自旋霍尔层,沿自由层的周向包覆在自由层的外侧;氧化层,夹设于自由层与自旋霍尔层之间。本发明的自旋霍尔层包覆在自由层侧壁,在刻蚀形成磁隧道结的过程中,不会损伤自旋霍尔层,也不会出现自旋霍尔层的电流分流或短路的情况,降低了刻蚀难度,同时,自旋霍尔层在自由层侧壁包覆,产生垂直方向的自旋极化,可实现PMA器件的无磁场写入,且包覆在自由层侧壁的自旋霍尔层的制备不会增大器件制作工艺的复杂度。
  • 半导体结构、存储器及其制作方法、电子设备-202310317554.3
  • 巴兰松;张云森;李辉辉;余泳 - 北京超弦存储器研究院
  • 2023-03-28 - 2023-10-20 - H10B61/00
  • 本申请实施例提供了一种半导体结构、存储器及其制作方法、电子设备。该半导体结构包括:衬底、背栅、半导体层、漏极、磁性隧道结以及位于半导体层远离衬底一侧的第一源极、第一栅极、第二源极和第二栅极。半导体层与背栅叠层设置且绝缘;磁性隧道结位于漏极远离衬底的一侧,且与漏极接触;第一源极和第一栅极位于漏极的一侧,第二源极和第二栅极位于漏极的另一侧,且第一源极、第一栅极、第二源极和第二栅极分别在衬底上的正投影均与半导体层在衬底上的正投影交叠。本申请提供的半导体结构包括一个磁性隧道结和两个晶体管,相对于传统的MRAM存储单元,能够提升MRAM存储单元读写稳定性。
  • 一种磁性随机储存器及制备方法-202310999753.7
  • 李尚坤;朱政;陈劲中;李岳升;吴迪 - 苏州凌存科技有限公司
  • 2023-08-09 - 2023-10-17 - H10B61/00
  • 本申请提供一种磁性随机存储器及制备方法。本申请提供的磁性随机储存器包括衬底和形成在衬底上的多个磁性隧道结阵列,按照远离衬底的方向,每个磁性隧道结阵列中的各个磁性隧道结的膜堆结构依次包括参考层、阻挡层和自由层;每个磁性隧道结阵列中的各个磁性隧道结的参考层连通,且衬底上与该磁性隧道结阵列相对的位置上设置有至少一个底电极;每个磁性隧道结阵列中的各个磁性隧道结的自由层相互隔离,且每个自由层上各自覆盖有顶电极;每个磁性隧道结阵列中的各个自由层在参考层上的投影均在参考层内。这样,可使得参考层作用在自由层的面外杂散磁场在工作温度范围内稳定地维持在零场附近,可提高磁性随机储存器的存储密度和性能。
  • 光子自旋寄存器、信息写入方法以及信息读取方法-202280010847.0
  • 中辻知;汤本润司;岛野亮;林将光;竹中充;堀之内裕理 - 国立大学法人东京大学
  • 2022-01-20 - 2023-10-13 - H10B61/00
  • 本发明的光子自旋寄存器(100)包括:具有沿一个方向延伸的形状的磁性体层(124)的移位寄存器单元(104);接收串行输入且经脉冲振幅调制后的光信号(PL)并将其转换为光电流(Iph)的感光器(114);和与感光器(114)电连接,并层叠在磁性体层(124)上的局部区域,通过来自感光器(114)的光电流(Iph)的流动,表现出自旋霍尔效应的自旋霍尔元件(106)。当光电流(Iph)流过自旋霍尔元件(106)时,自旋轨道矩对磁性体层(124)的磁畴的磁序发挥作用,从而写入自旋信息。当使一个方向的移位电流(Is)流过移位寄存器单元(104)时,磁畴壁在磁性体层(124)内移动,已写入磁畴的自旋信息移动并缓存至磁性体层(124)中。
  • 磁存储单元结构及存储器-202310833520.X
  • 熊丹荣;刘宏喜;曹凯华;王戈飞 - 致真存储(北京)科技有限公司
  • 2023-07-07 - 2023-10-03 - H10B61/00
  • 本发明涉及一种磁存储单元结构及存储器,该磁存储单元结构包括复合底电极,以及设置于复合底电极上的磁隧道结,磁隧道结包括层叠的反铁磁层、自由层、势垒层与参考层。复合底电极包括:第一重金属层;第一铁磁层,层叠于第一重金属层上;第二重金属层,层叠于第一铁磁层背向第一重金属层的一侧;其中,第一重金属层与第二重金属层的自旋霍尔角符号相反。上述磁存储单元结构及存储器,第一重金属层与第二重金属层的自旋霍尔角方向相反,具有较高的自旋流转换效率,能够较高效的翻转第一铁磁层的磁矩,随后通过与自由层之间的耦合带动自由层的翻转,从而以较低的功耗完成数据的写入。
  • 一种磁性随机存储器及其制备方法和控制方法-202110838197.6
