[发明专利]具有窗口的抛光垫及其制造方法在审
| 申请号： | 202210473798.6 | 申请日： | 2018-08-03 |
| 公开（公告）号： | CN114670118A | 公开（公告）日： | 2022-06-28 |
| 发明（设计）人： | 傅博诣;S·嘎纳帕西亚潘;D·莱德菲尔德;R·巴贾杰;A·乔卡里汉;D·J·本韦格努;M·D·科尔内霍;M·山村;N·B·帕蒂班德拉;A·沃兰 | 申请（专利权）人： | 应用材料公司 |
| 主分类号： | B24B37/013 | 分类号： | B24B37/013;B24B37/20;B24B37/24;B24B37/26 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 付尉琳;侯颖媖 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本公开的实施例提供包括至少一终点检测(EPD)窗口设置穿过抛光垫材料的抛光垫及其形成方法。在一实施例中，形成抛光垫的方法包括通过分配第一前驱物组成物和窗口前驱物组成物，以形成抛光垫的第一层，第一层包含第一抛光垫元件和窗口特征中的每一者的至少部分，及使置于第一层内的所分配的第一前驱物组成物与所分配的窗口前驱物组成物部分硬化。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 窗口 抛光 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
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- 2019-03-27 - 2021-06-15 - B24B37/013
- 本发明公开了一种石英晶片谐振频率的整盘频率补偿和整盘散差统计方法，包括以下步骤：流程开始，判断本次扫频采样是否完成，若已完成，进入晶片区分和数据处理流程，完成后，进入连续圈转速是否稳定判断流程；若未完成，进入连续圈转速是否稳定判断流程；判定连续圈转速是否稳定，若是，进一步判定本圈内本段定时时间是否到；若否，进行圈数进入判定；判定本圈内本段定时时间是否到，若是，进行本圈内本段定时时间到数据处理流程；若否，进行圈数进入判定；判定是否圈数进入，若是，进入转速稳定判断流程和本圈数据结束处理流程，然后进入实时频率处理流程；若否，直接进入实时频率处理流程；判定是否需要停机，若是，关停研磨机，流程结束。
- 一种终点检测方法、系统及化学机械抛光装置-201910335847.8
- 赵德文;路新春 - 清华大学;华海清科股份有限公司
- 2019-04-24 - 2021-03-16 - B24B37/013
- 本发明适用于化学机械抛光技术领域，提供了一种终点检测方法、系统及化学机械抛光装置，其中方法包括在晶圆抛光期间：获取抛光盘的运行参数；消除所述运行参数的波动影响以得到归一化的摩擦因子；根据所述摩擦因子确定抛光终点。本发明提高了在化学机械抛光过程中进行终点检测的准确率，有效地保证了抛光质量。
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