[发明专利]一种用于硅片精密抛光的磨抛轮及其制备方法在审

专利信息
申请号: 202211187924.8 申请日: 2022-09-28
公开(公告)号: CN115556011A 公开(公告)日: 2023-01-03
发明(设计)人: 苗昆鹏;丁玉龙;赵延军;秦凤鸣;魏莹 申请(专利权)人: 郑州磨料磨具磨削研究所有限公司
主分类号: B24D3/28 分类号: B24D3/28;B24D18/00
代理公司: 郑州联科专利事务所(普通合伙) 41104 代理人: 杨海霞
地址: 450001 河*** 国省代码: 河南;41
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摘要: 发明涉及一种用于硅片精密抛光的磨抛轮,其由毡基体、磨料和树脂结合剂三部分组成;以体积百分比计,毡基体50%~95%,磨料5%~50%;树脂结合剂为毡基体和磨料总质量的1%~5%。将该磨抛轮用于硅片的抛光,可以提高硅片表面质量,减少硅片的表面损伤,且耗时短,成本低,抛光过程中无需添加研磨液或抛光液,绿色环保。
搜索关键词: 一种 用于 硅片 精密 抛光 磨抛轮 及其 制备 方法
【主权项】:
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