  • 卢世阳;刘宏喜;曹凯华;王戈飞 - 致真存储(北京)科技有限公司
  • 2021-07-23 - 2023-10-03 - H10B61/00
  • 本发明公开了一种磁性随机存储器及其制备方法和控制方法,涉及隧穿磁电阻领域,步骤包括:构建所述磁性随机存储器的底部层级结构;构建混合式重金属层;构建剩余隧穿磁隧道结膜层结构;构建加工隧穿磁隧道结。所述方法通过在底层衬底结构上表面构建混合式重金属层,在不同材质金属层上表面溅射生成完整磁隧道结,针对重金属层通入电流,利用不同材质的自旋霍尔角角度和大小不同的性质,使所述重金属层在通入电流时实现多模态翻转动作。结合其磁性随机存储器本身良好的存储性能,可实现计算机的“逻辑存储一体化”,从而实现对计算机运算速度的提升。
  • 磁性存储装置-201810070684.0
  • 村山昭之;岩崎刚之;甲斐正;大坊忠臣;远藤将起;五十岚太一;伊藤顺一 - 铠侠股份有限公司
  • 2018-01-24 - 2023-10-03 - H10B61/00
  • 实施方式提供一种具备磁阻效应元件的磁性存储装置,其中所述磁阻效应元件具有合适的基底层。实施方式的磁性存储装置具备:导电性基底层(20),具有非晶结构,且含有选自钼(Mo)、镁(Mg)、铼(Re)、钨(W)、钒(V)及锰(Mn)的至少1种第1特定元素;以及积层结构(30),设置在基底层上,且包含具有可变磁化方向的第1磁性层(31)、具有固定磁化方向的第2磁性层(32)、及设置在第1磁性层与第2磁性层之间的非磁性层(33)。
  • 磁存储单元结构及存储器-202311004663.6
  • 熊丹荣;张洪超;卢世阳;吕术勤;刘宏喜;曹凯华;王戈飞 - 致真存储(北京)科技有限公司
  • 2023-08-10 - 2023-09-29 - H10B61/00
  • 本发明涉及一种磁存储单元结构及存储器,包括:磁隧道结,包括层叠的反铁磁层、自由层、势垒层与参考层;自旋霍尔层,设置于反铁磁层背向自由层的一侧;介电功能层,采用介电材料,贴合于自旋霍尔层背向反铁磁层的一侧;其中,介电功能层背向自旋霍尔层的一侧用于连接电位,以在数据写入时使介电功能层的顶侧和底侧之间形成电势差和电场。本发明在自旋霍尔层背向反铁磁层的一侧设置介电功能层,在进行数据写入时,该介电功能层产生的电场能够使得介电功能层的晶格发生形变,产生应力,进而传递至反铁磁层与自由层,改变反铁磁层与自由层的各向异性,从而使得自旋霍尔层较容易翻转反铁磁层与自由层,减小了写入电流的需求,降低了数据写入功耗。
  • 具有共用源极线和位线的磁性存储器装置-202010248863.6
  • 吴奕廷;陈彦州;黄正同;王荏滺;杨伯钧;谢咏净;陈健中;李柏昌 - 联华电子股份有限公司
  • 2020-04-01 - 2023-09-22 - H10B61/00
  • 本发明公开一种具有共用源极线和位线的磁性存储器装置。存储器装置,包含一基底、一主动区域,在基底上沿一第一方向延伸、一栅极线,横越主动区域并沿不平行于第一方向的一第二方向延伸、一源极掺杂区,设置在主动区域中和栅极线的第一侧上、一主源极线,沿第一方向延伸、一源极线延伸部,耦接至主源极线并沿第二方向延伸,其中主源极线经由源极线延伸部电连接至源极掺杂区、一漏极掺杂区,设置在主动区域中并且在栅极线与第一侧相反的第二侧上,以及一数据存储元件,电连接到漏极掺杂区。
  • 一种使用接地哑元的MRAM芯片-201711251087.X
  • 戴瑾;陈俊 - 上海磁宇信息科技有限公司
  • 2017-12-01 - 2023-09-22 - H10B61/00
  • 本发明公开了一种使用接地哑元的MRAM芯片,包括MRAM芯片本体和接地哑元,所述接地哑元包括哑元和通孔,所述哑元通过所述通孔接地。所述接地哑元至少有两个,当多个MRAM芯片排列成MRAM芯阵列时,所述接地哑元等间隔的插入所述MRAM芯片阵列空隙中。本发明公开的MRAM芯片通过接地哑元,改善了哑元的沉积蚀刻效果,以此消除天线效应带来的差别,获得更高的工艺质量和更高的良率。
  • 磁性存储单元、存储器及制造方法-202280004096.1
  • 向清懿;叶力 - 华为技术有限公司
  • 2022-01-13 - 2023-09-19 - H10B61/00
  • 本申请实施例提供一种磁性存储单元、存储器及制造方法,该磁性存储单元包括:电极层;设于电极层上的磁性隧道结,磁性隧道结包括沿垂直方向顺序堆叠的自由层、势垒层以及参考层;以及与自由层在水平方向上相邻的应力诱导层。应力诱导层包括杨氏模量不同的第一结构和第二结构。通过将第一结构设于自由层的两侧,将第二结构设于自由层的与第一结构的设置方向垂直的两侧,来提供磁性存储单元的磁各向异性,能在降低自由层尺寸的同时,维持磁性存储单元的热稳定性和数据保持能力,实现大幅降低磁性存储单元的能耗。
  • 一种存储器及其制作方法-202210213392.4
  • 于志猛;何世坤 - 浙江驰拓科技有限公司
  • 2022-03-04 - 2023-09-15 - H10B61/00
  • 本申请公开了一种存储器及其制作方法,包括在底电路层的上表面同时形成存储阵列区的底电极以及逻辑区的第一顶部接触体;在存储阵列区待处理存储单元层的上表面和逻辑区形成图形化介质层;在图形化介质层的通孔中同时形成硬掩膜层和第二顶部接触体;硬掩膜层对应底电极,第二顶部接触体与第一顶部接触体接触连接;刻蚀待处理存储单元层形成存储单元层,得到存储器。本申请在形成存储阵列区的底电极的同时形成逻辑区的第一顶部接触体,在形成存储阵列区的硬掩膜层的同时形成逻辑区的第二顶部接触体,即逻辑区的顶部接触体分两次制作,且每次制作与存储阵列区中的结构同时完成,简化存储器的制作工艺,同时减少光罩的使用,降低成本。
  • 磁存储器-202310733754.7
  • 范晓飞;郭宗夏;刘宏喜;曹凯华;王戈飞 - 致真存储(北京)科技有限公司
  • 2023-06-20 - 2023-09-15 - H10B61/00
  • 本发明涉及一种磁存储器,包括:MTJ器件,包括第一电极、MTJ层与AFM层,MTJ层设置于第一电极与AFM层之间;第二电极,设置于AFM层背向MTJ层的一侧;加热器,设置于第二电极背向AFM层的一侧,用于对AFM层加热,以使AFM层退磁;其中,在写入模式下,写入电流自第二电极的一端流向另一端。上述磁存储器,将加热器放置在第二电极背向AFM层的一侧,以对AFM层进行加热,能够有效地使AFM层完全退磁,退磁后AFM层的磁化方向由底电极通入写入电流后,产生的SOT效应规定,进而翻转AFM层与自由层间的交换偏置,实现自由层磁矩翻转。AFM层的退磁采用单独的加热器的产热,无需通过增加写入电流的焦耳效应进行AFM层的退磁,因此有效降低了存储芯片的写入功耗。
  • 一种无场翻转SOT-MRAM的制造方法-202310833178.3
  • 孙慧岩;秦颖超;商显涛;卢世阳;刘宏喜;曹凯华;王戈飞 - 致真存储(北京)科技有限公司
  • 2023-07-07 - 2023-09-15 - H10B61/00
  • 本申请实施例涉及磁性存储器技术领域,尤其涉及一种无场翻转SOT‑MRAM的制造方法,具体包括:提供一衬底,在衬底中制作多个导通孔;在衬底的上表面刻蚀导通孔,使导通孔侧壁倾斜;在衬底上沉积SOT层,并进行化学机械抛光;在SOT层上依次沉积自由层、氧化层和固定层,并刻蚀,自由层、氧化层和固定层形成磁隧道结;在多个磁隧道结之间以及多个磁隧道结之上沉积层间电介质层;在层间电介质层中沉积金属电极,得到SOT‑MRAM存储器。通过SOT块角度的设计实现无场翻转,易于制造,确保衬底层面的可加工性;避免了刻蚀过程中对于膜堆全刻蚀带来的损伤,同时MTJ的刻蚀窗口增加;降低了SOT的表面粗糙度,提高了磁隧道结效应。
  • 存储器元件及磁存储器-202310740198.6
  • 商显涛;孙慧岩;熊丹荣;卢世阳;刘宏喜;曹凯华;王戈飞 - 致真存储(北京)科技有限公司
  • 2023-06-21 - 2023-09-12 - H10B61/00
  • 本发明涉及一种存储器元件及磁存储器,存储器元件包括:第一自旋霍尔层;第一磁层,采用绝缘材料,层叠于第一自旋霍尔层的一侧;第二自旋霍尔层,层叠于第一磁层背向第一自旋霍尔层的一侧;第二磁层,层叠于第二自旋霍尔层背向第一磁层的一侧;隧穿层,层叠于第二磁层背向第二自旋霍尔层的一侧;参考层,层叠于隧穿层背向第二磁层的一侧;其中,第一自旋霍尔层与第二自旋霍尔层的第一邻近端导电连接,第二邻近端分别用于接电极引线,邻近端为第一自旋霍尔层与第二自旋霍尔层距离最近的两个端面。本发明将电极引线连接在同一侧,降低了占用面积,提高了器件的集成密度,有助于器件极小尺寸工艺的改进。
  • 磁存储装置-202310122512.4
  • 秋山直纪;吉野健一;泽田和也;赵亨峻;岛野拓也 - 铠侠股份有限公司
  • 2023-02-16 - 2023-09-12 - H10B61/00
  • 实施方式提供特性、可靠性优异的磁存储装置。实施方式的磁存储装置具备多个存储单元,所述多个存储单元各自包括磁阻效应元件和开关元件,所述开关元件设置在所述磁阻效应元件的下层侧且相对于所述磁阻效应元件串联连接,所述开关元件包括下部电极、上部电极以及设置在所述下部电极与所述上部电极之间的开关材料层,所述上部电极包括由第1材料形成的第1部分、和设置在所述第1部分的下层侧且由与所述第1材料不同的第2材料形成的第2部分。
  • 带有局部存储器选择晶体管的后面存储器元件-201880046527.4
  • J·鲁宾;A·库马尔 - 国际商业机器公司
  • 2018-07-18 - 2023-09-12 - H10B61/00
  • 存储器器件包括晶片上的半导体器件。该半导体器件包括栅极结构、第一源极/漏极区域和第二源极/漏极区域。栅极结构在晶片的第一面上。第一源极/漏极区域也在晶片的第一面上,并且与栅极结构的第一端接触。第二源极/漏极区域在晶片的第二面上并延伸到第一面中以与栅极结构的第二端接触。该存储装置还包括在晶片的第二面上的存储器存储元件。存储器存储元件与第二源极/漏极区域接触。
  • 半导体元件及其制作方法-202010235266.X
  • 吴家荣;张翊凡;黄瑞民;蔡雅卉;王裕平 - 联华电子股份有限公司
  • 2020-03-30 - 2023-09-12 - H10B61/00
  • 本发明公开一种制作半导体元件的方法。首先提供一基底,该基底包含一逻辑区以及一磁阻式随机存取存储器(magnetoresistive random access memory,MRAM)区域,然后形成一磁隧道结(magnetic tunneling junction,MTJ)于MRAM区域上,形成一金属内连线于MTJ上,形成一介电层于金属内连线上,图案化介电层以形成多个开口,最后再形成阻挡层于被图案化的介电层以及金属内连线上并填满该等开口。
  • 磁性随机存取存储器结构-202011414106.8
  • 朱中良;王裕平;陈昱瑞 - 联华电子股份有限公司
  • 2018-07-19 - 2023-09-12 - H10B61/00
  • 本发明公开一种磁性随机存取存储器(magnetic random access memory,MRAM)结构,包含一晶体管,包含有一栅极、一源极以及一漏极,一磁性隧穿介面(magnetic tunnel junction,MTJ)元件,至少包含有一自由层、一绝缘层以及一固定层,其中该绝缘层位于该自由层以及该固定层之间,该自由层位于该绝缘层之上,其中该MTJ元件的该自由层与一位线(bit line,BL)电连接,该MTJ元件的该固定层与该晶体管的该源极电连接,该晶体管的该漏极电连接一感测线(sense line,SL),以及一第一导电通孔(via),直接接触该MTJ元件,其中该第一导电通孔的材质包含钨。
  • 存储器件及包括其的电子设备-201910902924.3
  • 姜大建;康铉石;安德来;吴在根;周元基;蔡洙振 - 爱思开海力士有限公司
  • 2019-09-24 - 2023-09-08 - H10B61/00
  • 本申请提供了一种存储器件及包括其的电子设备。存储器件包括:第一存储单元,其被设置在第一导电线和第二导电线的交叉点处,所述第一导电线和所述第二导电线分别在第一方向和第二方向上延伸;第二存储单元,其在第一方向上与第一存储单元间隔开第一距离;第三存储单元,其在第二方向上与第一存储单元间隔开第二距离;第一绝缘图案,其被设置在第一存储单元与第二存储单元之间;以及第二绝缘图案,其被设置在第一存储单元与第三存储单元之间。第二绝缘图案具有比第一绝缘图案低的导热率。
专利分类
×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

400-8765-105周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top